奶酪样食品
    121.
    发明公开
    奶酪样食品 审中-实审

    公开(公告)号:CN118042934A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202280066098.3

    申请日:2022-09-26

    Abstract: 本发明提供能够达成以下的1)~3)的奶酪样食品。1)不易感觉到异味,2)具有顺滑的口感和清爽的酸味,3)乳化稳定性良好,所述奶酪样食品包含乳化组合物,所述乳化组合物包含1~10质量%的溶胀抑制淀粉、以固体成分计为1~10质量%的豆类,所述豆类在固体成分中包含50~90质量%的碳水化合物,其中,所述奶酪样食品的pH为3.5~7.5,水分含量为45~70质量%。

    原子层沉积法用薄膜形成用原料及薄膜的制造方法

    公开(公告)号:CN115362282B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202180025691.9

    申请日:2021-03-18

    Abstract: 本发明提供原子层沉积法用薄膜形成用原料,其含有由下述式(1)表示的化合物。#imgabs0#(式中,R1及R2各自独立地表示氢原子或碳原子数1~5的烷基,L表示下述式(L‑1)或者(L‑2)表示的基团,M表示铟原子或镓原子。)#imgabs1#(式中,R11~R12各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基,*表示与式(1)中的M的键合位置。)#imgabs2#(式中,R21~R23各自独立地表示氢原子、氟原子或碳原子数1~5的烷基,*表示与式(1)中的M的键合位置。但是,R21与R22为不同的基团)。

    化妆料用聚氨酯以及化妆料用聚氨酯的制造方法

    公开(公告)号:CN113474390B

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202080015477.0

    申请日:2020-02-17

    Abstract: 本发明提供一种化妆料用聚氨酯、制造方法、包含该化妆料用聚氨酯的化妆料,所述化妆料用聚氨酯是使如下物质进行反应而得到的重均分子量为50000~300000的化妆料用聚氨酯:(A)每一个分子具有两个以上的羟基的聚酯多元醇;(B)由碳原子数3~8的脂肪族烃基和两个羟基构成的脂肪族二醇;(C)分子内具有羧基和两个羟基且分子量为100~300的含羧基的二醇;(D)包含选自由异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯以及二环己基甲烷-4,4’-二异氰酸酯构成的组中的至少一种的二异氰酸酯;以及(E)包含选自由水、亚乙基二胺以及亚丙基二胺构成的组中的至少一种的扩链剂。

    环氧树脂用固化剂组合物、环氧树脂组合物以及涂料

    公开(公告)号:CN116601236A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202180062663.4

    申请日:2021-09-10

    Abstract: 本发明提供一种环氧树脂用固化剂组合物、包含环氧树脂用固化剂组合物的环氧树脂组合物、以及涂料,所述环氧树脂用固化剂组合物包含:作为下述通式(1)所示的化合物的(A)成分;以及作为选自由下述通式(2)和通式(3)所示的化合物构成的组中的至少一种的(B)成分,(A)成分与(B)成分的质量比为7∶3~9∶1。(式(1)中,R1和R2分别独立地表示氢原子或甲基,X1~X3分别独立地表示从多胺化合物中去除两个氨基而成的残基,n表示0~10的整数。)(式(2)中,X4表示从多胺化合物中去除两个氨基而成的残基。)(式(3)中,x表示1~6的整数,y表示1~40的整数,z表示1~6的整数。)

    蚀刻方法
    129.
    发明公开
    蚀刻方法 审中-实审

    公开(公告)号:CN116210072A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202180053507.1

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 蚀刻方法,是通过原子层蚀刻法对含有基体和在其表面形成的金属氧化膜的层叠体中的该金属氧化膜进行蚀刻的方法,其具有:在收容了该层叠体的处理气氛内导入选自醇化合物、醛化合物及酯化合物中的至少一种的被氧化性化合物的第1工序;和在该第1工序后在该处理气氛内导入氧化性气体的第2工序。

    蚀刻液组合物和蚀刻方法
    130.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110383430B

    公开(公告)日:2023-04-28

    申请号:CN201880016111.8

    申请日:2018-01-26

    Inventor: 大宫大辅

    Abstract: 提供即使不含氯化氢,蚀刻所产生的窄化宽度也较少,能够形成直线性良好且具有期望宽度的细线的对氧化铟系层的蚀刻有用的蚀刻液组合物。用于蚀刻氧化铟系层的蚀刻液组合物。含有:(A)过氧化氢0.01~15质量%;(B)硫酸1~40质量%;(C)下述通式(1)(R1、R2和R3:氢、碳原子数1~8的烷基等)所示的酰胺化合物0.01~10质量%;(D)卤化物离子供给源(其中,不包括氟化物离子供给源)0.00001~0.1质量%;(E)氟化物离子供给源0.001~1质量%;和水。

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