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    粘合剂用组合物、粘合剂层以及表面保护片
    141.
    发明公开
    粘合剂用组合物、粘合剂层以及表面保护片 有权

    公开(公告)号：CN108350332A

    公开(公告)日：2018-07-31

    申请号：CN201680066193.8

    申请日：2016-12-08

    Applicant: 综研化学株式会社

    Inventor： 清水政一 ,  楠本直 ,  白石明美

    IPC: C09J133/14 ,  C09J7/30

    Abstract: 本发明提供一种粘合剂用组合物，该粘合剂用组合物能够形成即使在严酷环境下也能够抑制变性或粘合力激增且在剥离时能够防止对被粘体产生残胶的粘合剂层。一种粘合剂用组合物，其含有(甲基)丙烯酸聚合物(A)和异氰酸酯化合物(B)，且形成粘合剂层时的凝胶分数在85质量％以上，其中，所述(甲基)丙烯酸聚合物(A)包含具有三硫代碳酸酯结构且在分子两末端和分子链中具有羟基的(甲基)丙烯酸酯聚合物分子(a)，利用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量(Mw)为300000～600000，分子量分布(Mw/Mn)在4.0以下，且羟值为4～80mgKOH/g；所述异氰酸酯化合物(B)1分子中的异氰酸酯基数在2以上。

    硬涂膜以及其制造方法
    143.
    发明公开
    硬涂膜以及其制造方法 无效

    公开(公告)号：CN108237733A

    公开(公告)日：2018-07-03

    申请号：CN201711384122.5

    申请日：2017-12-20

    Applicant: 综研化学株式会社

    Inventor： 目黑晃 ,  高桥孝德

    IPC: B32B3/30 ,  B32B9/00 ,  B32B9/04 ,  B32B27/06 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  B32B33/00

    Abstract: 提供一种拨水性优异的硬涂膜以及其制造方法。根据本发明，提供一种硬涂膜，具备：基材；树脂层，其包含(甲基)丙烯酸酯树脂以及无机粒子；以及表面层，其配置于所述树脂层上，所述树脂层的表面形成有凹凸形状，且所述无机粒子的至少一部分露出于所述树脂层的表面，所述硬涂膜还满足以下条件(1)或(2),(1)所述树脂层含有包含化合物的添加剂，所述化合物具有含氟原子基团和/或硅酮骨架，(2)所述(甲基)丙烯酸酯树脂含有源自于所述化合物的部位。

    使用分步重复方式的压印技术的结构体的制造方法
    144.
    发明授权
    使用分步重复方式的压印技术的结构体的制造方法 失效

    公开(公告)号：CN105814663B

    公开(公告)日：2018-06-08

    申请号：CN201480062927.6

    申请日：2014-11-11

    Applicant: 综研化学株式会社

    Inventor： 宮泽幸大

    IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02

    CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C35/0805 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29K2033/04 ,  B29K2105/0002

    Abstract: 本发明提供能将转印于树脂层的微细图案的形状稳定性的影响降低到最小限度，同时可抑制掩模内固化侵蚀的结构体的制造方法。本发明提供一种结构体的制造方法，具备如下工序：层叠体形成工序，形成在透明基材上具备树脂层的层叠体，所述树脂层由压印用光固化性树脂组合物构成，所述压印用光固化性树脂组合物含有光聚合性单体和相对于所述单体100质量份分别为0.1质量份以上的光引发剂及阻聚剂；被覆工序，将面积比所述树脂层小且具有微细图案的模具的所述微细图案按压于所述树脂层，并且以所述树脂层中被模具按压的区域的至少一部分成为露出区域的方式，用遮光掩模被覆所述层叠体；固化工序，对所述树脂层照射固化光，使所述树脂层中位于所述露出区域的部分固化；以及重复工序，使所述模具移动至所述树脂层的未固化部分，将所述被覆工序和所述固化工序重复进行1次以上。

