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    진공장치
    111.
    发明公开
    진공장치 失效
    真空装置

    公开(公告)号：KR1020020005327A

    公开(公告)日：2002-01-17

    申请号：KR1020000039354

    申请日：2000-07-10

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 박창순

    IPC: H01L21/30

    Abstract: PURPOSE: A vacuum apparatus is provided to prevent an error of a sensor controlling movement of a switching unit installed in a housing unit and an error of a driving unit for driving the switching unit, by improving a coupling between the housing unit and a coupling plate. CONSTITUTION: The housing unit(100) includes a housing body(110) having the switching unit(120) for selectively forming a vacuum state and an exhaust pipe(130) installed in the housing body, installed between semiconductor equipment and a vacuum pump. A vacuum pressure control unit(300) controls the driving unit for driving the switching unit, the sensor for sensing the switching to control the driving unit and a controller(320) for controlling the driving unit by the signal of the sensor. The housing unit is installed in one side of the coupling plate(200), and the vacuum pressure control unit is installed in the other side of the coupling plate. The first rotation prevention unit is installed in the exhaust pipe of the housing unit, and the second rotation prevention unit coupled to the first rotation prevention unit is installed in the coupling plate.

    Abstract translation: 目的：提供一种真空装置，以防止传感器控制安装在壳体单元中的开关单元的运动和用于驱动开关单元的驱动单元的误差，改善壳体单元和联接板之间的联接 。 构成：壳体单元（100）包括：壳体（110），其具有用于选择性地形成真空状态的切换单元（120）和安装在壳体内的排气管（130），安装在半导体设备和真空泵之间。 真空压力控制单元（300）控制用于驱动切换单元的驱动单元，用于感测切换以控制驱动单元的传感器和用于通过传感器的信号来控制驱动单元的控制器（320）。 壳体单元安装在联接板（200）的一侧，并且真空压力控制单元安装在联接板的另一侧。 第一旋转防止单元安装在壳体单元的排气管中，并且连接到第一防旋转单元的第二防旋转单元安装在联接板中。

    포커스 링의 이상 마모를 제거한 플라즈마 챔버
    112.
    发明公开
    포커스 링의 이상 마모를 제거한 플라즈마 챔버 失效
    来自异物磨损​​的等离子体离子被移除

    公开(公告)号：KR1020000065492A

    公开(公告)日：2000-11-15

    申请号：KR1019990011829

    申请日：1999-04-06

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 박창순 ,  박수관

    IPC: H01L21/68

    Abstract: PURPOSE: A plasma chamber from which abnormal abrasion on focus ring was removed is provided to enhance the life time of a focus ring and to restrain the deposition of by-products to ESC(electro static chuck) in the etching process. CONSTITUTION: A plasma chamber from which abnormal abrasion of focus ring was removed comprises a circular ESC(100) on which a wafer(112) is laid, a cathode electrode(102) which composes a circular out line of ESC(100), a first lower ring(106) which composes a lower part of a focus ring(104), and a side wall of cathode electrode(102), and a second ring and a third ring(108,110) which mechanically support the first ring(106) and have the characteristics of a dense structure between the focus ring(104) and the first ring(106). Wherein the second and the third ring are distorted to remove the gap between the focus rings, so the deposition of the by-products to ESC is restrained.

    Abstract translation: 目的：提供去除聚焦环异常磨损的等离子体室，以提高聚焦环的使用寿命，并抑制蚀刻过程中ESC（静电吸盘）副产物的沉积。 构成：去除聚焦环的异常磨损的等离子体室包括圆形ESC（100），其上放置晶片（112），构成ESC（100）的圆形出线的阴极（102）， 构成聚焦环（104）的下部的第一下环（106）和阴极电极（102）的侧壁，以及机械地支撑第一环（106）的第二环和第三环（108,110） 并且具有在聚焦环（104）和第一环（106）之间的致密结构的特征。 其中第二和第三环变形以去除聚焦环之间的间隙，因此抑制副产物向ESC的沉积。

    공압기가 구비되는 반도체소자 제조장치
    113.
    发明公开
    공압기가 구비되는 반도체소자 제조장치 无效
    半导体器件生产方法装备的气动装置

    公开(公告)号：KR1020000003267A

    公开(公告)日：2000-01-15

    申请号：KR1019980024471

    申请日：1998-06-26

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 박창순

    IPC: H01L21/68

    Abstract: PURPOSE: A semiconductor production method equipped a pneumatic device is provided to easily check the abnormality occurrences of a semiconductor production equipment, and to treat quickly. CONSTITUTION: A semiconductor production device comprises: a pneumatic valve that can perform the opening and closing with air pressure; a pneumatic device(22) that can inject the air pressure in the pneumatic valve; a pneumatic checking device(28) connected with the inner line(26) of the pneumatic device(22) to check the air pressure injected to the pneumatic device(22).

