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    形成及分析經摻雜矽之方法
    131.
    发明专利
    形成及分析經摻雜矽之方法 审中-公开
    形成及分析经掺杂硅之方法

    公开(公告)号：TW201432795A

    公开(公告)日：2014-08-16

    申请号：TW102145691

    申请日：2013-12-11

    Applicant: 漢洛克半導體公司 ,  HEMLOCK SEMICONDUCTOR CORPORATION

    Inventor： 克雷宙斯基 道格拉斯 后默 ,  KRESZOWSKI, DOUGLAS HOMER ,  藍尼 伊莎貝絲 ,  LANNING, ELIZABETH

    IPC: H01L21/22 ,  H01L21/66

    CPC classification number: C30B13/10 ,  C01B33/02 ,  C30B29/06 ,  G01N21/274 ,  G01N21/278 ,  G01N21/6489 ,  G01N2201/127

    Abstract: 本發明係關於形成及分析經摻雜單晶矽的方法，其分別包括提供容器、矽顆粒、摻雜劑及浮區熔裝置的步驟。用於各方法之容器包括矽及界定一空腔。該等方法分別進一步包括組合該矽顆粒及該摻雜劑以形成經處理之矽顆粒，及將該經處理之矽顆粒置於該容器之該空腔內的步驟。該等方法還進一步包括利用該浮區熔裝置浮區熔處理該容器及該經處理之矽顆粒成經摻雜單晶矽的步驟。該分析方法進一步包括提供一種儀器的步驟。該分析方法還進一步包括從該經摻雜單晶矽移除一片，及利用該儀器測定該片中之該摻雜劑的濃度的步驟。該等方法適用於形成及分析具有不同類型及/或濃度之摻雜劑的單晶矽。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于形成及分析经掺杂单晶硅的方法，其分别包括提供容器、硅颗粒、掺杂剂及浮区熔设备的步骤。用于各方法之容器包括硅及界定一空腔。该等方法分别进一步包括组合该硅颗粒及该掺杂剂以形成经处理之硅颗粒，及将该经处理之硅颗粒置于该容器之该空腔内的步骤。该等方法还进一步包括利用该浮区熔设备浮区熔处理该容器及该经处理之硅颗粒成经掺杂单晶硅的步骤。该分析方法进一步包括提供一种仪器的步骤。该分析方法还进一步包括从该经掺杂单晶硅移除一片，及利用该仪器测定该片中之该掺杂剂的浓度的步骤。该等方法适用于形成及分析具有不同类型及/或浓度之掺杂剂的单晶硅。

    表面プラズモン共鳴バイオセンサシステムの機器依存パラメータを決定する方法
    132.
    发明专利
    表面プラズモン共鳴バイオセンサシステムの機器依存パラメータを決定する方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018532127A

    公开(公告)日：2018-11-01

    申请号：JP2018537726

    申请日：2016-10-12

    Applicant: ジーイー・ヘルスケア・バイオサイエンス・アクチボラグ

    Inventor： ポル,エワ

    IPC: G01N33/543 ,  G01N21/41

    CPC classification number: G01N21/553 ,  G01N21/274 ,  G01N33/6803 ,  G01N2201/127

    Abstract: 表面プラズモン共鳴(SPR)バイオセンサシステムの機器依存パラメータを決定する方法は、a)既知の分子量、既知の拡散定数、既知の屈折率増分および既知の濃度を有する、較正ステップで使用するための検体を特定するステップ(S1);b)ステップa)で特定された検体および検体が結合することができるチップを使用する既知の方法に従って、好ましくは較正不要濃度分析に従って、SPRバイオセンサシステムを使用して検体の活性濃度を測定するステップ(S3)であって、前記既知の方法は、それぞれの特定の機器、チップおよびフローセルの組合せに適合しない機器依存定数の使用を含む、ステップ(S3);c)検体の既知の濃度をステップb)で取得した活性濃度と比較するステップ(S5);およびd)ステップc)での比較の結果に従って、活性濃度を測定するための既知の方法で使用される機器依存定数を調整するステップ(S7)を含む。 【選択図】図1

    検量装置、及び、検量線作成方法
    135.
    发明专利
    検量装置、及び、検量線作成方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018054304A

    公开(公告)日：2018-04-05

    申请号：JP2016186723

    申请日：2016-09-26

    Applicant: セイコーエプソン株式会社

    Inventor： 倉沢 光

    IPC: G01N21/27

    CPC classification number: G01N21/274 ,  G01N21/35 ,  G01N2201/127 ,  G01N2201/1293

    Abstract: 【課題】複数の成分に由来する測定データが「互いに統計的に独立である」という条件を満たさない場合にも、目的成分の検量を精度良く実行できる技術を提供する。 【解決手段】検量用データ取得部は、(a)Q個の光学スペクトルとS個の評価用スペクトルと目的成分の参照スペクトルを取得し、(b)光学スペクトルの集合からR個の部分集合を抽出し、(c)各部分集合に対して成分量を独立成分とする独立成分分析を実行して成分固有スペクトルと成分検量用スペクトルを取得し、(d)成分検量用スペクトルと評価用スペクトルとの内積値を求め、(e)各成分検量用スペクトルに関して目的成分の成分量と内積値との相関度を求め、(f)各成分固有スペクトルとと参照スペクトルの類似度を求め、(g)相関度と類似度の総合評価値が最高となるものを目的成分検量用スペクトルとして選択し、(h)検量線を作成する。 【選択図】図8

