化學程序廠之線上控制法 ON-LINE CONTROL OF A CHEMICAL PROCESS PLANT
    124.
    发明专利
    化學程序廠之線上控制法 ON-LINE CONTROL OF A CHEMICAL PROCESS PLANT 失效
    化学进程厂之在线控制法 ON-LINE CONTROL OF A CHEMICAL PROCESS PLANT

    公开(公告)号:TWI266769B

    公开(公告)日:2006-11-21

    申请号:TW091124215

    申请日:1998-01-26

    IPC: C08F G05B

    Abstract: 提供製造鹵化丁基橡膠的程序廠之線上監視及程序參數控制法,以控制產物之品質,其中包括一種現場的測定系統,不需要從程序中取出任何的樣品,使用Fourier Transform Near Infrared(FTNIR)光度計、光纖纜線、測量溶液黏度之黏度計及測量溫度之Resistance Temperature Device(RTD),使用Constrained Principal Spectral Analysis程式之線上即時分析儀系統可預測聚合產物之性質,使用聚合物的物理性質與這些光譜量測及流體黏度與溫度測量值的衍生關係,分析數據而提供程序控制系統,使用產物的預測及所需性質之差異控製程序參數,此方法可用於多種化學程序廠。

    Abstract in simplified Chinese: 提供制造卤化丁基橡胶的进程厂之在线监视及进程参数控制法,以控制产物之品质,其中包括一种现场的测定系统,不需要从进程中取出任何的样品,使用Fourier Transform Near Infrared(FTNIR)光度计、光纤缆线、测量溶液黏度之黏度计及测量温度之Resistance Temperature Device(RTD),使用Constrained Principal Spectral Analysis进程之在线实时分析仪系统可预测聚合产物之性质,使用聚合物的物理性质与这些光谱量测及流体黏度与温度测量值的衍生关系,分析数据而提供进程控制系统,使用产物的预测及所需性质之差异控制程序参数,此方法可用于多种化学进程厂。

    化學程序廠之線上控制法
    125.
    发明专利
    化學程序廠之線上控制法 失效
    化学进程厂之在线控制法

    公开(公告)号:TW558557B

    公开(公告)日:2003-10-21

    申请号:TW086120089

    申请日:1998-01-26

    Abstract: 提供製造鹵化丁基橡膠的程序廠之線上監視及程序參數控制法,以控制產物之品質,其中包括一種現場的測定系統,不需要從程序中取出任何的樣品,使用Fourier Transform Near Infrared (FTNIR)光度計、光纖纜線、測量溶液黏度之黏度計及測量溫度之Resistance Temperature Device (RTD),使用constrained Principal Spectral Analysis程式之線上即時分析儀系統可預測聚合產物之性質,使用聚合物的物理性質與這些光譜量測及流體黏度與溫度測量值的衍生關係,分析數據而提供程序控制系統,使用產物的預測及所需性質之差異控製程序參數,此方法可用於多種化學程序廠。

    Abstract in simplified Chinese: 提供制造卤化丁基橡胶的进程厂之在线监视及进程参数控制法,以控制产物之品质,其中包括一种现场的测定系统,不需要从进程中取出任何的样品,使用Fourier Transform Near Infrared (FTNIR)光度计、光纤缆线、测量溶液黏度之黏度计及测量温度之Resistance Temperature Device (RTD),使用constrained Principal Spectral Analysis进程之在线实时分析仪系统可预测聚合产物之性质,使用聚合物的物理性质与这些光谱量测及流体黏度与温度测量值的衍生关系,分析数据而提供进程控制系统,使用产物的预测及所需性质之差异控制程序参数,此方法可用于多种化学进程厂。

    用於低透射率樣本之分析物檢測的雙光束傅利葉轉換紅外線光譜儀方法及裝置
    126.
    发明专利
    用於低透射率樣本之分析物檢測的雙光束傅利葉轉換紅外線光譜儀方法及裝置 有权
    用于低透射率样本之分析物检测的双光束傅利叶转换红外线光谱仪方法及设备

