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公开(公告)号：CN110609437A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910904266.1
申请日：2014-09-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料，所述光掩模坯料在对含有硅的无机膜实施硅烷化处理后形成抗蚀膜，并提供一种光掩模坯料及其制造方法，其能够抑制在显影后因抗蚀剂残渣等所引起的缺陷的产生。为了解决上述问题，提供一种光掩膜坯料的制造方法，其是制造以下的光掩模坯料的方法，所述光掩模坯料在透明基板上至少具有含有硅的含硅无机膜，并在该含硅无机膜上具有抗蚀膜，所述光掩模坯料的制造方法是在形成前述含硅无机膜后，进行硅烷化处理，然后利用涂布来形成前述抗蚀膜，所述含硅无机膜的与前述抗蚀膜接触的表面中的氧浓度为55原子％以上且75原子％以下。
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公开(公告)号：CN106054530B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201610227786.X
申请日：2016-04-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 化学增幅型负型抗蚀剂组合物定义为包括(A)具有阴离子基团的鎓盐，该阴离子基团为稠环结构的含氮羧酸根，(B)基础树脂，和(C)交联剂。该抗蚀剂组合物在曝光步骤过程中对于控制酸扩散有效，在图案形成过程中显示非常高的分辨率，并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN110526802A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910437381.2
申请日：2019-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C33/26 , C07C29/00 , C07C67/08 , C07C69/533 , C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , C08F220/30 , G03F7/038
Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、负型抗蚀剂组合物、光掩模坯和抗蚀剂图案形成方法。包含含有在分子中具有至少两个酸可消除的羟基或烷氧基重复单元的聚合物的负型抗蚀剂组合物对于形成具有高分辨率和最小的LER同时使缺陷最小化的抗蚀剂图案有效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106432574B
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201610633731.9
申请日：2016-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/20
CPC classification number: C08F216/10 , C08F220/38 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/093 , G03F7/2059 , G03F7/322 , C08F216/02 , C08F212/32 , C08F216/1416 , C08F2220/382
Abstract: 本发明的课题在于提供一种高分子化合物，其适合作为能够形成抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物的基础树脂，所述抗蚀剂膜能够形成具有极高的析像性、边缘粗糙度小、矩形度优异的图案。为了解决上述课题，提供一种高分子化合物，其特征在于，含有由下述通式(1c)所示的重复单元、以及选自由下述通式(2)所示的重复单元及由下述通式(3)所示的重复单元中的1种以上的重复单元；式(1c)中，Mb+表示由下述通式(a)所示的锍阳离子或由下述通式(b)所示的碘鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN108255015A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201711458964.0
申请日：2017-12-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C323/20 , C07C2601/16 , C08F212/14 , C08F2800/10 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/2053 , G03F7/2059 , G03F7/322 , G03F7/327
Abstract: 本发明涉及化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的锍化合物和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成过程中显示出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN106432574A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610633731.9
申请日：2016-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/20
CPC classification number: C08F216/10 , C08F220/38 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/093 , G03F7/2059 , G03F7/322 , C08F216/02 , C08F212/32 , C08F216/1416 , C08F2220/382 , C08F212/14 , G03F7/2004 , C08F232/08
Abstract: 本发明的课题在于提供一种高分子化合物，其适合作为能够形成抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物的基础树脂，所述抗蚀剂膜能够形成具有极高的析像性、边缘粗糙度小、矩形度优异的图案。为了解决上述课题，提供一种高分子化合物，其特征在于，含有由下述通式(1c)所示的重复单元、以及选自由下述通式(2)所示的重复单元及由下述通式(3)所示的重复单元中的1种以上的重复单元； 式(1c)中，Mb+表示由下述通式(a)所示的锍阳离子或由下述通式(b)所示的碘鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN102221783B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201110122793.0
申请日：2011-02-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，该组合物包括具有其中键合的胺结构的聚合物PB与包括具有用酸不稳定保护基保护的酸性侧链的重复单元和在侧链上具有酸产生部分的重复单元的聚合物PA。
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