多通道原位测量气氛池
    92.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105445191B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201510852016.X

    申请日:2015-11-30

    Inventor: 赖宇晴

    Abstract: 本发明提供一种多通道原位测量气氛池,属于材料测试装置领域。解决现有的气氛池密闭效果差、不易控制且应用范围窄的问题。该多通道原位测量气氛池包括池体、底座和温控装置,所述的温控装置设置在池体和底座之间,池体的顶壁、左侧壁、右侧壁、前侧壁和后侧壁上分别设置五个光学窗口,前侧壁和后侧壁上的光学窗口倾斜对称设置,池体中央设置一个样品台,池体的左侧壁上对称设置两个通孔,其中一个通孔与气体快速接头连接,另一个通孔与液体管或注射管连接。本发明的气氛池可以同时用于三种光谱仪器设备的原位、同步测量,密闭性好,能耐住强腐蚀有机溶剂气氛的使用。

    用于使用平面内掠入射衍射进行表面标测的方法和装置

    公开(公告)号:CN105008904B

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201480012351.2

    申请日:2014-01-07

    Inventor: J·金克

    Abstract: 种通过位置敏感检测器使用平面内掠入射衍射检查晶体样本的表面的装置。x射线源照射样本的个延伸区域,并且对于晶体的具有适当晶格取向的区段,产生个细长的衍射信号。然后可以改变样本和x射线束的相对位置以照射样本的不同区域,使得衍射信号对应于这些其他区域。通过扫描整个样本,可以生成样本表面的空间走向。所述系统可以用来定位样本表面上的晶体边界、缺陷或者衰减材料的存在。

    一种描述同步辐射光源光斑形状的方法及系统

    公开(公告)号:CN107589137A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201610535016.1

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种描述同步辐射光源光斑形状的方法,该方法包括下列步骤:获取光斑的步骤:确定同步辐射的散射光源,从而得到待描述的同步辐射光源光斑;描述光斑形状的步骤:利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状;修正光斑形状的步骤:调整所述二维高斯函数中的可调参数以改变其所描述的光斑形状,从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状。本发明还涉及一种描述同步辐射光源光斑形状的系统。本发明利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状,同步辐射的光源不是理想的点光源,而是具有一定形状的光斑光源,在进行SAXS实验数据的理论分析计算中,将具有一定形状的光源光斑纳入计算的考虑,进而提高散射结果的准确度。

    一种小角X射线散射的双模型拟合方法及系统

    公开(公告)号:CN107589136A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201610535005.3

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明提出了一种小角X射线散射的双模型拟合方法,包括:获取步骤:获得被分析对象的散射强度实验图谱;建模步骤:根据散射强度实验图谱的特征构建双模型;解析步骤:调整各向同性散射体的散射强度计算公式模型和取向散射体的散射强度计算公式模型中的各可调参数,使得各向同性散射体的散射强度计算公式模型和取向散射体的散射强度计算公式模型相加后得到的计算图谱与所述散射强度实验图谱之差最小,即可解析出各模型的参数。本发明还提出了一种小角X射线散射的双模型拟合系统。本发明为利用小角X射线散射进行有效观测材料介观尺度结构的无损检测提供了更好的数据支持。

    一种描述散射体形状的方法和系统

    公开(公告)号:CN107589135A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201610534988.9

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种描述散射体形状的方法,该方法包括下列步骤:获得散射体形状初始值的步骤:根据材料微观结构的电子显微学分析方法得到材料内部散射体的尺寸和形状的初始值;描述散射体的步骤:利用超椭球描述函数描述散射体,根据上述初始值设定和改变超椭球描述函数中的参数,构建该形状的散射体。本发明还涉及一种描述散射体形状的系统。本发明利用超椭球描述函数来描述材料中的散射体,能够通过改变超椭球体中的函数来改变散射体形状,为二维散射图谱的计算带来了极大的便利。

    一种基于SAXS技术的二维散射谱计算方法及系统

    公开(公告)号:CN107589134A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201610534987.4

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种基于SAXS技术的二维散射谱计算方法,该方法包括以下步骤:象限选择步骤:利用SAXS本身的特性进行简化,基于SAXS散射图谱的对称性,选择其中一个象限进行匹配;提取特征点的步骤:提取该象限内SAXS散射图谱的特征点;筛选散射图谱的步骤:根据提取的特征点筛选该象限内的SAXS散射图谱;筛选全散射图谱的步骤:基于SAXS散射图谱的对称性,由该象限内的SAXS散射图谱生成整个SAXS散射图谱。本发明还提出一种基于SAXS技术的二维散射谱计算系统。本发明根据SAXS本身的特性只需对一个象限进行匹配,在保留足够信息量的同时减少计算拟合的数据量,有效提高二维散射图谱的计算时间。

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