Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a thin film transistor for a liquid crystal display device is provided to reduce the number of mask operations. CONSTITUTION: A method for manufacturing a thin film transistor for a liquid crystal display device includes following steps. At the first step, a gate line(22), a gate electrode(26), and a gate wiring(22,24,26) are formed on an insulation substrate. At the second step, gate insulation layer, amorphous silicon layer, doped amorphous silicon layer and a metal for data wiring are evaporated on the gate wiring. At the third step, a data wiring(62,64,65) is formed by using a patterning operation. At the forth step, the doped amorphous silicon layer is removed. At the fifth step, a surfactant oxidation layer is formed on the doped amorphous silicon layer. At the sixth step, a protection layer(70) is accumulated on the surfactant oxidation layer. At the seventh step, a first and third contact windows are formed. At the eighth step, a transparent conductive layer is evaporated on the protection layer. At the ninth step, an auxiliary data pad is formed which is coupled with the data pad.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing liquid crystal display is provided to use a substrate with less thickness than a predetermined thickness for a thin LCD(liquid crystal display). CONSTITUTION: A method for manufacturing liquid crystal display according to the present invention includes first and second steps. At the first step, an auxiliary membrane(12) is formed on a LCD substrate(11) on which a TFT(thin film transistor) and a black matrix are formed together. At the second step, other processes are performed. The first step further includes another step. At the another step, another auxiliary membrane is formed on the other substrate on which a color filter is formed. The another substrate corresponds to the substrate on which an auxiliary membrane(12) is formed.
Abstract:
PURPOSE: A method is to increase the deposition speed and to suppress the particle formation generated in the gate insulation film deposition process of a thin film transistor liquid crystal display device. CONSTITUTION: A method comprises the steps of: forming a gate electrode(20) in a substrate(10) and forming a gate insulation film(30) comprised of dual films on the gate electrode; the bottom layer(31) of dual films is formed with a silicon nitride film including halogen below 10 percents by PECVD in the 150 - 400°C and in the 0.1 - 1.0 torr by mixing halogen compound gas below 20 vol percents with a reaction gas; completing the gate insulation film by depositing a silicon nitride film not including halogen in the thickness of 5 - 50 percent of the total thickness of the gate insulation film; forming a channel layer of a thin film transistor by depositing and patterning an amorphous silicon and a doped amorphous silicon; forming a source electrode(61) and a drain electrode(62) by depositing and patterning a metal; and revealing the undoped amorphous silicon layer by etching the doped amorphous silicon layer using the source and drain electrode as a mask.
Abstract:
가. 청구범위에 기재된 고안이 속한 기술분야. 본 고안은 각종 무선기기의 안테나 장치에 관한 것이다. 나. 고안이 해결하려고 하는 기술적 과제. 본 고안은 안테나의 유동방향을 제어하여 정확한 위치 유지기능을 수행할 수 있는 안테나 홀더장치를 제공하는데 있다. 다. 고안의 해결방법의 요지. 본 고안은 패널상에 홀더가 유동가능하도록 장착되는 안테나 장치에 있어서, 상기 패널에는 일정한 원형의 구멍이 형성되며, 상기 홀더에는 상기 구멍에 장착되어 패널의 내측면에 걸리도록 다수의 탄성후크가 돌출 형성되며, 상기 탄성후크의 외주면상에는 소정의 돌기가 형성되며, 상기 후크의 외주면과 접하는 패널 구멍의 접촉면상에는 일정간격으로 다수의 돌기가 형성되어 상기 홀더가 회전될 때, 탄성후크의 돌기가 상기 패널의 돌기사이에 일정 탄성력을 가지며 걸리도록 구성됨을 특징으로 한다. 라. 고안의 중요한 용도. 본 고안은 안테나의 정확한 위치를 고정하기 위한 홀더장치.
