公开(公告)号：EP0854116A2

公开(公告)日：1998-07-22

申请号：EP98105181.6

申请日：1996-02-27

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： The designation of the inventor has not yet been filed

IPC: C03C3/06 ,  C03C14/00 ,  C03B20/00 ,  C03B32/02

CPC classification number: C03C14/004 ,  C03B20/00 ,  C03B32/02 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2214/20 ,  C03C2214/30

Abstract: An object of the present invention is to provide silica glass having high purity, high heat resistance, large coefficient of thermal expansion, and low light transmittanc. Another object of the present invention is to provide a silica glass jig with a vapor-deposited film thereon. Therfore Cristobalite-contained silica glass wherein α-cristobalite in the shape of a small sphere or a small, round-edged or sharp-edged, three-dimensional region is dispersed in the silica glass matrix, the diameter of each α-cristobalite sphere or region is in the range of 0.1 µm to 1000 µm, a content of the α-cristobalite is at least 10 wt %, and small-sized independent bubbles which are additionally dispersed in the silica glass matrix. The silica glass jig is made of the cristobalite-contained silica glass and the surface of the jig is covered with a vapor-deposited thin film which has a property of being resistant to plasma etching, and which is made of a material of almost the same coefficient of thermal expansion as that of the silica glass. The silica glass jig has no chance to generate particles therefrom and thereby to contaminate a silicon wafer.

Abstract translation: 本发明的目的是提供纯度高，耐热性高，热膨胀系数大，透光率低的石英玻璃。 本发明的另一个目的是提供一种在其上具有气相沉积膜的石英玻璃夹具。 具有方解石的二氧化硅玻璃，其中将小球形或小圆形边缘或锐边三维区域形成的α-方英石分散在二氧化硅玻璃基质中，每个α-方英石球体的直径或 区域在0.1〜1000μm的范围内，α-方英石的含量为10重量％以上，另外分散在二氧化硅玻璃基体中的小尺寸的独立气泡。 石英玻璃夹具由含方石英的二氧化硅玻璃制成，夹具的表面被具有耐等离子体蚀刻性的气相沉积薄膜覆盖，并由几乎相同的材料制成 热膨胀系数为石英玻璃的热膨胀系数。 二氧化硅玻璃夹具不会产生颗粒，从而污染硅晶片。

公开(公告)号：EP0647600B1

公开(公告)日：1998-01-21

申请号：EP94115943.6

申请日：1994-10-10

Applicant: Tosoh Corporation ,  NIPPON SILICA GLASS CO., LTD.,

Inventor： Kamo, Kenji ,  Ono, Kouichi ,  Tsukuma, Koji ,  Nagata, Hiroya ,  Abe, Emiko ,  Kikuchi, Yoshikazu ,  Funakoshi, Yoshiharu

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/50 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/09 ,  Y10T428/24661 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/2975

公开(公告)号：EP0728709A1

公开(公告)日：1996-08-28

申请号：EP95102531.1

申请日：1995-02-22

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： Sato, Tatsuhiro ,  Fujinoki, Akira ,  Inaki, Kyoichi ,  Yoshida, Nobumasa ,  Yokota, Toru

IPC: C03C4/00 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00 ,  C03B19/09

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/09 ,  C03C11/00 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10

Abstract: Opaque silica glass having a density of 2.0 to 2.18 g/cm 3 , sodium and potassium elements concentrations in the silica glass of each 0.5 ppm or less and an OH group concentration of 30 ppm or less, and containing bubbles which are independent bubbles having the following physical values:

(1) a bubble diameter of 300 µm or less, and
(2) a bubble density of 100,000 to 1,000,000 bubbles/cm 3 , and
   a production process for opaque silica glass, comprising: filling quartz raw material grain having a particle size of 10 to 350 µm in a heat resistant mold,
   heating it in a non-oxidizing atmosphere from a room temperature up to a temperature lower by 50 to 150°C than a temperature at which the above raw material grain is melted at a temperature-raising speed not exceeding 50°C/minute, then, slowly heating it up to a temperature higher by 10 to 80°C than the temperature at which the quartz raw material grain is melted at the speed of 10°C/minute or less, and
   cooling after maintaining at the above temperature.

