公开(公告)号：EP0129150A2

公开(公告)日：1984-12-27

申请号：EP84106461.1

申请日：1984-06-06

Applicant: DEUTSCHE FORSCHUNGSANSTALT FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT e.V.

Inventor： Tank, Volker

IPC: G01J5/00

CPC classification number: G01J5/602 ,  G01J5/0871 ,  G01J5/522 ,  G01J2005/0051 ,  G01J2005/0074

Abstract: Es sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zur berührungslosen, emissionsgradunabhängigen Strahlungsmessung der Temperatur T eines natürlichen oder künstlichen Objektes sowie ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung des Emissionsgrades eines Objektes im Infraroten und/oder Sichtbaren geschaffen, wobei zur Bestimmung des Emissionsgrades in einem (abgeschlossenen, innen schwarzen) Meßgehäuse mit der Temperatur T G e h das Objekt auf eine höhere Temperatur geheizt wird. Zur Temperaturmessung und/oder Emissionsgradmessung wird jeweils eine Strahlungsmessung in zwei oder mehr begrenzten Spektralbereichen durchgeführt, in welchen der Transmissionsgrad der Atmosphäre bzw. der Atmosphäre im Gehäuse zumindest annähernd gleich eins (1) ist. Zur Bestimmung der Temperatur T und/oder des Emissionsgrades ∈ des Objektes gegebenenfalls auch der Temperatur des Gehäuses wird zu den in jeweils einem einzigen Meßgang in den verschiedenen Spektralbereichen gemessenen Intensitäten eine Strahldichtekurve berechnet, die durch die gemessenen Intensitäten verläuft. Dazu wird durch Iterationsrechnung mit Hilfe des Planck'schen Strahlungsgesetzes diese Strahlungsdichtekurve dergestalt berechnet, daß sie die Summe der Strahldichte des Objektes (mit der Temperatur Tobj und dem Emissionsgerad ∈) und der Strahldichte der Umgebung (mit der Temperatur Tumg) bzw. der Strahldichte des Gehäuses (mit der Temperatur TGeh). reflektiert am Objekt (mit dem Reflexionsgrad des Objektes), ist.

Abstract translation: 有非接触的发射率独立辐射测量天然或人造物体的温度T以及一种方法和用于确定在红外和/或可见光创建的Öbjektes的发射率的设备的方法和装置，所述关闭的发射率在判断（， ）测定壳体与温度TGEH对象被加热到内部黑色更高的温度。 为了测量温度和/或发射率测量辐射测量是在两个或更多个限定的光谱范围进行每种情况下在其中气氛的透射率或大气在所述壳体至少近似等于一（1）。 以确定的温度T和/或对象也可能在壳体的温度的发射率ε，光束密度曲线被计算，在每个情况下，单个Meßgang在通过测量强度的不同光谱强度的测定。 为了这个目的，该物体的光束密度的总和由迭代计算与辐射的普朗克定律的辅助下计算的，以这样的方式该辐射密度曲线（随温度TObj和发射直ε）和环境（具有温度环境温度Tamb）的光束密度和的光束密度的 壳体（随温度TGEH），反射的物体（与对象的反射率），是。

公开(公告)号：JP6167795B2

公开(公告)日：2017-07-26

申请号：JP2013196312

申请日：2013-09-23

Applicant: ブラザー工業株式会社

Inventor： 篠田 健太郎 ,  金田 英樹 ,  滝 和也

IPC: G01J5/00 ,  C23C16/511 ,  H05H1/00 ,  H05H1/46 ,  C23C16/52

CPC classification number: C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  G01J5/0003 ,  G01J5/0044 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299 ,  G01J2005/0048 ,  G01J2005/0074

公开(公告)号：JP6123460B2

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：JP2013093852

申请日：2013-04-26

Applicant: 株式会社ジェイテクト

Inventor： 松本 直樹 ,  吉田 航也 ,  松本 順

IPC: G01N25/72

CPC classification number: G01N25/72 ,  B23K26/032 ,  B23K31/125 ,  G01K15/005 ,  G01N21/63 ,  G01N21/71 ,  G01R31/048 ,  G01R31/308 ,  G01J2005/0074

公开(公告)号：JP2015061930A

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：JP2013196312

申请日：2013-09-23

Applicant: ブラザー工業株式会社

Inventor： 篠田 健太郎 ,  金田 英樹 ,  滝 和也

IPC: G01J5/00 ,  C23C16/511 ,  H05H1/00 ,  H05H1/46 ,  C23C16/52

CPC classification number: C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  G01J5/0003 ,  G01J5/0044 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299 ,  G01J2005/0048 ,  G01J2005/0074

