101.
    外观设计
    失效

    公开(公告)号:KR3002400030000S

    公开(公告)日:1999-07-01

    申请号:KR3019980015753

    申请日:1998-09-16

    Designer: 김정우

    102.
    外观设计
    失效

    公开(公告)号:KR3002400000000S

    公开(公告)日:1999-07-01

    申请号:KR3019980015750

    申请日:1998-09-16

    Designer: 김정우

    103.
    外观设计
    失效

    公开(公告)号:KR3002236950000S

    公开(公告)日:1998-09-15

    申请号:KR3019970016223

    申请日:1997-07-31

    Designer: 김정우

    2차원 빔 스티어링 소자
    106.
    发明公开
    2차원 빔 스티어링 소자 审中-实审
    二维光束转向装置

    公开(公告)号:KR1020170101009A

    公开(公告)日:2017-09-05

    申请号:KR1020160023647

    申请日:2016-02-26

    CPC classification number: G02F1/295 G02F2001/291 G02F2201/121 G02F2203/24

    Abstract: 2차원빔 스티어링소자에관해개시되어있다. 개시된 2차원빔 스티어링소자는프리즘효과를나타내는굴절률가변패널과, 상기패널의일 면에접촉된도파관과, 상기도파관의일면상에배치된전기-광학프리즘을포함한다. 상기굴절률가변패널은굴절률가변층과, 공통전극과, 전극패턴을포함하고, 상기공통전극과상기전극패턴은상기굴절률가변층을사이에두고마주할수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种二维射束控制装置。 所公开的二维光束控制元件包括呈现棱镜效应的折射率可变面板,触摸在面板的一侧上的波导以及布置在波导的一侧上的电光棱镜。 折射率可变面板可以包括折射率可变层,公共电极和电极图案,并且公共电极和电极图案可以经由折射率可变层相互面对。

    빔 스티어링 소자 및 이를 포함하는 시스템
    108.
    发明公开
    빔 스티어링 소자 및 이를 포함하는 시스템 审中-实审
    一种光束转向装置和包括该光束转向装置的系统

    公开(公告)号:KR1020170062093A

    公开(公告)日:2017-06-07

    申请号:KR1020150167502

    申请日:2015-11-27

    CPC classification number: G02F1/293 G02F2202/10 G02F2202/30 G02F2203/58

    Abstract: 빔스티어링소자및 이를포함하는시스템이개시된다. 개시된빔 스티어링소자는광 조사에의하여광 조사에의하여굴절율이변환되는변환층, 다수의패턴을포함하는패턴층및 상기변환층에광을조사하는광 조사부를포함한다. 상기패턴층은메타표면형상으로형성되어외부의레이저를반사할수 있다. 또한, 상기광 조사부는서로다른특성의광을조사할수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种光束控制元件和包括该光束控制元件的系统。 所公开的光束转向装置包括:光照射照射光到转换层是转换的折射率,所述图案层包括多个图案,并且通过光的照射所述转换层通过光照射。 图案层可以以元表面形状形成以反射外部激光。 此外,光照单元可以照射不同特性的光。

    나노 안테나 제조방법
    109.
    发明公开
    나노 안테나 제조방법 审中-实审
    如何制作纳米天线

    公开(公告)号:KR1020170057674A

    公开(公告)日:2017-05-25

    申请号:KR1020150161056

    申请日:2015-11-17

    Abstract: 나노안테나제조방법에관해개시되어있다. 개시된제조방법은기판상에하부물질층을형성하고, 상기하부물질층의일부영역을한정한다. 상기하부물질층의상기한정된영역상에부착층과나노안테나물질층을순차적으로형성한다음, 에싱공정을이용하여상기부착층을제거한다. 상기하부물질층의일부영역을한정하는과정은상기하부물질층상에상기하부물질층의상기일부영역을노출시키는마스크를형성하는과정을포함할수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种制造纳米天线的方法。 所公开的制造方法在基板上形成下部材料层并限定下部材料层的部分区域。 在下部材料层的封闭区域上依次形成粘合层和纳米天线材料层,然后使用灰化工艺去除粘合层。 限定下部材料层的部分区域的过程可以包括形成暴露下部材料层上的下部材料层的部分区域的掩模。

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