개선된 반사체를 구비한 중성빔 식각장치
    122.
    发明授权
    개선된 반사체를 구비한 중성빔 식각장치 失效
    具有改进反射器的中性光束蚀刻系统

    公开(公告)号:KR100722821B1

    公开(公告)日:2007-05-30

    申请号:KR1020050023781

    申请日:2005-03-22

    Abstract: 본 발명은 극성을 갖는 이온빔을 추출하는 이온소오스, 상기 이온소오스의 한쪽 단부에 위치하며, 특정 극성의 이온빔을 가속시키는 복수개의 그리드홀이 형성된 그리드 어셈블리를 구비한 중성빔 식각장치에 있어서, 상기 그리드 어셈블리의 그리드홀에 대응하는 복수개의 반사체 홀 또는 슬릿부가 형성되어 있으며, 상기 그리드홀을 통과한 이온빔을 상기 반사체 홀 또는 슬릿부 내에서 반사시켜 중성빔으로 전환시켜 주는 반사체를 포함하여 이루어진다.
    이때, 중성화 과정에서 가장 중요한 역할을 담당하는 부분인 반사체는 유리질 카본(glassy carbon)으로 이루어지거나, 반사체의 반사체 홀 또는 슬릿부 표면이 유리질 카본으로 코팅되거나 다이아몬드상카본(DLC)으로 코팅된 것을 특징으로 하는 중성빔 식각장치를 제공한다.

    개선된 반사체를 구비한 중성빔 식각장치
    123.
    发明公开
    개선된 반사체를 구비한 중성빔 식각장치 失效
    具有改进反射器的中性光束蚀刻系统

    公开(公告)号:KR1020060102042A

    公开(公告)日:2006-09-27

    申请号:KR1020050023781

    申请日:2005-03-22

    CPC classification number: H01L21/67069 H01J2237/0042

    Abstract: 본 발명은 극성을 갖는 이온빔을 추출하는 이온소오스와, 상기 이온소오스의 한쪽 단부에 위치하며, 특정 극성의 이온빔을 가속시키는 복수개의 그리드홀이 형성된 그리드 어셈블리, 상기 그리드 어셈블리의 그리드홀에 대응하는 복수개의 반사체 홀 또는 슬릿부가 형성되어 있으며, 그리드홀을 통과한 이온빔을 상기 반사체 홀 또는 슬릿부 내에서 반사시켜 중성빔으로 전환시켜주는 반사체 및, 상기 중성빔의 진행경로상에 피식각기판을 위치시킬 수 있는 스테이지를 포함하여 이루어진다.
    이때, 중성화 과정에서 가장 중요한 역할을 담당하는 부분인 반사체는 유리질 카본(glassy carbon)으로 이루어지거나, 반사체의 반사체 홀 또는 슬릿부 표면이 유리질 카본으로 코팅되거나 다이아몬드상카본(DLC)으로 코팅된 것을 특징으로 하는 중성빔 식각장치를 제공한다.

Patent Agency Ranking