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公开(公告)号：CN113303032A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080009683.0
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为：确定施加到贮存器中的目标材料的压力的指示，以及基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动。而且，公开了操作供应系统的技术。例如，确定供应系统的一个或多个特性，并且基于一个或多个确定的特性来控制机械耦合到供应系统的致动器，使得供应系统的孔在操作使用期间保持基本没有材料损坏。
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公开(公告)号：CN111587612A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201980008103.3
申请日：2019-01-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 提供了一种用于控制被用于生成EUV辐射的液滴(102a，b)的形成的装置和方法，该装置和方法包括产生指向照射区域的激光束的部件和液滴源。液滴源(92)包括离开喷嘴(98)的流体和具有电致动元件(104)的子系统，该电致动元件(104)在流体(96)中产生干扰。液滴源产生流(100)，该流(100)分解成液滴，当液滴朝着照射区域前进时，液滴进而聚结成更大的液滴。电致动元件由控制液滴生成/聚结过程的混合波形来驱动。还公开了一种确定喷嘴的传递函数的方法。
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公开(公告)号：CN113303032B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202080009683.0
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为：确定施加到贮存器中的目标材料的压力的指示，以及基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动。而且，公开了操作供应系统的技术。例如，确定供应系统的一个或多个特性，并且基于一个或多个确定的特性来控制机械耦合到供应系统的致动器，使得供应系统的孔在操作使用期间保持基本没有材料损坏。
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公开(公告)号：CN113874645B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202080038363.8
申请日：2020-05-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种流体控制设备(100)，包括：结构(120)，限定阀腔、第一流体端口(135)、第二流体端口(140)和第三流体端口(145)，第三流体端口(145)被配置为流体地联接到主体的气密内部(105)；以及柱塞阀(130)，位于阀腔内并且被配置为在第一模式与第二模式之间移动，同时维持主体的气密内部。在第一模式下，柱塞阀打开，使得第一流体流动路径在气密内部与第一流体端口之间打开，并且流体在第一流体端口与气密内部之间自由通过。在第二模式下，柱塞阀关闭，使得第一流体端口与气密内部被柱塞阀阻挡开，并且第二流体流动路径在气密内部与第二流体端口之间打开。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114846908A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080088281.4
申请日：2020-12-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种方法包括使用喷嘴来喷射材料的初始微滴。该方法包括使用机电元件将压力施加在喷嘴上。该方法包括使用由波形生成器生成的电信号来控制喷嘴上所施加的压力。电信号包括第一周期性波形和第二周期性波形。该方法包括基于第一和第二周期性波形和拖曳力来聚结初始微滴，以生成经聚结微滴。该方法包括使用检测器生成检测信号，检测信号对应于经聚结微滴在检测器处的跨越之间的时间间隔。该方法包括使用处理器确定时间间隔中的至少第一时间间隔和第二时间间隔。
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公开(公告)号：CN111587612B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201980008103.3
申请日：2019-01-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 提供了一种用于控制被用于生成EUV辐射的液滴(102a，b)的形成的装置和方法，该装置和方法包括产生指向照射区域的激光束的部件和液滴源。液滴源(92)包括离开喷嘴(98)的流体和具有电致动元件(104)的子系统，该电致动元件(104)在流体(96)中产生干扰。液滴源产生流(100)，该流(100)分解成液滴，当液滴朝着照射区域前进时，液滴进而聚结成更大的液滴。电致动元件由控制液滴生成/聚结过程的混合波形来驱动。还公开了一种确定喷嘴的传递函数的方法。
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公开(公告)号：CN114342563A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080061835.1
申请日：2020-09-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种装置包括：管；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及具有第一支撑部分和第二支撑部分的支撑结构。第一本体壁在第一方向上延伸，第二本体壁在不同于第一方向的第二方向上延伸，管的第一部分穿过第二本体壁中的开口，第一支撑部分被配置为附接到第一本体壁，并且管的第二部分被配置为：当第一支撑部分附接到第一本体壁时，穿过第二支撑部分。管的内部和本体的内部被配置为接纳熔融靶材料，并且靶材料在处于等离子体状态时发射极紫外(EUV)光。
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公开(公告)号：CN111919516A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022585.8
申请日：2019-03-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H05G2/00
Abstract: 一种控制用于生成EUV辐射的液滴的形成的装置和方法，该装置和方法包括产生被引导至照射区域的激光束和液滴源的布置。液滴源包括离开喷嘴的流体和具有可电致动元件的子系统，该可电致动元件在流体中产生扰动。液滴源产生束流，该束流分裂成液滴，当液滴朝向照射区域行进时，这些液滴又聚结成较大液滴。通过在束流中的液滴尚未完全聚结的点处观察束流来控制该过程。
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公开(公告)号：CN120035022A
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202510172863.5
申请日：2020-01-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于极紫外(EUV)光源的目标递送系统。该系统包括导管，该导管包括孔，该孔被配置为流体耦合到贮存器；致动器，该致动器被配置为机械耦合到导管，使得致动器的运动被传递到导管；以及控制系统，该控制系统耦合到致动器，该控制系统被配置为：确定施加到贮存器中的目标材料的压力的指示，以及基于所确定的所施加的压力的指示来控制致动器的运动。而且，公开了操作供应系统的技术。例如，确定供应系统的一个或多个特性，并且基于一个或多个确定的特性来控制机械耦合到供应系统的致动器，使得供应系统的孔在操作使用期间保持基本没有材料损坏。
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