    光学的関心領域を測定する方法およびシステム
    136.
    发明专利
    光学的関心領域を測定する方法およびシステム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018504606A

    公开(公告)日：2018-02-15

    申请号：JP2017541263

    申请日：2016-02-05

    Applicant: ライフ テクノロジーズ コーポレーション

    Inventor： チュー, ヨン

    IPC: G01N21/64

    CPC classification number: G01N21/763 ,  G01N21/274 ,  G01N21/6428 ,  G01N21/6452 ,  G01N21/6456 ,  G01N21/77 ,  G01N2021/7786 ,  G01N2201/127 ,  G06K9/00134 ,  G06K9/0014 ,  G06K9/3233

    Abstract: 本教示は、実験室用機器の1つ以上の生体試料に関する関心領域(ROI)を測定する方法(300)およびシステムに関する。この方法は、複数のサンプル・ウェル(210)からの蛍光発光をイメージングすることのできる光学系(200)を含んでいてもよい。初期ROIは、その中心位置(310)およびサイズ(320)を、各ウェルから検出される蛍光から推定可能である。この情報から、ROIの平均的サイズを測定可能であり、かつ、広域グリッディング・モデルを導出して、ROIのそれぞれをより良好に位置決めすることが可能である。ついで、この広域グリッディング・モデルをROIに適用して、ROIの中心位置の精度を向上させることができる。マッピング関数を用いることにより、本来蛍光ROIを示さないサンプル・ウェルを修復することができる。ついで、各ROIの半径を調整して、光学系のシグナル対ノイズ比を向上させることができる。

    潤滑油劣化センサ
    138.
    发明专利
    潤滑油劣化センサ 有权

    公开(公告)号：JPWO2015060444A1

    公开(公告)日：2017-03-09

    申请号：JP2015543935

    申请日：2014-10-24

    Applicant: ナブテスコ株式会社

    Inventor： 康仁 井田 ,  康仁 井田

    IPC: G01N21/27 ,  G01N21/59

    CPC classification number: G01N21/25 ,  G01N21/255 ,  G01N21/8507 ,  G01N33/2888 ,  G01N2201/127

    Abstract: 外部装置を用いずに潤滑油の劣化度を判定することができる潤滑油劣化センサを提供する。潤滑油劣化センサは、検出対象の潤滑油が入る油浸入間隙と、油浸入間隙に対し検出光を出射するLED(21)と、潤滑油を透過した検出光の色情報を表す検出値を取得するカラーセンサ(22)と、検出値の測定範囲を検出対象の潤滑油に応じて校正する校正部と、検出値に基づいて潤滑油の劣化度を判定する判定部と、ハウジングとを備える。ハウジングには、油浸入間隙と、LED(21)と、カラーセンサ(22)と、校正部と、判定部と、が収容されている。

    全酸化性物質濃度の測定方法、基板洗浄方法および基板洗浄システム
    139.
    发明专利
    全酸化性物質濃度の測定方法、基板洗浄方法および基板洗浄システム 有权
    测量总可氧化的物质浓度，基板清洗方法和基板清洗系统的方法

    公开(公告)号：JPWO2015012041A1

    公开(公告)日：2017-03-02

    申请号：JP2015510550

    申请日：2014-06-23

    Applicant: 栗田工業株式会社

    Inventor： 晴義 山川

    IPC: G01N21/33

    CPC classification number: H01L21/02057 ,  B08B3/04 ,  C25B1/30 ,  C25B9/00 ,  C25B15/02 ,  C25B15/08 ,  G01N21/255 ,  G01N21/274 ,  G01N21/33 ,  G01N2201/127 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/10

    Abstract: 洗浄システムなどの電解硫酸の全酸化性物質濃度をオンラインでモニタリングすることを可能にするため、電解硫酸の硫酸濃度と同じ硫酸濃度の電解硫酸調製液を標準試料液として全酸化性物質濃度と関連付けてベースライン補正した吸光度データを用いて、硫酸濃度が60〜97質量%、液温が20〜70℃である電解硫酸を試料液として、波長190〜290nmで吸光度測定することにより前記データに基づいて前記電解硫酸中の全酸化性物質濃度を測定することで、電解硫酸における全酸化性物質濃度を直ちに測定することを可能にする。

    Abstract translation: 为了能够监视电解质硫酸，这样的清洁系统的总氧化性物质的浓度的在线，作为标准样品溶液关联所述电解质硫酸的相同硫酸浓度的硫酸浓度的总氧化物质浓度电解质硫酸制备 使用基于60〜97重量％的硫酸浓度的吸光度数据基线校正碲，，电解质硫酸溶液温度为20〜70℃作为样品溶液，将数据由在190〜290nm的波长测量吸光度 其中通过测量电解质硫酸的总可氧化物质浓度，其使得有可能立即判定在电解质硫酸碲的总氧化剂浓度。

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