    偏振片用粘合剂层和粘合剂组合物
    145.
    发明公开
    偏振片用粘合剂层和粘合剂组合物 有权

    公开(公告)号：CN107924009A

    公开(公告)日：2018-04-17

    申请号：CN201680046837.7

    申请日：2016-07-28

    Applicant: 综研化学株式会社

    Inventor： 三角忠史 ,  室井佐知 ,  大久保贵启 ,  近藤惠子 ,  黑泽翔 ,  田中隆祐 ,  绀野雄太

    IPC: G02B5/30 ,  C09J11/06 ,  C09J133/06 ,  C09J7/00

    Abstract: 本发明提供一种能够适用于以往形成于偏振元件两面上的偏振元件保护膜中的至少一方被省去了的构造中、且具有优异的防漏光性和耐久性的粘合剂层。一种偏振片用粘合剂层，其由含有光弹性系数为-200×10-12～+200×10-12(m2/N)的(甲基)丙烯酸类共聚物和不含芳环的异氰酸酯类交联剂的粘合剂组合物形成，所述偏振片用粘合剂层的光弹性系数为-200×10-12～+200×10-12(m2/N)，且与偏振元件直接相接地配置，其中，所述(甲基)丙烯酸类共聚物具有来自均聚物的光弹性系数为-1000×10-12～-100×10-12(m2/N)的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元和来自均聚物的光弹性系数为+500×10-12～+2000×10-12(m2/N)的含有芳环的(甲基)丙烯酸酯的结构单元。

    光学构件用粘接剂组合物、粘接片和叠层体
    148.
    发明授权
    光学构件用粘接剂组合物、粘接片和叠层体 有权

    公开(公告)号：CN105431500B

    公开(公告)日：2018-01-02

    申请号：CN201380077480.5

    申请日：2013-07-19

    Applicant: 综研化学株式会社

    Inventor： 喜多惠子

    IPC: C09J11/06 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10

    CPC classification number: C09J133/08

    Abstract: 本发明提供能够抑制光学构件的变形且长期耐久性优异的光学构件用粘接剂组合物、粘接片和叠层体。光学构件用粘接剂组合物包含：(A)共聚物、(B)异氰酸酯系交联剂和(C)环氧系交联剂；其中相对于上述(A)共聚物100质量份，含有上述(B)异氰酸酯系交联剂8～50质量份；上述(A)共聚物为含有超过0质量％且小于0.5质量％的上述含羧基单体的单体混合物的共聚物。

    凹凸图案形成体的制造方法和压印装置
    149.
    发明公开
    凹凸图案形成体的制造方法和压印装置 无效

    公开(公告)号：CN107405824A

    公开(公告)日：2017-11-28

    申请号：CN201680014423.6

    申请日：2016-03-15

    Applicant: 综研化学株式会社

    Inventor： 水上裕

    IPC: B29C59/02 ,  H01L21/027

    CPC classification number: B29C59/02 ,  H01L21/027

    Abstract: 本发明提供一种模具对辊容易装卸、从辊上剥离的模具可再利用、且无需同时进行转印操作和固化操作的凹凸图案形成体的制造方法等。本发明的凹凸图案形成体的制造方法包括：工序(1)，将表面具有凹凸图案的膜模具以可装卸的方式卷绕保持于辊上；工序(2)，将包含被转印体树脂层的被转印体载置于基板载置部上；工序(3)，一边使膜模具抵接在被转印体树脂层的表面上，一边使辊转动，使膜模具从辊上剥离而卷出至被转印体树脂层上，并且将膜模具表面的凹凸图案转印至被转印体树脂层上；工序(4)，使被转印体树脂层固化；工序(5)，一边使辊抵接在层叠于固化了的被转印体树脂层上的膜模具上，一边使其转动，使膜模具从固化了的被转印体树脂层上剥离并卷取至辊上。

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