Abstract: 【課題】被加工材料の放射率と異なる放射率を有する膜の成膜中における被加工材料の表面温度を、放射温度計を用いて低誤差で測定することが可能となる成膜装置を提供する。 【解決手段】処理容器内に配置された被加工材料の処理表面に沿ってプラズマを生成させるためのマイクロ波をマイクロ波供給口を介して供給するマイクロ波供給部と、被加工材料の処理表面に沿うシース層を拡大させる負のバイアス電圧を負電圧電極を介して被加工材料に印加する負電圧印加部と、処理容器に設けられた窓部の外側に配置されて被加工材料の処理表面の温度を測定する放射温度計と、成膜処理経過に応じて被加工材料の第1放射率と被加工材料の処理表面に成膜される皮膜の第2放射率とに基づいて設定された補正放射率と放射温度計の出力温度と放射温度計に設定された温度計設定放射率とを基に、成膜処理中における被加工材料の処理表面の表面温度を算出する温度算出部と、を備える。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够使用辐射温度计在低误差沉积具有与工件材料的发射率不同的发射率的膜时能够测量工件材料的表面温度的成膜装置。解决方案：成膜装置包括： 微波供应部件，用于经由微波供给口沿着布置在处理容器中的工件材料的处理表面供给微波以产生等离子体; 负电压施加部，用于施加负偏压，以通过负电压电极将沿着工件材料的加工表面的护层扩大到工件材料; 布置在设置在处理容器中的窗口部分外部并测量工件材料的处理表面的温度的辐射温度计; 以及温度计算部件，用于基于基于工件材料的第一发射率设定的校正发射率和沉积在工件材料的处理表面上的膜的第二发射率来计算膜沉积处理中的工件材料的处理表面的表面温度 工件材料，辐射温度计的输出温度，以及辐射温度计上设置的温度计设定辐射率，根据薄膜沉积处理的经过。

公开(公告)号：JPS6186621A

公开(公告)日：1986-05-02

申请号：JP20719184

申请日：1984-10-04

Applicant: Sumitomo Metal Ind Ltd

Inventor： HIRAMOTO KAZUO ,  TAMURA YOICHI

IPC: G01J5/00

CPC classification number: G01J5/08 ,  G01J5/0821 ,  G01J5/0896 ,  G01J2005/0051 ,  G01J2005/0074

Abstract: PURPOSE:To lower the effect of noise light and to make it possible to measure the emissivity and temperature of a material to be measured on a surface having diffusing property highly accurately, by projecting light on the material to be measured along the normal line, and measuring the projected light and the reflected light along the normal line. CONSTITUTION:The sum K of a known reflectivity rhon and a known emissivity epsilonn of a body in the normal direction is obtained beforehand. by using a reference reflecting plate having the reflectivity rhon=1, the amount of light L0 of a light source 32 is measured. The amount of light L1 from a surface 34 of a material to be measured is measured by a radiometer 40. Then the amount of light L2 from the surface 34 of the material to be measured when the light is not projected is measured by the radiometer 40. In this way, the reflectivity rhon of the surface 34 of the material to be measured 30 in the normal direction is obtained by an expression rhon=(L1-L2)/L0. by subtracting the obtained rhon from the sum K, the emissivity epsilonn can be obtained. Based on a luminance temperature obtained from the amount of light L2 and the emissivity epsilonn, the accurate temperature T of the material to be measured 30 can be found based on Ta=A.epsilonn.T (where A is a proportional constant).

Abstract translation: 目的：为了降低噪声光的影响，能够通过沿正常的方向将被测量材料投射到正常线上，在高度精确地扩散的表面上测量待测材料的发射率和温度，以及 沿着法线测量投影光和反射光。 构成：事先获得已知反射率韵律和身体在正常方向上的已知发射率ε的总和K. 通过使用具有反射率rhon = 1的参考反射板，测量光源32的光量L0。 通过辐射计40测量来自待测材料表面34的光L1的量。然后，通过辐射计40测量当未投射光时被测材料的表面34的光L2的量 以这种方式，通过表达式rhon =（L1-L2）/ L0获得待测材料30的表面34在法线方向上的反射率rhon。 通过从总和K中减去所获得的rhon，可以获得发射率ε。 基于从光量L2和发射率εn获得的亮度温度，可以基于Ta = A.epsilon.T（其中A是比例常数）找到待测量材料30的精确温度T.

