半导体装置
    118.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109560140A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811483289.1

    申请日:2011-01-13

    Abstract: 本发明涉及一种半导体装置。所公开的发明的目的之一是提供一种维持良好的特性并实现微型化的使用氧化物半导体的半导体装置。半导体装置包括:氧化物半导体层;与氧化物半导体层接触的源电极及漏电极;与氧化物半导体层重叠的栅电极;设置在氧化物半导体层与栅电极之间的栅极绝缘层;以及以与氧化物半导体层接触的方式设置的绝缘层,其中,氧化物半导体层在其侧表面与源电极或漏电极接触,并且在其上表面隔着绝缘层与源电极或漏电极重叠。

    显示设备及其制造方法
    119.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103872043B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201410116654.0

    申请日:2009-12-24

    Inventor: 荒井康行

    Abstract: 一种显示设备包括:形成于基板之上且用作栅极电极的第一布线;形成于第一布线之上的栅极绝缘膜;设置在栅极绝缘膜之上的第二布线和电极层;以及形成于第二布线和电极层之间的高阻抗氧化物半导体层。在该结构中,第二布线是使用低阻抗氧化物半导体层和低阻抗氧化物半导体层上的导电层的层叠体而构成的,并且电极层是使用低阻抗氧化物半导体层和层叠的导电层的层叠体而构成的,使得用作低阻抗氧化物半导体层的像素电极的区域露出来。

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