公开(公告)号：US3883336A

公开(公告)日：1975-05-13

申请号：US43257374

申请日：1974-01-11

Applicant: CORNING GLASS WORKS

Inventor： RANDALL ERIC N

IPC: C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/00 ,  C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03B23/20 ,  C03B25/00 ,  C03C7/00

CPC classification number: C03C3/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B37/01413 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2207/34 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/44

Abstract: A method of producing a glass body composed of two or more oxides by the flame hydrolysis technique, for example incorporating an additive or dopant oxide in a fused silica glass body. The method comprises forming a gas stream containing vapors of a compound that will hydrolyze to a glass forming oxide, e.g., silicon tetrachloride (SiCl4), nebulizing an oxide forming compound or solution of such compound to form a mist in the nature of an aerosol, and simultaneously directing the mist and gas stream into a flame of combustible gas to form and codeposit a mixture of oxides corresponding to the vaporized and nebulized compounds.

Abstract translation: 通过火焰水解技术制造由两种或更多种氧化物组成的玻璃体的方法，例如在熔融石英玻璃体中掺入添加剂或掺杂剂氧化物。 该方法包括形成含有将水解成玻璃形成氧化物的化合物的气体的气流，例如四氯化硅（SiCl 4），使形成氧化物的化合物或这种化合物的溶液雾化以形成气溶胶性质的雾， 并同时将雾气和气流引导到可燃气体的火焰中，以形成和共存相应于蒸发和雾化的化合物的氧化物混合物。

公开(公告)号：US3850602A

公开(公告)日：1974-11-26

申请号：US31631272

申请日：1972-12-18

Applicant: HERAUS SCHOTT QUARZSCHMELZE

Inventor： BRUNING R

IPC: C03B20/00 ,  C03C1/02 ,  C03C3/06 ,  C03C6/04 ,  C03B23/20 ,  C03B5/16

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C1/02 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/10 ,  Y10S65/90

Abstract: Bubble-free and OH-free quartz glass is made from granular quartz crystal by doping quartz crystal granules with a salt whose cation is selected from the group of lithium, sodium, potassium, magnesium, calcium, strontium and silver, and having, at temperatures ranging from 800* to 1,700*C., a vapor pressure of at least 5 mm Hg, preferably of more than 100 mm Hg, or with a mixture of such salts, in a quantity corresponding at least to the OH content of the quartz crystal granules, stirring and doped quartz crystal granules for a period of at least 30 seconds in a reaction chamber heated to a temperature ranging from 800* to 1,700*C. and having an atmosphere enriched with a salt vapor, flooding the stirred quartz crystal granules with a water vaporfree gas at a temperature ranging from 800* to 1,700*C., and melting the gas-flooded quartz crystal granules in a water-vaporfree atmosphere in a known melting furnace.

Abstract translation: 通过掺杂具有阳离子选自锂，钠，钾，镁，钙，锶和银的盐的盐的石英晶体颗粒，由颗粒状石英晶体制成无气泡和无OH的石英玻璃，并且在温度 800至1700℃，蒸汽压至少为5mmHg，优选大于100mm Hg，或与这些盐的混合物，其量至少对应于石英晶体的OH含量 颗粒，搅拌和掺杂的石英晶体颗粒在加热至800至1700℃的反应室中至少30秒的时间，并且具有富含盐蒸气的气氛，将搅拌的石英晶体颗粒浸入 在800〜1700℃的温度范围内的无水蒸汽气体，并在已知的熔融炉中在无水蒸汽气氛中熔化气体淹没的石英晶体颗粒。

公开(公告)号：US2685940A

公开(公告)日：1954-08-10

申请号：US21773551

申请日：1951-03-27

Applicant: ROSSI GIOVANNI

Inventor： ROSSI GIOVANNI

IPC: B01D45/06 ,  C03C3/06 ,  C03C3/087 ,  C03C3/093 ,  F22B17/12 ,  F22B21/34 ,  F22B37/00 ,  F22B37/26 ,  F22B37/28 ,  F22D1/02 ,  F28D7/00 ,  H01J61/30

CPC classification number: F22B37/26 ,  B01D45/06 ,  C03C3/06 ,  C03C3/087 ,  C03C3/093 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/10 ,  F22B17/12 ,  F22B21/34 ,  F22B37/00 ,  F22B37/28 ,  F22D1/02 ,  F28D7/0041 ,  H01J61/302 ,  Y10T137/3003 ,  Y10T137/87249