公开(公告)号：JPS6184528A

公开(公告)日：1986-04-30

申请号：JP20673184

申请日：1984-10-02

Applicant: Chino Works Ltd

Inventor： HISHIKARI ISAO ,  KOBARI TETSUO ,  ISHIGE MITSUO

IPC: G01J5/00

CPC classification number: G01J5/08 ,  G01J5/0896 ,  G01J2005/0051 ,  G01J2005/0074 ,  G01J2005/0081

Abstract: PURPOSE:To measure with a high accuracy the temp. distribution on the wide range of a semi-transparent measuring body with a simple constitution by finding an emissivity with the use of two radiation sources and scanning type radiation thermometer, then by measuring the temp. CONSTITUTION:A scanning type radiation thermometer 2 scans the width direction of a film like semi-transparent measuring body 1 and detects the radiant energy emitted from the measuring body 1. The first and the second radiation sources 31, 32 are located at both sides with sandwiching the measuring body 1 on the scanning line of the thermometer 2 and radiates a radiant energy on the scanning zone of the thermometer 2. An arithmetic means 4 performs the prescribed operation with the output signal being supplied from the thermometer 2. The emissivity of the measuring body is found and the temp. is operated based on 1st detection value of the time when the radiant energy emitted from the measuring body 1 is made incident, the second detection value of the time when the radiant energy emitted from 1st radiation source 31 is made incident with being reflected on the measuring body 1 and the third detection value of the time when the radiant energy emitted from the second radiation source 32 is made incident with penetrating the measuring body.

Abstract translation: 目的：以高精度测量温度。 通过使用两个辐射源和扫描型辐射温度计发现辐射率，通过简单的结构分布在宽范围的半透明测量体上，然后测量温度。 构成：扫描型辐射温度计2扫描像半透明测量体1的膜的宽度方向，并检测从测量体1发射的辐射能。第一和第二辐射源31,32位于两侧 将测量体1夹在温度计2的扫描线上并在温度计2的扫描区域辐射辐射能。算术装置4用从温度计2输出的输出信号执行规定的操作。发射率 测量体被发现， 基于从测量体1发射的辐射能入射的时间的第一检测值进行操作，当从第一辐射源31发射的辐射能入射时的第二检测值入射到测量体 主体1和从第二辐射源32发射的辐射能量穿过测量体入射的时间的第三检测值。

公开(公告)号：JPS6179123A

公开(公告)日：1986-04-22

申请号：JP20281884

申请日：1984-09-27

Applicant: Chino Works Ltd

Inventor： HISHIKARI ISAO ,  KOBARI TETSUO ,  ISHIGE MITSUO

IPC: G01J5/00

CPC classification number: G01J5/0022 ,  G01J5/08 ,  G01J5/0831 ,  G01J5/0896 ,  G01J2005/0051 ,  G01J2005/0074 ,  G01J2005/068

Abstract: PURPOSE:To easily measure the emissivity and temperature of an object body by calculating the emissivity on the basis of the relation between a difference between a detected value when radiant energy is incident and a detected value when not and the emissivity of the object body, and calculating the temperature from it. CONSTITUTION:A scan type radiation thermometer 2 which scans the object body 1 to detect radiant energy from it and radiation sources 31 and 32 which radiates radiant energy to the object body 1 in the scanning area of the thermometer 2 are provided. Then, a coefficient of correction as the ratio of the difference between the detected value when the radiant energy from the radiation sources 31 and 32 which is reflected by the object body 1 is incident on the thermometer 2 and that when not and a value regarding the temperature of the radiation sources is in specific relation with the emissivity of the object body 1, so the emissivity is calculated from it, and an arithmetic means 6 calculates the temperature of the object body 1. Consequently, a correct temperature distribution after the emissivity of the object body 1 is corrected is measured through the simple constitution.

Abstract translation: 目的：通过基于入射辐射能量的检测值与不对象检测值与物体的发射率之间的关系计算发射率，轻松测量物体的发射率和温度，以及 从它计算温度。 构成：提供扫描对象体1以检测其物体辐射能的扫描型辐射温度计2以及在温度计2的扫描区域中向物体1辐射辐射能的辐射源31,32。 然后，校正系数作为当由物体1反射的来自辐射源31和32的辐射能量之间的检测值之间的差异入射到温度计2上时的系数，以及当不是和关于 辐射源的温度与物体1的发射率具有特定关系，因此从其计算出发射率，并且运算装置6计算物体1的温度。因此，在发射率之后的正确的温度分布 通过简单的结构来测量物体1的校正。

公开(公告)号：TWI585880B

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：TW101141179

申请日：2012-11-06

Applicant: 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： 羅吉斯馬修史考特 ,  ROGERS, MATTHEW SCOTT ,  杭特亞倫穆爾 ,  HUNTER, AARON MUIR ,  莫非特史帝夫 ,  MOFFATT, STEPHEN ,  潘恒 ,  PAN, HENG