    公开(公告)号:TW541417B

    公开(公告)日:2003-07-11

    申请号:TW090113283

    申请日:2001-06-01

    Inventor: 馬丁 歐尼爾

    Abstract: 本發明提供一種用以決定低透射率樣本中的至少一分析物之存在及/或分析物之濃度之方法與裝置。在本方法中,順向光束與逆向光束係從至少一紅外線輻射源而由干涉儀所產生或被導入至干涉儀中。順向光束係進入樣本中,然後被收集以產生樣本光束,而逆向光束係進入參考物,然後被收集以提供參考光束。樣本與參考光束係以光學方式再結合成於單一檢波器受到偵測之空光束(null beam),或在兩個分離檢波器上偵測後以電子方式被清空。樣本中之至少一分析物之存在與通常之數量,係接著從偵測到的空光束導出。本發明亦提供實現上述方法之裝置。上述本方法與裝置係適合使用於各種應用中,包含偵測例如血液、組織或其衍生物之生理樣本中的一個或更多血液分析物之存在與數量。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用以决定低透射率样本中的至少一分析物之存在及/或分析物之浓度之方法与设备。在本方法中,顺向光束与逆向光束系从至少一红外线辐射源而由干涉仪所产生或被导入至干涉仪中。顺向光束系进入样本中,然后被收集以产生样本光束,而逆向光束系进入参考物,然后被收集以提供参考光束。样本与参考光束系以光学方式再结合成於单一检波器受到侦测之空光束(null beam),或在两个分离检波器上侦测后以电子方式被清空。样本中之至少一分析物之存在与通常之数量,系接着从侦测到的空光束导出。本发明亦提供实现上述方法之设备。上述本方法与设备系适合使用于各种应用中,包含侦测例如血液、组织或其衍生物之生理样本中的一个或更多血液分析物之存在与数量。

    邁克爾生干涉儀
    127.
    发明专利
    邁克爾生干涉儀 失效
    迈克尔生干涉仪

    公开(公告)号:TW228568B

    公开(公告)日:1994-08-21

    申请号:TW081106083

    申请日:1992-07-31

    IPC: G01J G01B

    CPC classification number: G01J3/06 G01J3/453

    Abstract: 一種邁克爾生干涉儀(IF)之每一臂中,一所具光圈平面垂直地對準光軸的後向反射器(110;110')係裝置在一個別的固定器(106;106'),該固定座依序係堅固地接至可旋轉地裝置在一連接構件(103;103')內的一軸(105;105')之一端。第一齒輪(1071;1071')係固定於該軸(105;105')的另一端,而該第一齒輪係經由一有齒帶(109;109')而耦合至結構相同的第二齒輪(107;107'),該第二齒輪與電動馬達(101;101')之驅動軸(102;102')同心,且係牢固地與其機殼(1010;1010')連接。距該軸(105;105')一預定的距離驅動軸(102;102')係固定地接至連接構件(103;103'),以致在該馬達驅動軸(102;102')轉動時,光路的長度在一干涉儀的臂內會縮短,而在另一干涉儀的臂內則會隨其同步地伸長,反之亦然。
    另外,兩後向反射器(110,110')的光圈平面係經常保持不變而垂直地對準該光軸(第2圖)。

    Abstract in simplified Chinese: 一种迈克尔生干涉仪(IF)之每一臂中,一所具光圈平面垂直地对准光轴的后向反射器(110;110')系设备在一个别的固定器(106;106'),该固定座依序系坚固地接至可旋转地设备在一连接构件(103;103')内的一轴(105;105')之一端。第一齿轮(1071;1071')系固定于该轴(105;105')的另一端,而该第一齿轮系经由一有齿带(109;109')而耦合至结构相同的第二齿轮(107;107'),该第二齿轮与电动马达(101;101')之驱动轴(102;102')同心,且系牢固地与其机壳(1010;1010')连接。距该轴(105;105')一预定的距离驱动轴(102;102')系固定地接至连接构件(103;103'),以致在该马达驱动轴(102;102')转动时,光路的长度在一干涉仪的臂内会缩短,而在另一干涉仪的臂内则会随其同步地伸长,反之亦然。 另外,两后向反射器(110,110')的光圈平面系经常保持不变而垂直地对准该光轴(第2图)。

    干渉計
    129.
    发明专利
    干渉計 审中-公开

    公开(公告)号:JP2017523441A

    公开(公告)日:2017-08-17

    申请号:JP2017527978

    申请日:2015-08-19

    Abstract: 本発明は、干渉計であって、第1の干渉計アームと第2の干渉計アームとを備え、第1の干渉計アーム及び第2の干渉計アームは、結像対象物の中心画素から出射する第1の中心ビームが第1の干渉計アームを通過し、結像対象物の中心画素から出射する第2の中心ビームが第2の干渉計アームを通過するように配置され、第1の中心ビーム及び第2の中心ビームは、それぞれ第1及び第2の干渉計アームを通過した後に重複され、第1の中心ビームと第2の中心ビームとの重複点でk垂直=0−干渉を生成し、結像される原画像の画素から出射する第1の中心ビームは、第1の干渉計アームを通過し、結像される原画像の画素から出射する第2の中心ビームは、第2の干渉計アームを通過し、結像される原画像の画素から出射する第1のビーム及び前記第2のビームは、それぞれ第1及び第2の干渉計アームを通過した後、第1の中心ビームと第2の中心ビームとの重複点で重複され、第2の中心ビームが第2の干渉計アームを通過し、重複点で第1の中心ビームに対して垂直な第1のビームの波数ベクトル成分と第2の中心ビームに対して垂直な第2の波数ベクトル成分とが逆方向であるように配置される干渉計、に関する。本発明は更に、本発明による干渉計を使用して測定された原画像を再構成する方法に関する。本発明は更に、本発明による干渉計を較正する方法に関する。

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