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公开(公告)号:CN106946476A
公开(公告)日:2017-07-14
申请号:CN201710011137.0
申请日:2017-01-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B32B17/06 , B32B17/10036 , B32B17/10761 , B32B17/10788 , B32B2307/418 , B32B2605/006 , B32B2605/08 , G01S7/4813 , G01S2013/9367 , G01S2013/9392 , B32B17/1055 , B32B3/08 , B32B17/10165 , B32B27/18 , B32B27/42 , B32B33/00 , B60J1/02
Abstract: 本发明提供搭载于车辆内的信息装置的信号通过夹层玻璃时能够消除信号失真等的夹层玻璃。夹层玻璃1具备第1玻璃板10、第2玻璃板20、介于第1玻璃板10和第2玻璃板20之间的中间层30。第1玻璃板10具备配置在中间层30的相反侧的第1主表面11和与中间层30相接的第2主表面12,第2玻璃板20具备与中间层30相接的第3主表面21和配置在中间层30的相反侧的第4主表面22。从而,确保搭载于车辆100内的信息装置102的信号所通过的第1主表面11上存在的第1区域和第4主表面22上存在的第2区域的平滑性,由玻璃自身导致的信号失真等得到消除。
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公开(公告)号:CN106946465A
公开(公告)日:2017-07-14
申请号:CN201611027590.2
申请日:2016-11-17
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种从衬纸向玻璃基板表面的异物的转印(附着)得到抑制的玻璃基板。所述玻璃基板是由硅酸盐玻璃构成的玻璃基板,其特征在于,从该玻璃基板的表面的Zeta电位减去通过对该玻璃基板进行蚀刻处理而得到的外部标准的玻璃基板的表面的Zeta电位而得到的值(ΔZeta电位)为-15mV以上。
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公开(公告)号:CN106882927A
公开(公告)日:2017-06-23
申请号:CN201510933702.X
申请日:2015-12-15
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C23/00
CPC classification number: C03C23/0085
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够抑制在所收纳的磁记录介质用玻璃基板的两个主表面产生干燥污点的卡盒。该卡盒包括:一对侧板部,该一对侧板部由比热高于玻璃,且具有耐热性、以及耐药性的树脂材料形成,且彼此相对;以及保持部,该保持部配置于一对侧板部之间且对中央部具有圆孔的圆板形状的磁记录介质用玻璃基板(以下,记载为“玻璃基板”)进行保持,以使玻璃基板的主表面与侧板部相对,侧板部的与玻璃基板相对的面与保持部中能够保持为最靠近各侧板部的位置处的玻璃基板的主表面之间的距离为4mm以上15mm以下,侧板部形成有从与保持部所保持的玻璃基板的圆孔相对的位置起延续到上端部为止的开口部,保持部所保持的玻璃基板的主表面中,从侧板部露出的面积的比例为0以上50%以下。
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公开(公告)号:CN105658699B
公开(公告)日:2017-06-23
申请号:CN201480056630.9
申请日:2014-10-16
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08G65/00 , B32B27/30 , C08F290/06 , C08J7/04 , C09D4/00 , C09D171/00
CPC classification number: C09D135/02 , C07D251/30 , C08F290/06 , C08G65/007 , C08G65/3324 , C08G65/33348 , C08G65/33355 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2433/06 , C08L71/00 , C09D4/00 , C09D171/00 , C08F220/22
Abstract: 本发明提供能赋予硬质涂层等优异的防污性(油性墨排斥性、指纹污物除去性)和润滑性的含氟化合物、包含该含氟化合物的硬质涂层形成用组合物和具有由该组合物形成的防污性优异的硬质涂层的物品。本发明的含氟化合物以D1‑Rf1‑O‑CH2‑(CmF2mO)n‑A(其中,D1为CF3‑或CF3‑O‑;Rf1为包含1个以上的氢原子的碳数1~20的氟代亚烷基、包含1个以上的氢原子且在碳‑碳原子间具有醚性氧原子的碳数2~20的氟代亚烷基等;m为1~6的整数;n为1~200的整数;A为具有1个以上的(甲基)丙烯酰基的1价有机基团)表示;上述硬质涂层形成用组合物包含该含氟化合物,上述物品具有由该组合物形成的硬质涂层。
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公开(公告)号:CN106830634A
公开(公告)日:2017-06-13
申请号:CN201710064130.5
申请日:2012-06-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲,并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃,其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面,其中,顶面的深度5~10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5~10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下,底面的深度5~10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5~10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下,以及底面的深度5~30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5~30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号:CN105143119B
公开(公告)日:2017-06-13
申请号:CN201480021500.1
申请日:2014-03-07
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B18/06
CPC classification number: C04B35/565 , C03B18/06 , C04B35/584 , C04B2235/3206 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/72
Abstract: 一种支承辊,对平板带状的玻璃带进行支承,包括:旋转构件,所述旋转构件与所述玻璃带接触;轴构件,所述轴构件在内部具有制冷剂流路,并且与所述旋转构件一起旋转;以及伸出构件,所述伸出构件具有从所述制冷剂流路分岔出的分岔路,并且从所述轴构件的外周伸出;所述旋转构件由陶瓷形成,在所述伸出构件和所述旋转构件之间配置有具有比所述旋转构件的热传导率高的热传导率的传热构件。
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公开(公告)号:CN106795301A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201580046141.X
申请日:2015-08-27
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供通过挤出成形法连续地制造的、机械强度和外观优良的乙烯-四氟乙烯共聚物片材及其制造方法。本发明是一种乙烯-四氟乙烯共聚物片材及其制造方法,该乙烯-四氟乙烯共聚物片材是被挤出成形的乙烯-四氟乙烯共聚物片材,其特征在于,R0/d(其中,R0是面内的相位差[单位:nm],d是厚度[单位:nm])在3.0×10‑3以下,厚度大于300μm。
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公开(公告)号:CN106746602A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201710035148.2
申请日:2012-11-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C4/18 , C03C21/001 , C03C21/002 , C03C2204/00 , G06F1/16 , G06F1/1637 , Y10T428/315
Abstract: 本发明提供即使出现损伤也不易破坏的化学强化玻璃。以摩尔百分比表示含有56~72%的SiO2、8~20%的Al2O3、9~25%的Na2O、0~2%的K2O、0~15%的MgO,表面压缩应力在900MPa以上,内部拉伸应力在30MPa以下的化学强化玻璃。以摩尔百分比表示含有56~69%的SiO2、8~16%的Al2O3、9~22%的Na2O、0~1%的K2O、5.5~14%的MgO、0~2%的ZrO2、0~6%的B2O3的化学强化用玻璃。
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公开(公告)号:CN105339330B
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201480036748.5
申请日:2014-06-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C07C17/37 , C07C17/269 , C07C21/18
Abstract: 本发明提供一种使用供应容易的原料,在不使用催化剂的情况下,在伴有热分解的合成反应中以高纯度且高效率制造工业上有用的HFO‑1123,且抑制难以与HFO‑1123蒸馏分离的副产物、尤其是HFO‑1132(E)的生成的在经济上有利的方法。本发明的HFO‑1123的制造方法是由R31和R22和TFE制造HFO‑1123的方法,具备(a)将R31和R22和TFE预先混合后供至反应器或分别供至反应器的工序,(b)将热介质供至反应器的工序,(c)在反应器内,在将反应器内的温度控制在400~950℃的状态下使R31和R22和TFE与热介质接触,生成HFO‑1123的工序。
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