Abstract:
본 발명은 다결정 실리콘막의 제조 공정시 다결정 실리콘을 증착하기에 앞서 수소 플라즈마 공정을 실시하는 제조 방법에 관한 것이다. 기판에 다결정 실리콘을 직접 증착하기 전에 반응기 내에서 수소 플라즈마 전처리 공정을 수행하여 비정질 기판과 다결정 실리콘 계면에 생성되는 비정질 실리콘 전이층을 제거함과 동시에 수소 플라즈마 세정 효과를 이용하여 계면에 존재하는 불순물을 효과적으로 제거할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 사무용 기기 및 각종 전자기기의 버턴 장치는 안전버턴과 주버턴이 일체형으로 구성되며, 상기 안전버턴에는 상기 주버턴으로부터 이탈을 방지하기 위한 후크와, 상기 주버튼의 동작을 정지시키는 돌기와, 상기안전버턴의 상, 하방향으로의 동작을 제어하는 탄성부로 구성되며, 상기 주버턴에는 상기 안전버턴의 잠금 및 해제 상태를 안내하는 제1구멍이 형성된 리브로 구성된 것이다.
Abstract:
가. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야. 본 발명은 팩시밀리 및 각종 사무용 기기에 사용되는 용지 절단장치에 관한 것이다. 나. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제. 본 발명은 구동부의 자유로운 위치 변위와 절단장치의 슬림화를 구현할 수 있다. 다. 발명의 해결방법의 요지. 본 발명은 용지 절단기능을 수행하는 고정날과 회전날이 설치된 컷트 카트리지와, 상기 컷트 카트리지를 구동시키는 모터와, 상기 모터의 구동력을 상기 컷트 카트리지에 전달하는 구동풀리 및 종동풀리와, 상기 컷트 카트리지를 이동시키는 와이어를 구비하는 사무용 기기의 용지 절단장치에 있어서, 상기 용지 절단장치의 슬림화 및 설치공간의 극대화를 위해 상기 고정날 및 회전날의 면과 구동부인 구동풀리 및 종동풀리와 와이어가 서로 직각을 유지하도록 설치되어 있다. 라. 발명의 중요한 용도. 사무용 기기.
Abstract:
1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 본 발명은 하나의 일체형 버턴을 이용하여 여러가지 기능을 수행할 수 있는 다기능의 일체형 버터 장치에 관한 것이다. 2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제 본 발명은 온·오프기능을 동시에 수행할 수 있는 다기능의 일체형 버턴 장치를 제공하는데 있다. 3. 발명의 해결방법의 요지 본 발명은 사무용 기기 및 각종 전자기기에 사용되는 버턴장치는 내부버턴과 외부버턴이 일체형으로 구성되며, 상기 내부버턴에는 상기 외부버턴으로부터 이탈을 방지하기 위한 후크와, 외부스위치를 오프시키기 위한 돌기와, 내부스위치를 온시키는 제1작동부와, 상기 외부스위치가 온시에 상기 외부버턴을 고정시키는 탄성부로 구성되며, 상기 외부버턴에는 외부스위치를 온시키는 제2작동부와, 상기 외부버턴을 지시하는 리브로 구성된 것이다. 4. 발명의 중요한 용도 본 발명은 유사한 기능을 수행하는 버턴을 일체화시키므로서 제품의 공간활용을 극대화 시킬 수 있으며, 동작 기능을 수행하는 버턴의 수가 최소화되기 때문에 제품 디자인에 제약을 받지 않는다.
Abstract:
1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 본 발명은 팩시밀리 및 복사기등에 사용되는 원고급지장치에 있어 원고의 크기에 따라 양측 원고가이드를 이동시켜 정확하게 원고크기에 맞추고 원고 급지시 원고의 비틀림을 잡아줄 수 있도록 한 원고 정렬장치에 관한 것이다. 2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제 본 발명은 원고가이드의 랙기어 외측에 탄성편을 형성하여 랙커버의 측벽에 탄성편이 가이드되어 원고 정렬감을 주도록 하여 원고가이드가 유동하지 않도록 한 원고 정렬장치를 제공함에 있다. 3. 발명의 해결방법의 요지 본 발명은 원고트레이의 상부 양측 가이드홀에 설치되어 좌, 우로 이동할 수 있는 양측 원고가이드의 각각 랙기어 외측에 탄성편을 일체로 형성하여 랙커버 중앙의 고정핀에 설치된 피니언기어와 상기 랙기어가 맞물리게 하고, 상기 랙커버의 양측벽에 상기 랙기어의 탄성편이 접촉되어 가이드되도록 설치하여 상기 원고가이드는 랙기어의 턴성편에 의해 원고정렬감을 주도록 함을 특징으로 한다. 4. 발명의 중요한 용도 본 발명은 팩시밀리 또는 복사기에 설치된 원고가이드에 원고 정렬감을 주도록 한 원고 정렬장치.