公开(公告)号：CN1510169A

公开(公告)日：2004-07-07

申请号：CN200310118526.1

申请日：2003-12-12

Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社

Inventor： 金圣秀 ,  崔容硕 ,  曹奎哲 ,  蔡基成 ,  权五南 ,  李坰默 ,  黄龙燮 ,  李承庸

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/28 ,  H01L21/306 ,  H01L21/44 ,  H01L21/465

CPC classification number: C09K13/08 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/32134

Abstract: 一种用于多层铜和钼的蚀刻溶液，包含：约5％重量至约30％重量的过氧化氢；约0.5％重量至约5％重量的有机酸；约0.2％重量至约5％重量的磷酸盐；约0.2％重量至约5％重量的含氮的第一添加剂；约0.2％重量至约5％重量的含氮的第二添加剂；约0.01％重量至约1.0％重量的含氟化合物；以及使蚀刻溶液的总量为100％的去离子水。