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    FASEROPTISCHE STREUEINRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR
    101.
    发明公开
    FASEROPTISCHE STREUEINRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR 审中-公开
    光纤扩散装置及其制造方法

    公开(公告)号：EP3184885A1

    公开(公告)日：2017-06-28

    申请号：EP15201956.8

    申请日：2015-12-22

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： SCHENK, Christian ,  SCHEICH, Gerrit ,  TSCHOLITSCH, Nadine

    IPC: F21V8/00 ,  G02B6/26 ,  G02B5/02

    CPC classification number: G02B6/0008 ,  A61B2018/2261 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  G02B5/0247 ,  G02B5/0268 ,  G02B6/00 ,  G02B6/262

    Abstract: Bei faseroptischen Streueinrichtungen wird über eine Lichtleitfaser aus Quarzglas Licht zu einem an einem distalen Endbereich der Lichtleitfaser vorgesehenen Diffusor übertragen. Der Diffusor enthält Streuzentren. Zur Erzeugung des Diffusors ist es bekannt, auf dem distalen Faserende der Lichtleitfaser eine Streumasse aufzubringen und diese zu dem Diffusor zu verfestigen. Um davon ausgehend ein Verfahren zur kostengünstigen und zuverlässigen Herstellung einer derartigen faseroptischen Streueinrichtung anzugeben, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Aufbringen der Streumasse folgende Verfahrensschritte umfasst
    (a) Bereitstellen einer SiO 2 -Körnung, die amorphe SiO 2 -Teilchen enthält und die zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 besteht,
    (b) Bereitstellen eines Hohlkörpers aus Glas mit einer Hohlraumwandung, die einen nach außen offenen Hohlraum umgibt,
    (c) Bilden einer Schüttung der SiO 2 -Körnung in dem Hohlraum und Einbringen des Faserendes in den Hohlraum, so dass mindestens ein Teil des Faserendes in die Schüttung hineinragt,
    (d) thermisches Verdichten der Schüttung unter Ausbildung einer porenhaltigen und zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 bestehenden Sintermasse, die mindestens teilweise von einer Glashülle umgeben ist.

    Abstract translation: 在光纤散射体中，光通过石英玻璃光纤传输到设置在光纤远端部分的扩散器。 扩散器包含散射中心。 为了制造漫射器，已知将散射质量施加到光纤的远端光纤端并固化它以形成漫射器。 为了此基础上提供廉价和可靠的生产这样的光纤散射装置的方法，本发明提出的是，分散体的质量的沉积方法包括以下步骤（a）提供含有无定形的SiO 2颗粒和至少90重量％的SiO 2系的谷物。 （b）提供具有围绕向外敞开的空腔的空腔壁的玻璃空心体;（c）在空腔中形成SiO 2颗粒床并将光纤端插入空腔中，使得至少 光纤端部的一部分突出到床，（d）热压缩所述填料，以形成多孔的，并且包括至少90重量的SiO 2的烧结质量％，其至少部分地由玻璃外壳包围。

    QUARZGLASTIEGEL UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG
    105.
    发明公开
    QUARZGLASTIEGEL UND VERFAHREN FÜR SEINE HERSTELLUNG 有权
    用于生产石英玻璃坩埚

    公开(公告)号：EP1159227A1

    公开(公告)日：2001-12-05

    申请号：EP00990741.1

    申请日：2000-12-14

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： WERDECKER, Waltraud ,  LEIST, Johann

    IPC: C03B19/09 ,  C30B15/10 ,  C30B35/00 ,  C03C3/06

    CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/09 ,  C03B19/095 ,  C03B2201/04 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/80 ,  C30B15/10 ,  C30B35/002 ,  Y10S65/04 ,  Y10T428/131