Abstract translation: 密度为2.0〜2.18g / cm 3的不透明二氧化硅玻璃，二氧化硅玻璃中的钠和钾元素浓度为0.5ppm以下，OH基浓度为30ppm以下，并且含有独立气泡的气泡 具有以下物理值：（1）气泡直径为300μm以下，（2）泡孔密度为100,000〜1,000,000个气泡/ cm 3，以及不透明石英玻璃的制造方法，其特征在于，包括： 在耐热模具中具有10〜350μm的粒径的原料颗粒，在非氧化性气氛中从室温加热到比上述原料的温度低50〜150℃的温度 材料颗粒以不超过50℃/分钟的升温速度熔化，然后缓慢加热至比石英原料颗粒熔化温度高10至80℃的温度，速度为 10℃/分钟以下，mai后冷却 在上述温度下保持。

公开(公告)号：EP0647600A1

公开(公告)日：1995-04-12

申请号：EP94115943.6

申请日：1994-10-10

Applicant: Tosoh Corporation ,  NIPPON SILICA GLASS CO., LTD.,

Inventor： Kamo, Kenji ,  Ono, Kouichi ,  Tsukuma, Koji ,  Nagata, Hiroya ,  Abe, Emiko ,  Kikuchi, Yoshikazu ,  Funakoshi, Yoshiharu

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/50 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/09 ,  Y10T428/24661 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/2975

Abstract: The high-purity, opaque quartz glass containing 3 x 10⁶ - 9 x 10⁶ of closed cells having an average size of 20-40 µm per 1 cm³, a ratio of closed cells having sizes of 100 µm or more to the whole of cells being 1% or less, thereby showing 5% or less of linear transmittance for near infrared rays (λ=900 nm) at a thickness of 1 mm is produced by compacting amorphous silica powder having an average particle size of 0.5-10 µm, in which each of impurities selected from Li, Na, K, Fe, Ti and Al is 1 ppm or less, if any, and sintering the resultant green body at 1730-1850°C.

Abstract translation: 含有3×10 <6>所述的高纯度的，不透明的石英玻璃 - 9×10 <6>具有上每1cm的20-40微米的平均尺寸的闭孔<3>中，具有的尺寸闭孔的比率 100微米或更多的全细胞为1％或更小，从而显示出5％的线性透射率或更小为近红外线（波长= 900纳米）的厚度为1mm的由压实具有无定形二氧化硅粉末制 的0.5-10微米，其中，每个选自Li，Na，K，铁，钛和铝中选出的杂质为1ppm或更小，如果有的话，并在1830至50年℃下烧结所得生​​坯平均粒径

公开(公告)号：WO2018035286A1

公开(公告)日：2018-02-22

申请号：PCT/US2017/047282

申请日：2017-08-17

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BHAGAVATULA, Venkata Adiseshaiah ,  HAWTOF, Daniel Warren ,  LI, Xinghua ,  MERZ, Gary Edward ,  STONE, John, III

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  B23K26/3584 ,  B23K2103/54 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/06 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0092 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/3488 ,  C03C2201/80

Abstract: A system and method for sintering a thin, high purity fused silica glass sheet having a thickness of 500 μm or less, includes a step of rastering a beam of a laser across a sheet of high purity fused silica soot; wherein a pattern of the rastering includes tightly spacing target locations on the sheet such that the laser sinters the soot and simultaneously forms tiny notches on a first major surface of the sheet when viewed in cross-section, wherein the tiny notches are crenellated such that at least some of the notches have generally flat bottom surfaces and at least some respective adjoining caps have generally plateau top surfaces offset from the bottom surfaces by steeply-angled sidewalls.

Abstract translation: 用于烧结具有500μm或更小的厚度的薄的高纯度熔凝硅石玻璃片的系统和方法包括对激光束进行光栅扫描穿过高纯度熔凝硅石片的步骤 煤烟; 其中所述光栅的图案包括在所述片材上紧密地间隔目标位置，使得当在横截面中观察时所述激光烧结所述烟灰且同时在所述片材的第一主表面上形成微小凹口，其中所述微小凹口被锯齿化，使得在 至少一些凹口具有大致平坦的底部表面，并且至少一些相应的邻接帽具有大致平顶的顶表面，该平顶表面通过陡峭的侧壁偏离底表面。

