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公开(公告)号：CN104995557A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480008162.8
申请日：2014-02-04
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B25/02 , C03B32/00 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958
Abstract: 为了提供用于EUV-光刻中的镜面基材的由TiO2-SiO2玻璃构成的坯料，其中对于优化热膨胀系数分布和因此过零温度TZC分布的调适需求是小的，在920℃至970℃的假想温度Tf平均值下，所述TiO2-SiO2玻璃具有其过零温度TZC对于假想温度Tf的依赖性，其以微商dTzc/dTf表示小于0.3。
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公开(公告)号：CN101959812A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980106891.6
申请日：2009-02-27
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03B19/1453 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C3/076 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , G03F1/24 , G03F7/70958 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供了一种TiO2-SiO2玻璃，其中当用作EUVL用曝光工具的光学部件时，在使用高EUV能量的光辐照时热膨胀系数基本为零，并且通过从玻璃中释出氢能够长时间保持多层的物理性能。本发明涉及一种含TiO2的石英玻璃，所述石英玻璃的假想温度为1100℃以下，氢分子浓度为1×1016分子/cm3以上，并且线性热膨胀系数为0ppb/℃时的温度处于40至110℃的范围内。
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公开(公告)号：CN101356125A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200680050482.5
申请日：2006-11-01
Applicant: 康宁股份有限公司
CPC classification number: C03B19/12 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03B2201/23 , C03B2201/32 , C03B2201/42 , C03B2201/58 , C03B2207/30 , C03B2207/38
Abstract: 本发明揭示了OD－掺杂的合成二氧化硅玻璃，它能够用于在约低于300纳米下进行光刻的光学元件中。发现OD－掺杂的合成二氧化硅玻璃的偏振引发的双折射值显著低于具有相同OH浓度的非OD－掺杂的二氧化硅玻璃。本文还揭示了制备OD－掺杂的合成二氧化硅玻璃的方法，包含所述玻璃的光学部件，以及包含所述光学部件的光刻系统。所述玻璃在大约193纳米具有特别低的偏振引发的双折射，因此特别适用于浸没光刻系统。
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公开(公告)号：CN103570225B
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201310466661.9
申请日：2013-07-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03C3/04 , B29C33/38 , C03B19/1453 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , Y02P40/57
Abstract: 通过使提供硅的原料在氢氧焰中进行火焰水解来制备二氧化硅微细颗粒，将所述二氧化硅微细颗粒沉积在旋转石英玻璃靶上的同时使它们熔融并且玻璃化，从而形成合成石英玻璃锭，成型，退火，并且在至少600℃温度和最多5Pa压力下保持至少12小时进行脱氢处理。该合成石英玻璃具备高氦气渗透性并且适合行成纳米压印模具。
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公开(公告)号：CN102180595B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201010625211.6
申请日：2010-12-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/2008 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03B2207/06 , C03B2207/12 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/06 , G03F1/24
Abstract: 本发明涉及掺杂二氧化钛的石英玻璃及其制备方法。更具体地涉及一种掺杂二氧化钛的石英玻璃，该玻璃在900℃热处理100小时后经历小于或等于100ppm的OH基团浓度的降低，所述玻璃适合作为EUV光刻部件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101959812B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN200980106891.6
申请日：2009-02-27
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03B19/1453 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C3/076 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/44 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , G03F1/24 , G03F7/70958 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供了一种TiO2-SiO2玻璃，其中当用作EUVL用曝光工具的光学部件时，在使用高EUV能量的光辐照时热膨胀系数基本为零，并且通过从玻璃中释出氢能够长时间保持多层的物理性能。本发明涉及一种含TiO2的石英玻璃，所述石英玻璃的假想温度为1100℃以下，氢分子浓度为1×1016分子/cm3以上，并且线性热膨胀系数为0ppb/℃时的温度处于40至110℃的范围内。
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公开(公告)号：CN101622204A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200880006392.5
申请日：2008-02-20
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC: C03B19/14
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/10 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/40 , C03C3/06 , C03C2201/10 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/3411 , C03C2201/3441 , C03C2201/40 , G03F7/70958
Abstract: 提供用于投影物镜的石英玻璃光学部件，该投影物镜用于在低于250nm的操作波长下的浸没式光刻，将该部件优化，以便用于线性偏振的UV激光辐射，特别是关于由各向异性的密度变化引起的压实和双折射，按照本发明建议，石英玻璃应包含1wtppm-60wtppm的羟基和化学键合的氮，且石英玻璃的平均氢含量应该为5×10 15 分子/cm 3 -1×10 17 分子/cm 3 。
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公开(公告)号：CN104995145A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480009659.1
申请日：2014-02-19
Applicant: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
Inventor： B.屈恩
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B32/02 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03C4/04 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G02B1/00 , G02B1/02 , Y02P40/57
Abstract: 本发明基于一种由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量并且具有少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量和具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间范围内的羟基含量，其中玻璃结构具有小于1070℃的假定温度。为了基于在633nm的测量波长的情况下压实行为的测量在使用应用波长的UV激光辐射的情况下能够实现关于压实行为的可靠预测，提出光学部件的一种构型，其中，所述部件对利用波长为193nm、具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500μJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应，所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm，其中适用：M193nm/M633nm
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公开(公告)号：CN101503273B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN200910004087.9
申请日：2009-02-09
Applicant: 康宁股份有限公司
IPC: C03B20/00
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/22 , C03C2201/23 , C03C2203/54 , G03F7/70966
Abstract: 本发明涉及具有低OH、OD浓度的无卤化物的玻璃。提供一种在至少约50平方厘米的孔面积上具有小于或等于约5ppm的折射率均匀性的熔凝石英玻璃。所述熔凝石英玻璃还基本不含卤素，并具有小于约160纳米的吸附边缘。该玻璃通过以下方式干燥，在固结前使硅石烟炱毛坯与一氧化碳接触，降低羟基(即，OH，其中H是氕(11H)和氘氧基(OD)，其中，D是氘(12H))的总浓度，在一个实施方式中降低至小于约20重量ppm，在另一个实施方式中降低至小于5重量ppm，在第三实施方式中降低至小于约1重量ppm。
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公开(公告)号：CN101730667B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200880023314.6
申请日：2008-04-28
Applicant: 康宁股份有限公司
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03B2201/23 , C03B2201/31 , C03C2201/22 , C03C2201/23 , C03C2203/54
Abstract: OH和OD中至少一种的合并浓度最高达到约50ppm的熔凝氧化硅玻璃和熔凝氧化硅制品。所述熔凝氧化硅玻璃这样制备：在包含干燥剂的惰性气氛中干燥熔凝氧化硅烟炱坯体，然后在包含惰性气体和氧气的气氛中加热干烟炱坯体，从干烟炱坯体中除去残余干燥剂。
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