    Abstract: The invention relates to a crucible characterized in that said crucible is of high purity and high opacity or exhibits low transmission characteristics in the IR range and is derived from a quartz glass crucible known in prior art. Said crucible known in prior art has a crucible body which is symmetrical about a rotational axis and said body is made of opaque quartz glass, whereby the crucible has an outer zone (3) made of opaque quartz glass which projects radially inwards to an inner zone (2) made of transparent quartz glass having a density of at least 2.15 g/cm3. The crucible body (1) is made of a synthetic SiO¿2? granulate with a specific surface (according to BET) in the range of 0.5 m?2¿/g to 40 m2/g and having a stamp density of at least 0.8 g/cm3 and is produced from an at least partially porous agglomerate of SiO¿2? primary particles. A method for producing said quartz glass crucible is characterized according to the invention in that during the production of said crucible, an at least partially porous agglomorate of synthetically produced SiO2 granulate made of SiO2 primary particles is produced having a specific surface (according to BET) in the range of 0.5 m?2¿/g to 40 m2/g and a stamp density of at least 0.8 g/cm3. Heating is performed in such a manner that a vitrification front progresses from the inside to the outside of an inner zone (4) made of transparent quartz glass.

    Verfahren zur Herstellung eines Bauteils aus opakem, synthetischen Quarzglas sowie nach dem Verfahren hergestelltes Quarzglasrohr
    106.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung eines Bauteils aus opakem, synthetischen Quarzglas sowie nach dem Verfahren hergestelltes Quarzglasrohr 审中-公开
    由不透明的合成石英玻璃和石英玻璃管的用于制造部件的方法，根据该方法制造的

    公开(公告)号：EP1148035A2

    公开(公告)日：2001-10-24

    申请号：EP01108924.0

    申请日：2001-04-10

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： Gertig, Udo ,  Werdecker, Waltraud ,  Leist, Johann ,  Leber, Helmut

    IPC: C03B19/09 ,  C03B23/047 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00

    CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/09 ,  C03B19/095 ,  C03B23/047 ,  C03B23/0496 ,  C03C11/00 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/80 ,  C03C2204/06 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/139 ,  Y10T428/1393

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Bauteils aus opakem, synthetischen Quarzglas und ein nach dem Verfahren hergestelltes Quarzglasrohr. Um die kostengünstige Herstellung von Bauteilen, insbesondere von dünnwandigen Rohren oder Rohrteilen aus opakem Quarzglas hoher chemischer Reinheit und hoher Maßhaltigkeit zu ermöglichen wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, ein Ausgangsmaterials bereitzustellen in Form eines Granulats aus synthetischem, hochreinem SiO 2 , das aus mindestens teilweise porösen Agglomeraten von SiO 2 -Primärteilchen gebildet ist und das eine Stampfdichte von mindestens 0,8 g/cm 3 aufweist, das Granulats in eine Form einzubringen und zu einer Vorform aus opakem Quarzglas zu erschmelzen und die Vorform in einem Heißumformprozess unter Bildung des Bauteils aus opakem Quarzglas umzuformen. Ein nach dem Verfahren hergestelltes Quarzglasrohr, das insbesondere zur Verwendung bei der Halbleiterfabrikation geeignet ist, zeichnet sich dadurch aus, dass es aus Quarzglas besteht, das aus einem Granulat aus synthetischem SiO 2 mit einem Lithium-Gehalt von maximal 100 Gew.-ppb hergestellt ist, und dass es eine Wandstärke im Bereich von 0,5 bis 15 mm aufweist.

    Abstract translation: 从不透明的合成石英玻璃制成的部件的制造包括制备起始原料以颗粒由合成所作的形式由SiO 2一次粒子的多孔附聚物形成的高纯的SiO 2，并且具有至少0.8克/厘米<3>的夯实密度 ; 引入颗粒入模具中并熔化从不透明石英玻璃制成的预成形件; 和重塑预成形在热变形过程形成由石英玻璃制成的组件。 优选的特征：所述预成形件的外表面进行机械加工，然后送入一个加热区软化如果和变形。 在SiO 2颗粒具有0.9-1.4克/立方厘米<3>的夯实密度

    Cristobalite-contained silica glass, and silica glass jig made of same
    107.
    发明公开
    Cristobalite-contained silica glass, and silica glass jig made of same 失效
    方英石含式石英玻璃，及其产品Quarzglass夹具

    公开(公告)号：EP0854116A3

    公开(公告)日：1999-01-07

    申请号：EP98105181.6

    申请日：1996-02-27

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

    Inventor： The designation of the inventor has not yet been filed

    IPC: C03C3/06 ,  C03C14/00 ,  C03B20/00 ,  C03B32/02

    CPC classification number: C03C14/004 ,  C03B20/00 ,  C03B32/02 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2214/20 ,  C03C2214/30