IPC: H01L21/67 ,  G01K11/00 ,  G01K13/00

CPC classification number: G01J5/08 ,  G01J5/0007 ,  G01J5/0803 ,  G01J2005/0074 ,  G01J2005/0077

公开(公告)号：TW436612B

公开(公告)日：2001-05-28

申请号：TW087119317

申请日：1998-11-21

Applicant: 奧美加工程公司

Inventor： 米爾敦伯納何蘭德 ,  麥克麥奇瑞里二世 ,  沙因.巴格海

IPC: G01J ,  G01R

CPC classification number: G01J5/02 ,  G01D21/02 ,  G01J5/025 ,  G01J5/0265 ,  G01J5/04 ,  G01J5/08 ,  G01J5/0846 ,  G01J5/0859 ,  G01J5/089 ,  G01J5/0893 ,  G01J5/0896 ,  G01J2005/0074 ,  G01J2005/0081 ,  G01K1/143 ,  G01K13/00 ,  G01R15/125

Abstract: 本發明提供在一個結構中的萬用錶和裝置之組合，其中該裝置帶有可決定在距離表面一定距離觀察之輻射非接觸測量的裝置。此結構進一步包括透過直接接觸確定表面該溫度的裝置。此非接觸裝置可帶有光學觀察裝置和雷射觀察裝置，和可確定表面發射率之裝置。可設置記錄裝置，如數字記錄器。語音輸出可被設置以對應於確定之溫度，同時此語音輸出包括綜合語音輸出。方便的是，此裝置可適於手持，例如手槍柄，和/或在三腳架上固定。分別由遠紅外輻射和直接接觸得到之溫度被分別顯示。此萬用錶和溫度結構具有透過語音命令控制之裝置。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供在一个结构中的万用表和设备之组合，其中该设备带有可决定在距离表面一定距离观察之辐射非接触测量的设备。此结构进一步包括透过直接接触确定表面该温度的设备。此非接触设备可带有光学观察设备和激光观察设备，和可确定表面发射率之设备。可设置记录设备，如数字记录器。语音输出可被设置以对应于确定之温度，同时此语音输出包括综合语音输出。方便的是，此设备可适于手持，例如手枪柄，和/或在三脚架上固定。分别由远红外辐射和直接接触得到之温度被分别显示。此万用表和温度结构具有透过语音命令控制之设备。

公开(公告)号：TW201732985A

公开(公告)日：2017-09-16

申请号：TW106113014

申请日：2012-11-06

Applicant: 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： 羅吉斯馬修史考特 ,  ROGERS,MATTHEW SCOTT ,  杭特亞倫穆爾 ,  HUNTER,AARON MUIR ,  莫非特史帝夫 ,  MOFFATT,STEPHEN ,  潘恒 ,  PAN,HENG

IPC: H01L21/67 ,  G01K11/00 ,  G01K13/00

CPC classification number: G01J5/08 ,  G01J5/0007 ,  G01J5/0803 ,  G01J2005/0074 ,  G01J2005/0077

Abstract: 本發明之實施例大致上關於用以測量及監控基板之溫度之設備及方法，該基板上具有三維(3D)特徵結構。設備包含光源、聚焦透鏡及輻射率計，該光源用以照射基板，該基板上具有3D特徵結構，該聚焦透鏡用以聚集且聚焦反射光，該輻射率計用以偵測該聚焦反射光之輻射率。設備亦包含光束分光器及成像裝置。成像裝置提供反射光之繞射圖案之放大影像。方法包含以光照射基板，該基板上具有3D特徵結構，且以聚焦透鏡聚焦反射光。然後聚焦光導向感測器且測量基板之輻射率。反射光亦入射成像裝置，以產生反射光之繞射圖案之放大影像。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之实施例大致上关于用以测量及监控基板之温度之设备及方法，该基板上具有三维(3D)特征结构。设备包含光源、聚焦透镜及辐射率计，该光源用以照射基板，该基板上具有3D特征结构，该聚焦透镜用以聚集且聚焦反射光，该辐射率计用以侦测该聚焦反射光之辐射率。设备亦包含光束分光器及成像设备。成像设备提供反射光之绕射图案之放大影像。方法包含以光照射基板，该基板上具有3D特征结构，且以聚焦透镜聚焦反射光。然后聚焦光导向传感器且测量基板之辐射率。反射光亦入射成像设备，以产生反射光之绕射图案之放大影像。