公开(公告)号：WO2017137618A1

公开(公告)日：2017-08-17

申请号：PCT/EP2017/053126

申请日：2017-02-13

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： SCHEICH, Gerrit ,  NUERNBERG, Frank ,  GOETZENDORFER, Andreas ,  TSCHOLITSCH, Nadine ,  BERNHARD, Franz ,  KLETT, Ursula ,  DONELON, Matthew

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/54

Abstract: A known diffuser material of synthetically produced, pore-containing quartz glass has a chemical purity of at least 99.9% SiO 2 , a cristobalite content of not more than 1 %, and a density in the range of 2.0 to 2.18 g/cm 3 . Starting therefrom, to indicate a diffuser material which is improved with respect to diffuse reflectivity with Lambertian behavior over a wide wavelength range, high material homogeneity and UV radiation resistance, it is suggested according to the invention that the quartz glass has a hydroxyl group content in the range of at least 200 wt. ppm and that at least 80% of the pores have a maximum pore dimension of less than 20 µm.

Abstract translation: 已知的合成制造的含孔石英玻璃的漫射体材料具有至少99.9％SiO 2的化学纯度，不超过1％的方石英含量， 密度在2.0-2.18g / cm 3范围内。 从这里开始，为了表明漫反射率相对于宽波长范围内的朗伯行为，高材料均匀性和抗UV辐射性得到改善的漫射体材料，根据本发明建议，石英玻璃的羟基含量在 至少200wt。 ppm，并且至少80％的孔具有小于20微米的最大孔隙尺寸

公开(公告)号：WO2014083162A2

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：PCT/EP2013075105

申请日：2013-11-29

Applicant: COMMISSARIAT L ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES ,  UNIVERSITÉ MONTPELLIER 2 SCIENCES ET TECH ,  CENTRE NAT RECH SCIENT

Inventor： GUILLOT MARIE ,  GOETTMANN FRÉDÉRIC ,  DELCHET CAROLE ,  EL MOURABIT SABAH ,  GRANDJEAN AGNÈS

IPC: B01J20/10 ,  B01J20/28 ,  B01J20/30 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00 ,  C03C23/00 ,  C03C25/66

CPC classification number: C03C23/00 ,  B01D15/26 ,  B01J20/0229 ,  B01J20/103 ,  B01J20/28057 ,  B01J20/28083 ,  B01J20/28085 ,  B01J20/28092 ,  B01J20/3064 ,  B01J20/3071 ,  B01J20/3078 ,  B01J20/3204 ,  B01J20/3219 ,  B01J20/3257 ,  B01J20/3293 ,  B01J20/3295 ,  C02F1/281 ,  C02F1/288 ,  C02F2101/006 ,  C02F2101/166 ,  C02F2101/20 ,  C02F2101/305 ,  C02F2101/306 ,  C02F2101/322 ,  C02F2101/327 ,  C02F2101/345 ,  C02F2101/36 ,  C02F2101/38 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00 ,  C03C15/00 ,  C03C17/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/80 ,  C03C2218/31

Abstract: The present invention concerns a method for preparing a glass having bimodal macroporous and mesoporous porosity, consisting of subjecting a macroporous glass to pseudomorphic transformation. The present invention also concerns said glass prepared in this way and optionally functionalised, as well as the different uses thereof.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备具有双峰大孔和中孔孔隙率的玻璃的方法，该方法由将大孔玻璃进行假晶相转变组成。 本发明还涉及以这种方式制备并且任选地官能化的所述玻璃及其不同用途。

公开(公告)号：WO2009041685A1

公开(公告)日：2009-04-02

申请号：PCT/JP2008/067653

申请日：2008-09-29

Applicant: ジャパンスーパークォーツ株式会社 ,  岸 弘史

Inventor： 岸 弘史

IPC: C30B15/10 ,  C03B20/00 ,  C30B29/06

CPC classification number: C30B15/10 ,  C03C3/06 ,  C03C19/00 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C03C2204/08 ,  C30B35/002 ,  Y10T117/10 ,  Y10T117/1024 ,  Y10T117/1032

Abstract: 　結晶化促進剤を用いずに、使用時の高温下でもルツボの変形を生じ難く、かつ製造が容易な石英ガラスルツボを提供するために、シリコン単結晶の引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、外面層が気泡含有石英ガラス層によって形成されており、内面層が肉眼で気泡が観察されない石英ガラス層によって形成されており、外面層の表面に未溶融ないし半溶融の石英層（半溶融石英層と略称する）を有し、該半溶融石英層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５０μｍ～２００μｍであることを特徴とし、好ましくは、半溶融石英層の層厚が０．５～２．０ｍｍである。

