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公开(公告)号：CN101881335A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010131953.3
申请日：2010-03-23
Applicant: 东莞宏威数码机械有限公司
Abstract: 本发明公开了一种多层橡胶密封圈密封装置，适用于对真空腔体的腔体口与腔盖的连接进行密封，包括若干橡胶密封圈，正对腔盖的真空腔体处开设有环绕腔体口的容置槽，橡胶密封圈一一对应的收容于容置槽内且凸出容置槽，相邻的容置槽之间开设有正对腔盖的冷却槽，冷却槽内一一对应的收容呈中空结构的冷却管，真空腔体的侧壁上还开设有抽气通道，抽气通道的一端与外部抽真空设备连通，抽气通道的另一端分别与冷却槽连通。本发明的目的在于提供一种结构简单紧凑、防渗漏性能好且使用寿命长的具有多层密封效果的多层橡胶密封圈密封装置。
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公开(公告)号：CN101827646A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200880111878.5
申请日：2008-10-11
Applicant: SMS西马格股份公司
Abstract: 本发明涉及一种闸门装置(10、10′)，其用于使得带材料(2)通过并具有至少一个单闸门(11)。为了在无需将带材料(2)从闸门装置去掉的情况下也能够维护或维修闸门装置特别是其单闸门，根据本发明提出：单闸门由至少一个第一和第二部分构成，其中使得这两个部分通过可断开的连接件相互连接，用于打开和关闭单闸门；和设有至少一个装置(24、25)，用于在所述连接件断开的情况下使得单闸门的第一和第二部分沿着带材料(2)的输送方向或者与该输送方向相逆地彼此相对移位。
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公开(公告)号：CN101804313A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN201010142804.7
申请日：2010-04-09
Applicant: 四川大学
Abstract: 本发明公开了一种顶锤-预密封边高压装置，其特点是该装置包括六面顶压机同步驱动的六个顶锤(1)，六个四棱台(4)与带有十二条预密封边(3)的传压介质合成块(2)组成的增压单元(6)。增压单元(6)放入由六面顶压机六个顶锤(1)组成的高压腔内。本装置与现有的六面顶压机的增压装置相比，具有压力分布更均匀，样品腔更大，可延长顶锤使用寿命等优点。并使压力产生效率比现有装置提高了30％，压力极限由6GPa提高至8GPa。
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公开(公告)号：CN101720251A
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200880008555.3
申请日：2008-01-25
Applicant: 高压生物科学公司
Inventor： E·Y·廷
CPC classification number: B01J3/00 , B01J3/03 , B01J2219/00065 , B01J2219/00162 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/00231
Abstract: 一种压力循环系统，包括：反应腔，其构造成接收试样；以及与所述反应腔流体连通的加料泵。所述加料泵能够操作以把来自流体源的流体朝所述反应腔传送。所述系统还包括设置在所述加料泵和所述反应腔之间的止回阀。所述止回阀能够操作以阻止流体从所述反应腔向所述加料泵的流动。有增压器与所述反应腔流体连通。所述增压器能够气动地操作以调节所述反应腔中的压力。有控制器构造成控制所述加料泵和所述增压器的操作。所述控制器构造成通过所述加料泵的操作而将所述反应腔加压至第一压力。所述控制器还构造成通过所述增压器的操作而使得所述反应腔中的压力在第二压力和第三压力之间波动。
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公开(公告)号：CN100578732C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200710188366.6
申请日：2006-01-17
Applicant: IPS有限公司
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/67 , C23C16/44 , C23C14/22 , C23F4/00 , H01J37/32 , H05H1/00 , B01J3/03
Abstract: 本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖彼此相互连接，用上盖和下盖之间形成的空隙组成真空处理空间，一腔体密封单元通过密封或解封空隙来密封和解封真空处理单元；以及一空隙保持单元用来维持空隙，该空隙保持单元安装在上盖和下盖上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100536070C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200710188367.0
申请日：2006-01-17
Applicant: IPS有限公司
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/67 , C23C16/44 , C23C14/56 , C23F4/00 , H01J37/32 , B01J3/03
Abstract: 本文公开了一种真空处理装置，其用于在基片上进行蚀刻处理或喷镀处理，例如用于液晶显示屏(LCD)面板的玻璃上，半导体晶片上，等等，其包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接形成一真空处理空间；一对下部水平移动单元，该下部水平移动单元分别安装在下盖的各侧；一对上部水平移动单元，该各上部水平移动单元在各自的下部移动单元上可旋转地和上盖连接，以水平方向移动上盖使其从下盖分离；升降单元通过下部水平移动单元支撑并安装在其上，升降单元从下盖分离上盖或通过提升或降低上部水平移动单元使上盖和下盖连接。
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公开(公告)号：CN100509131C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200510078536.6
申请日：2005-06-10
Applicant: 康宁股份有限公司
Inventor： T·L·A·达诺克斯 , P·马克斯
CPC classification number: B01L3/565 , B01J19/0093 , B01J2219/0081 , B01J2219/00824 , B01J2219/00831
Abstract: 一种用于玻璃或玻璃陶瓷反应器(100)的气密接口组件(10)，该组件包括一有一金属孔(120)的金属连接件(12)和一有一玻璃孔(130)的玻璃件(13)。玻璃件(13)设置在金属孔(120)内，金属连接件(12)具有比玻璃件(13)高的热膨胀系数，且玻璃件(13)的至少一部分通过一熔合的玻璃对金属气密压力密封结构(14)保持在金属件的金属孔内。
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公开(公告)号：CN100457249C
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200580002414.7
申请日：2005-01-03
Applicant: 埃科达斯公司
Inventor： J·斯夸利
CPC classification number: F16J13/065 , B01J3/03 , Y10T292/212
Abstract: 本发明涉及一容器，主要用于在压力下处理物品，其包括：一主体(2)，至少一盖体(3)和在所述主体(2)和所述至少一盖体(3)之间的约束装置(4)。根据本发明，所述约束装置(4)包括一开口的环箍(5)，其型面成U形以确定一适于夹持所述盖体(3)和所述主体(2)的凸缘(8、9)的槽(6)，允许所述环箍(5)变形并相对于所述凸缘(8、9)移动以便使所述容器(1)能打开和关闭的锁合/解锁装置(10)。
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公开(公告)号：CN100434154C
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200480011403.0
申请日：2004-01-13
Applicant: 系统技术工业电子系统工贸有限公司
CPC classification number: B01J19/002 , B01J3/03 , B01J19/0073 , B01J2219/00207 , B01J2219/00211 , B01J2219/00225 , B01J2219/00268 , F16J13/00 , F16J15/002 , F16J15/46
Abstract: 在从负压到超压以及从超压到负压的可变内部压力下处理物料或产品时，广泛使用的用于压力容器的速闭门的密封系统是没有保证的。至于从负压到超压的压差以及可燃气体环境，容器内处于环境压力时存在危险。本发明涉及一种用于压力容器的速闭门的密封系统，它能确保在可燃气体环境下安全操作。
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