    Abstract translation: 目的：提供一种配备气动装置的半导体制造方法，以容易地检查半导体生产设备的异常情况，并快速对待。 构成：半导体制造装置包括：能够以空气压力进行打开和关闭的气动阀; 气动装置（22），其能够将气压喷射到气动阀中; 与气动装置（22）的内部管线（26）连接的气动检查装置（28），以检查喷射到气动装置（22）的空气压力。

    반도체 저압화학기상증착 설비의 압력 표시장치
    114.
    发明公开
    반도체 저압화학기상증착 설비의 압력 표시장치 无效
    半导体低压化学气相沉积设备的压力显示

    公开(公告)号：KR1019990015767A

    公开(公告)日：1999-03-05

    申请号：KR1019970038065

    申请日：1997-08-09

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 박창순

    IPC: H01L21/205

    Abstract: 저압화학기상증착 설비를 형성하는 공정챔버에 연결된 진공라인의 기압을 측정하여서 그 수치를 표시함으로써 기압 확인 및 진공라인의 내부리크를 확인하도록 개선시킨 반도체 저압화학기상증착 설비의 압력 표시장치에 관한 것이다.
    본 발명은, 증착이 수행되는 공정챔버에 내부 진공상태 변환을 위하여 진공라인을 통하여 진공펌프가 연결된 반도체 저압화학기상증착 설비의 압력 표시장치에 있어서, 상기 진공라인에 연결되어서 내부 기압을 감지하는 센싱수단, 상기 센싱수단의 아날로그 출력신호를 디지털신호로 변환시키는 신호변환부 및 상기 신호변환부의 디지털 출력신호로써 현재 내부기압을 표시하는 디스플레이수단을 구비하여 이루어진다.
    따라서, 본 발명에 의하면 대기압센서에 의해 공정챔버 내부의 압력이 정밀하게 감지되어 그 크기가 수치로써 모니터에 표시되고, 내부리크 발생이 쉽게 확인되어서 신속한 조치를 취하여 시간을 절약함으로써 생산성이 향상되는 효과가 있다.

    수신기에서 캐리어 주파수 오프셋을 보상하는 방법
    117.
    发明公开
    수신기에서 캐리어 주파수 오프셋을 보상하는 방법 审中-实审
    用于补偿接收机中的载波频率偏移的方法

    公开(公告)号：KR1020170125694A

    公开(公告)日：2017-11-15

    申请号：KR1020170007241

    申请日：2017-01-16

    Applicant: 삼성전자주식회사

    Inventor： 조스,수짓 ,  바이남,키란 ,  나이르,지네쉬피 ,  고어,아슈토시디팍 ,  프스,란드라세카르데자스위 ,  박창순 ,  홍영준 ,  김영수

    IPC: H04L27/26

    Abstract: 수신기의캐리어주파수오프셋보상방법이개시된다. 일실시예는이산시간샘플들(discrete time samples)을수신하고, 상기수신된이산시간샘플들로부터샘플벡터(sample vector)를획득하며, 상기샘플벡터를기초로복수의잠정(tentative) 캐리어주파수오프셋(Carrier Frequency Offset, CFO) 추정치들을획득하고, 상기복수의잠정 CFO 추정치들로부터가장큰 보상계수를갖는 CFO를선택하고, 상기수신된이산시간샘플들에서상기 CFO를보상한다.

    Abstract translation: 公开了一种接收机的载波频率偏移补偿方法。 一个实施例包括接收离散时间样本，从接收到的离散时间样本获得样本向量，并且基于样本向量生成多个暂定载波频率偏移， 获得载波频率偏移（CFO）估计，从多个临时CFO估计中选择具有最大补偿系数的CFO，并补偿接收到的离散时间样本中的CFO。

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