Abstract translation: 提供一种石英玻璃坩埚，其即使在没有结晶促进剂的情况下在高温下使用也容易变形，并且容易制造。 在用于拉硅单晶的石英玻璃坩埚中，外层由含气泡的石英玻璃层形成，内层由未被肉眼观察到的气泡的石英玻璃层形成。 在外层的表面上，形成未熔融或半熔融的石英层（简称为半熔融石英层），半熔融石英层的中心线平均粗糙度（Ra）为50μm〜200μm。 优选地，半熔融石英层的厚度为0.5-2.0mm。

公开(公告)号：WO2008069194A1

公开(公告)日：2008-06-12

申请号：PCT/JP2007/073387

申请日：2007-12-04

Applicant: 信越石英株式会社 ,  佐藤 龍弘 ,  吉田 宜正 ,  折笠 勝英 ,  田中 信

Inventor： 佐藤 龍弘 ,  吉田 宜正 ,  折笠 勝英 ,  田中 信

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03C11/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/80 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/249969

Abstract: 　簡易な方法で、高純度で火炎加工可能であり、大型サイズも製造可能な合成不透明石英ガラスの製造方法及び合成不透明石英ガラスを提供する。 　石英ガラス多孔質体を、０．１５ＭＰａ以上１０００ＭＰａ以下の圧力下、１２００°C以上２０００°C以下の温度にて、加熱焼成する工程を含むようにした合成不透明石英ガラスの製造方法である。前記石英ガラス多孔質体が、珪素化合物を酸水素火炎で加水分解して生成した石英ガラス微粒子を堆積させて作製されたものである。

Abstract translation: 本发明提供了简单且容易地生产包括大型可熔融加工的合成不透明石英玻璃的方法; 和合成不透明石英玻璃。 本发明涉及一种生产合成不透明石英玻璃的方法，该方法包括在1200至2000℃的温度下在0.15至1000MPa的压力下加热和焙烧多孔石英玻璃的步骤。 多孔石英玻璃是通过聚集通过硅氢化合物与氢氧焰的水解形成的石英玻璃微粒而制备的。

公开(公告)号：WO01046079A1

公开(公告)日：2001-06-28

申请号：PCT/EP2000/012687

申请日：2000-12-14

IPC: C03B20/00 ,  C01B33/12 ,  C03B19/00 ,  C03B19/09 ,  C03B19/10 ,  C03C1/02 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C1/026 ,  C03B19/1065 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54

Abstract: The invention relates to a method for the production of opaque quartz glass wherein a blank is made from synthetic SiO2 crystals and heated to form a blank body made of opaque quartz glass at a given vitrification temperature. A method for the production of pure, opaque quartz glass is disclosed wherein said quartz glass has a homogeneous pore distribution and a high density, a high viscosity and a lower tendency to devitrify. According to the invention, the SiO2 crystals are formed from an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles (21; 31) having a specific surface (according to BET) between 1.5 m /g and 40 m /g with a stamping density of at least 0.8 g/cm . SiO2 granulate (21; 31) suitable for use in performing the procedure is characterized in that it is composed of an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles and has a specific surface (according to BET) between 1.5 m /g and 40 m /g in addition to a stamping density of at least 0.6 g/cm .

Abstract translation: 在用于制造不透明石英玻璃公知的方法，成型是由合成的SiO 2颗粒尺寸，并加热在玻璃化温度以形成不透明石英玻璃制成的成型体的形成。 要指定此基础上，对于纯的，不透明的石英玻璃，其具有高密度，高粘度和低失透倾向的均匀的孔分布的制备方法，根据本发明中提出，以SiO 2的至少部分多孔附聚物的SiO 2颗粒一 形成的初级粒子的SiO 2颗粒（21; 31），其具有比表面积（按照BET）从1.5米<2> /克至40μm<2> /用至少0.8克/厘米<3的夯实密度克 使用>。 一种合适的用于该方法的实施的SiO 2颗粒（21; 31）的特征在于，它是由SiO 2一次粒子的至少部分多孔附聚物形成，并且其具有比表面积（按照BET）从1.5米<2 > /克至40μm<2> / g，并且具有厘米<用至少为0.6g / cc的夯实密度3>。