磁记录介质的制造方法及磁记录介质

    公开(公告)号:CN104230164B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201410282969.2

    申请日:2014-06-23

    Abstract: 本发明的目的在于提供错误产生率低的磁记录介质的制造方法及磁记录介质。一种磁记录介质的制造方法,其为包含玻璃基板的磁记录介质的制造方法,其中,包括在所述玻璃基板中产生屈曲变形和弯曲变形中的至少任意一种变形,所述玻璃基板的玻璃含有5摩尔%以上的Al2O3,B2O3的含量为0.1摩尔%以上且15摩尔%以下;或者所含有的碱金属氧化物为一种以下,碱金属氧化物的含量为0摩尔%以上且25摩尔%以下;或者含有两种以上的碱金属氧化物,碱金属氧化物的含量大于0摩尔%且为20摩尔%以下。

    磁记录介质的制造方法及磁记录介质

    公开(公告)号:CN104230164A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410282969.2

    申请日:2014-06-23

    Abstract: 本发明的目的在于提供错误产生率低的磁记录介质的制造方法及磁记录介质。一种磁记录介质的制造方法,其为包含玻璃基板的磁记录介质的制造方法,其中,包括在所述玻璃基板中产生屈曲变形和弯曲变形中的至少任意一种变形,所述玻璃基板的玻璃含有5摩尔%以上的Al2O3,B2O3的含量为0.1摩尔%以上且15摩尔%以下;或者所含有的碱金属氧化物为一种以下,碱金属氧化物的含量为0摩尔%以上且25摩尔%以下;或者含有两种以上的碱金属氧化物,碱金属氧化物的含量大于0摩尔%且为20摩尔%以下。

    基板用玻璃及玻璃基板
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102531383A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110354761.3

    申请日:2011-10-25

    CPC classification number: G11B5/7315 C03C3/083 C03C3/087

    Abstract: 本发明提供一种用于作为基板即使采用强酸性溶液清洗也不易发生表面粗糙化的基板的玻璃。该基板用玻璃以下述氧化物基准的摩尔%表示,含有62.5~69%的SiO2、9~15.5%的Al2O3、8~16%的Li2O、0~8%的Na2O、0~7%的K2O和0~3.5%的ZrO2,其中SiO2-Al2O3的含量之差为53.3%以上、Li2O+Na2O+K2O的含量之和为17~24%,且上述6种成分的含量合计为97%以上。

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