Abstract:
Es wird eine Anzeigevorrichtung angegeben, mit - einer Vielzahl von Bildpunkten (1), - zumindest einem Anschlussträger (2), und - einer Vielzahl von anorganischen Leuchtdiodenchips (3), wobei - der Anschlussträger (2) eine Vielzahl von Schaltern (21) umfasst, - jeder Bildpunkt (1) zumindest einen Leuchtdiodenchip (3) enthält, - jeder Leuchtdiodenchip (3) am Anschlussträger (2) mechanisch befestigt und elektrisch angeschlossen ist, - jeder Schalter (21) zur Ansteuerung zumindest eines Leuchtdiodenchips (3) eingerichtet ist, und - die Leuchtdiodenchips (3) bildgebende Elemente der Anzeigevorrichtung sind.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips angegeben, mit den Schritten: - Bereitstellen einer n-leitenden Schicht (2), - Anordnen einer p-leitenden Schicht (4) auf der n-leitenden Schicht (2), - Anordnen einer Metallschichtenfolge (5) auf der p-leitenden Schicht (4), - Anordnen einer Maske (6) an der der p-leitenden Schicht (4) abgewandten Seite der Metallschichtenfolge (5), - stellenweises Abtragen der Metallschichtenfolge (5) und Freilegen der p-leitenden Schicht (4) unter Verwendung der Maske (6), und - stellenweises Neutralisieren oder Entfernen der freigelegten Bereiche (4a) der p-leitenden Schicht (4) bis zur n-leitenden Schicht (2) unter Verwendung der Maske (6), wobei - die Metallschichtenfolge (5) zumindest eine Spiegelschicht (51) und eine Sperrschicht (52) umfasst, und - die Spiegelschicht (52) der Metallschichtenfolge (5) der p- leitenden Schicht (4) zugewandt ist.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Strukturierung eines Strahlungsauskoppelelements (1) angegeben, mit den folgenden Schritten: Bereitstellen eines strahlungsdurchlässigen Strahlungsauskoppelelements (1), das mit einem Kunststoffmaterial, einem Glas und/oder einem keramischen Material gebildet ist; Strukturieren einer Außenfläche (11) des Strahlungsauskoppelelements (1), wobei zumindest mittelbar eine durch Ätzen erzeugte Oberflächenstruktur (33) eines Halbleiterkristalls (3) auf die Außenfläche (11) des Strahlungsauskoppelelements (1) übertragen wird.
Abstract:
Ein optoelektronischer Halbleiterchip umfasst einen ersten Halbleiterfunktionsbereich (21) mit einem ersten Terminal (211) und einem zweiten Terminal (212), sowie eine Kontaktstruktur (4) zur elektrischen Kontaktierung des optoelektronischen Halbleiterchips, welche elektrisch leitend mit dem ersten Halbleiterfunktionsbereich (21) verbunden ist. Die Kontaktstruktur (4) weist eine auftrennbare Leiterstruktur (41, 71, 42) auf, wobei - bei nicht aufgetrennter Leiterstruktur ein Betriebsstromspfad über das erste Terminal des ersten Halbleiterfunktionsbereichs und das zweite Terminal festgelegt ist, der bei aufgetrennter Leiterstruktur unterbrochen ist, oder - bei aufgetrennter Leiterstruktur (41, 71, 42) ein Betriebsstrompfad über das erste Terminal (211) des ersten Halbleiterfunktionsbereichs (21) und das zweite Terminal (212) festgelegt ist, wobei bei nicht aufgetrennter Leiterstruktur (41, 71, 42) die Leiterstruktur (41, 71, 42) das erste Terminal (211) mit dem zweiten Terminal (212) verbindet und den ersten Halbleiterfunktionsbereich (21) kurzschließt.
Abstract:
Es ist eine optoelektronische Projektionsvorrichtung vorgesehen, die im Betrieb ein vorgegebenes Bild (10) erzeugt. Die Projektionsvorrichtung umfasst einen Halbleiterkörper (1), der eine zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung geeignete aktive Schicht (101) und eine Strahlungsaustrittsseite (102) aufweist. Der Halbleiterkörper (1) ist ein Bild gebendes Element der Projektionsvorrichtung. Zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterkörpers (1) sind eine erste Kontaktschicht (2) und eine zweite Kontaktschicht (3) an einer der Strahlungsaustrittsseite (102) gegenüberliegenden Rückseite (103) des Halbleiterkörpers (1) angeordnet und mittels einer Trennschicht (4) elektrisch voneinander isoliert.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauteil umfasst eine organische Schichtenfolge (1), die im Betrieb eine elektromagnetische Strahlung (15) mit einem ersten Wellenlängenspektrum abstrahlt sowie eine strukturierte Schicht (2), die der organischen Schichtenfolge (1) im Strahlengang der von der organischen Schichtenfolge (1) abgestrahlten elektromagnetischen Strahlung (15) nachgeordnet ist und erste und zweite Bereiche (2A, 2B) aufweist. Dabei weisen die ersten Bereiche (2A) jeweils eine Wellenlängenkonversionsschicht (3) auf, die eingerichtet ist, zumindest teilweise elektromagnetische Strahlung (15) mit dem ersten Wellenlängenspektrum in eine elektromagnetische Strahlung (16) mit einem zweiten Wellenlängenspektrum umzuwandeln. Des Weiteren weisen die zweiten Bereiche (2B) jeweils eine Filterschicht (4) auf, die für eine elektromagnetische Strahlung mit einem dritten Wellenlängenspektrum, das zumindest einem Teil des zweiten Wellenlängenspektrums entspricht, undurchlässig ist.
Abstract:
The invention relates, in one embodiment, to a method for producing light-emitting semiconductor components, which method comprises the following steps: A) providing a glass capillary (2) composed of a glass material, B) filling the glass capillary (2) with luminescent substances (3), C) sealing the glass capillary (2) in a sealing region (22) by melting the glass material such that the glass capillary (2) is closed by the glass material itself, and D) attaching the sealed glass capillary (2) to a light-emitting diode chip (4) such that the radiation emitted by the light-emitting diode chip (4) is converted into visible light by the luminescent substances (3) during operation, wherein in step C) a distance between the sealing region (22) and the luminescent substances (3) is at most 7 mm, and wherein the different luminescent substances (3) are separated from each other along a longitudinal axis (L) of the glass capillary (2).