    Abstract: An object of the present invention is to provide silica glass having high purity, high heat resistance, large coefficient of thermal expansion, and low light transmittanc. Another object of the present invention is to provide a silica glass jig with a vapor-deposited film thereon. Therfore Cristobalite-contained silica glass wherein α-cristobalite in the shape of a small sphere or a small, round-edged or sharp-edged, three-dimensional region is dispersed in the silica glass matrix, the diameter of each α-cristobalite sphere or region is in the range of 0.1 µm to 1000 µm, a content of the α-cristobalite is at least 10 wt %, and small-sized independent bubbles which are additionally dispersed in the silica glass matrix. The silica glass jig is made of the cristobalite-contained silica glass and the surface of the jig is covered with a vapor-deposited thin film which has a property of being resistant to plasma etching, and which is made of a material of almost the same coefficient of thermal expansion as that of the silica glass. The silica glass jig has no chance to generate particles therefrom and thereby to contaminate a silicon wafer.

    Opaque quartz glass and process for production thereof
    108.
    发明公开
    Opaque quartz glass and process for production thereof 失效
    Opakes Quarzglas und Verfahren zu dessen Herstellung

    公开(公告)号：EP0816297A1

    公开(公告)日：1998-01-07

    申请号：EP97111176.0

    申请日：1997-07-03

    Applicant: TOSOH CORPORATION

    Inventor： Nagata, Hiroya ,  Tsukuma, Koji ,  Kudo, Masayuki

    IPC: C03C11/00 ,  C03C3/06

    CPC classification number: C03C11/007 ,  C03B19/09 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/2975

    Abstract: An opaque quartz glass is provided which contains gas bubbles uniformly dispersed therein and is excellent in high-temperature viscosity and heat-insulating property. The opaque quartz glass has an apparent density ranging from 1.7 to 2.1 g/cm 3 , containing bubbles having an average bubble diameter ranging from 10 to 100 µm in an amount ranging from 3×10 5 to 5×10 6 bubbles/cm 3 , having a total bubble sectional area ranging from 10 to 40 cm 2 /cm 3 , exhibiting a linear transmittance of not higher than 3% at a thickness of 1 mm or larger to projected light of wavelength ranging from 300 to 900 nm, and containing nitrogen at a concentration ranging from 1 to 50 ppm. The opaque quartz glass is produced by a process comprising packing into a heat-resistant mold a powdery source material composed of powdery silica having an average particle diameter ranging from 10 to 500 µm and powdery silicon nitride dispersed therein in an amount ranging from 0.001 to 0.05 part by weight based on 100 parts by weight of the powdery silica; heating the powdery source material up to a first temperature of not lower than the melting temperature thereof and not higher than 1900°C or heating the powdery source material up to a temperature of not lower than 1400°C and lower than the melting temperature therof in vacuum atmosphere; further heating the source material up to a temperature higher than the melting point and not higher than 1900°C in an inert gas atmosphere for vitrification and bubble formation.

    Abstract translation: 提供了一种不透明的石英玻璃，其包含均匀分散在其中的气泡，并且具有优异的高温粘度和绝热性能。 不透明石英玻璃的表观密度范围为1.7至2.1g / cm 3，其气泡直径范围为10至100μm，气泡直径范围为3×10 5至5×10 6气泡/ cm 3，具有10至40cm 2 / cm 3的总气泡截面面积，在1mm以上的厚度下的线形透射率为不高于3％的波长范围的投射光 300〜900nm，含有1〜50ppm浓度的氮。 不透明石英玻璃通过以下方法制造，该方法包括将平均粒径为10-500μm的粉末二氧化硅和分散在其中的粉末状氮化硅的粉末源材料填充到耐热模具中，其量为0.001至 0.05重量份，基于100重量份的粉末二氧化硅; 将粉末源材料加热至不低于其熔融温度并且不高于1900℃的第一温度，或将粉末源材料加热至不低于1400℃并低于熔点的熔融温度 真空气氛; 在惰性气体气氛中将源材料进一步加热至高于熔点且不高于1900℃的温度，用于玻璃化和气泡形成。

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