公开(公告)号：US2134050A

公开(公告)日：1938-10-25

申请号：US12820837

申请日：1937-02-27

Applicant: KIMBROUGH WARREN C

Inventor： KIMBROUGH WARREN C

IPC: C03C3/06 ,  F17D5/02

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/10 ,  F17D5/02

公开(公告)号：JP5497247B1

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：JP2013553692

申请日：2013-02-19

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 茂 山形

IPC: C30B29/06 ,  C03B20/00 ,  C30B15/10

CPC classification number: C03B19/02 ,  C03B19/095 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C8/02 ,  C03C10/0009 ,  C03C21/008 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/54 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T117/1032

Abstract: 本発明は、内側に透明シリカガラスから成る透明層を有し、外側に気泡を含有する不透明シリカガラスから成る不透明層を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、前記透明層が、前記シリカ容器の内表面側に位置し、ＯＨ基を２００〜２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有する高ＯＨ基層と、該高ＯＨ基層よりもＯＨ基濃度が低い低ＯＨ基層とから成り、前記高ＯＨ基層がＢａを５０〜２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有するものである単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。 これにより、単結晶シリコン引き上げ用にシリカ容器を用いた場合に、該容器使用開始後短時間のうちに該容器の透明シリカガラスから成る内側表面の全面が微細結晶化（グラスセラミックス化）することにより、該容器内側表面のシリコン融液に対する耐エッチング性（耐侵食性）を大幅に向上させるようなシリカ容器、及び、そのようなシリカ容器の製造方法が提供される。

公开(公告)号：JP5001524B2

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：JP2005132925

申请日：2005-04-28

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 龍弘 佐藤 ,  逸男 荒木 ,  朗 藤ノ木

IPC: C03B32/00 ,  C03B20/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C03B32/00 ,  C03B23/20 ,  C03C3/06 ,  C03C23/007 ,  C03C23/0075 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54

Abstract: To provide a technique with which a quartz glass jig and a doped quartz glass jig are regenerated by completely removing the impurities which are attached to the surface and the impurities which have diffused into the interior from quartz glass jigs which have been used in semiconductor production processes and then carrying out working repair and removing the contamination from the working processes as well. After use, the impurities are removed from the aforementioned quartz glass jigs in the said purification treatment process which includes a purification treatment process in which the quartz glass jigs are subjected to a purification treatment in a gaseous atmosphere which includes a halogen element at a temperature within the region above a prescribed temperature.

公开(公告)号：JP2008544947A

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：JP2008520259

申请日：2006-06-23

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： イー アーディナ，ケネス ,  イー コーンク，グレン ,  エル シーフェルベイン，スーザン ,  エム スミス，チャーリーン ,  ノイキルヒ，ウルリッヒ ,  シー ブックバインダー，ダナ ,  エイ ムーア，リサ

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/54

Abstract: 特に約１９３ｎｍで低フルエンス依存性透過率を持つ合成シリカ材料およびその製造方法が本願に開示されている。 このガラスは、約２４８ｎｍで稼働されたときに、２９０および３９０ｎｍで低レベルの蛍光を発することが望ましいであろう。 このガラスは、低レベルのＬＩＷＦＤ、［ＳｉＨ
* ］および／または［ＯＤＣ］を示すことが望ましいであろう。

公开(公告)号：JP4169325B2

公开(公告)日：2008-10-22

申请号：JP2002224032

申请日：2002-07-31

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 龍弘 佐藤 ,  朗 藤ノ木

IPC: C03B20/00 ,  C03B25/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B32/00 ,  C03B25/00 ,  C03B2201/03 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：EP3390296A2

公开(公告)日：2018-10-24

申请号：EP16809881.2

申请日：2016-12-16

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar ,  SÖHN, Matthias

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  C03B19/10 ,  C03B17/04

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B17/04 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1095 ,  C03B37/01211 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/50

Abstract: The invention relates to a method for producing a silica glass article, involving method steps i.) providing a silica granulate which is made from pyrogenic silica powder and has a BET surface area ranging from 20 to 40 m2/g, ii.) forming a glass melt from the silica granulate in a furnace, and iii.) forming a silica glass article from at least some of the glass melt, the furnace including at least a first chamber and another chamber which are connected to one another by a passage, the temperature in the first chamber being lower than the temperature in the other chamber. The invention further relates to a silica glass article that can be obtained by said method. The invention also relates to an optical waveguide, an illuminant and a molded article, each of which can be obtained by further processing the silica glass article.

公开(公告)号：EP2070883B1

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：EP07807048.9

申请日：2007-09-11

Applicant: Tosoh Corporation ,  Tosoh Sgm Corporation

Inventor： ARAI, Kazuyoshi ,  TAKAHATA, Tsutomu ,  HASIMOTO, Shinkichi ,  UCHIDA, Masato ,  YAMADA, Nobusuke ,  HARADA, Yoshinori ,  HORIKOSHI, Hideharu

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/06 ,  C03C4/10

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57