公开(公告)号：JPS5759657A

公开(公告)日：1982-04-10

申请号：JP12787981

申请日：1981-08-17

Applicant: Ames Rubber Corp

Inventor： RAIRU SHII RAIDAA ,  FURANKU PII RORENZONI

IPC: B05B3/10 ,  B05B5/08 ,  B05D1/04

CPC classification number: B05D1/04 ,  B05B5/08 ,  B05B5/082

公开(公告)号：TW201226608A

公开(公告)日：2012-07-01

申请号：TW099145700

申请日：2010-12-24

Applicant: 鴻海精密工業股份有限公司

Inventor： 吳佳穎

IPC: C23C

CPC classification number: B05B5/08 ,  B05B5/025 ,  B05B5/084 ,  B05B13/0214 ,  B05B13/0228 ,  B05B13/0242 ,  B05B16/405

Abstract: 本發明提供一種濺鍍裝置，包括一界定一腔體的外殼、多個用於固定待鍍工件的料桿組、多個用於固定靶材的第一靶座與第二靶座、一第一驅動器以及多個第三驅動器組。該多個料桿組收容於該腔體內，平行設置並排布成一第二圓周。每個料桿組包括多個平行設置並排布成一第一圓周的料桿。該多個第二靶座及第一靶座設置在該腔體中並且分別排布在該第二圓周之內外。每個第三驅動器組連接至對應的一料桿組，用於驅動該料桿組中的每個料桿繞其自身的中心軸旋轉。該第一驅動器連接至該多個第三驅動器組，用於驅動該多個料桿組繞該第二圓周的中心軸旋轉。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种溅镀设备，包括一界定一腔体的外壳、多个用于固定待镀工件的料杆组、多个用于固定靶材的第一靶座与第二靶座、一第一驱动器以及多个第三驱动器组。该多个料杆组收容于该腔体内，平行设置并排布成一第二圆周。每个料杆组包括多个平行设置并排布成一第一圆周的料杆。该多个第二靶座及第一靶座设置在该腔体中并且分别排布在该第二圆周之内外。每个第三驱动器组连接至对应的一料杆组，用于驱动该料杆组中的每个料杆绕其自身的中心轴旋转。该第一驱动器连接至该多个第三驱动器组，用于驱动该多个料杆组绕该第二圆周的中心轴旋转。

公开(公告)号：TW207586B

公开(公告)日：1993-06-11

申请号：TW081103919

申请日：1992-05-20

Applicant: 德州儀器公司

Inventor： 麥羅柏

IPC: H01L

CPC classification number: B05B5/08 ,  H01L21/56 ,  H01L23/3142 ,  H01L24/48 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/8592 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01014 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/1433 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/19041 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/05599

Abstract: 一種製造積體電路之方法，。該方法計有提供一種黏著力促進物質至一可操作之使黏著力促進物質霧化之塗敷裝置，在塗敷裝置與積體電路間產生電位差，以及使靠近積體電路之黏著力促進物質霧化而致電位差將黏著力促進物質吸引至積體電路藉以將黏著力促進物質敷著於其上等步驟。在製品方面，一種積體電路具有引線、一層敷著於引線上之霧化黏著力促進物質、及一種模製至引線及黏著力促進物質之包裝材料。本發明也揭示其他裝置、系統及方法。

Abstract in simplified Chinese: 一种制造集成电路之方法，。该方法计有提供一种黏着力促进物质至一可操作之使黏着力促进物质雾化之涂敷设备，在涂敷设备与集成电路间产生电位差，以及使靠近集成电路之黏着力促进物质雾化而致电位差将黏着力促进物质吸引至集成电路借以将黏着力促进物质敷着于其上等步骤。在制品方面，一种集成电路具有引线、一层敷着于引在线之雾化黏着力促进物质、及一种模制至引线及黏着力促进物质之包装材料。本发明也揭示其他设备、系统及方法。

公开(公告)号：TW200409620A

公开(公告)日：2004-06-16

申请号：TW092125173

申请日：2003-09-12

Applicant: 佛魁斯製藥有限公司 PHOQUS PHARMACEUTICALS LIMITED

Inventor： 馬丁 大衛 哈利特

IPC: A61J

CPC classification number: A61K9/2072 ,  B05B5/08 ,  B05B12/20

Abstract: 用於將一種形態(pattern)提供到一種固態劑量型式(soliddosageform)之上的方法與裝置，其中，粉末材料是以一種形態之方式施加到一基板。一個具有一個孔洞(aperture)之遮罩(mask)(5)被提供在該粉末材料源(1)以及該基板(3)之間，並且該粉末材料透過該遮罩(5)而被施加到該基板(3)。於該形態施加製程期間被實施，該基板(3)相對於該粉末材料源(1)之相對運動。

Abstract in simplified Chinese: 用于将一种形态(pattern)提供到一种固态剂量型式(soliddosageform)之上的方法与设备，其中，粉末材料是以一种形态之方式施加到一基板。一个具有一个孔洞(aperture)之遮罩(mask)(5)被提供在该粉末材料源(1)以及该基板(3)之间，并且该粉末材料透过该遮罩(5)而被施加到该基板(3)。于该形态施加制程期间被实施，该基板(3)相对于该粉末材料源(1)之相对运动。

公开(公告)号：TW466372B

公开(公告)日：2001-12-01

申请号：TW087111622

申请日：1998-07-16

Applicant: 日本電氣股份有限公司

Inventor： 松田明寬

IPC: G02F

CPC classification number: B05B5/08 ,  B05B13/04 ,  B05B16/60

Abstract: 本發明揭露了間隔劑噴洒裝置，用於噴洒粉狀的間隔劑至例如液晶顯示器(LCD)之基質。當此裝置噴洒間隔劑於一噴洒腔室內之基質上時，預防了間隔劑沉積於腔室的內側壁及頂壁，且不會成黏著塊狀掉落在基質之上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭露了间隔剂喷洒设备，用于喷洒粉状的间隔剂至例如液晶显示器(LCD)之基质。当此设备喷洒间隔剂于一喷洒腔室内之基质上时，预防了间隔剂沉积于腔室的内侧壁及顶壁，且不会成黏着块状掉落在基质之上。

公开(公告)号：KR101867776B1

公开(公告)日：2018-06-14

申请号：KR1020170151539

申请日：2017-11-14

Applicant: 박상규

Inventor： 박상규

IPC: B05B5/08 ,  B05B12/16 ,  A41B11/00

CPC classification number: B05B5/08 ,  A41B11/001 ,  A41H43/0264 ,  B05B5/082 ,  B05B12/20

Abstract: 본발명은스타킹을자동적으로뒤집도록하여전체스타킹제조공정이빠른시간내에효율적으로이루어지도록하는분체도장장치를제공하고자한 것이다. 이를위해, 본발명은상하소정높이로이루어지는지지프레임과, 상기지지프레임의상부에구비되는수평프레임과, 상기수평프레임상부에하단부가지면으로부터기 설정된높이이격된상태를이루도록설치됨과동시에상부와하부가개구된관 형태로이루어지는한 쌍의흡입관부와, 상기흡입관부의상단부에연결되는흡입호스부와, 상기흡입호스부의타단부를통하여공기를고압으로흡입하도록상기흡입호스부의타단부에연결되게구비되는공기흡입모듈및 상기공기흡입모듈을통하여상기흡입호스부내측으로공기가흡입되도록하거나공기흡입이정지되도록하는개폐수단을포함하는분체도장장치를제공한다.

公开(公告)号：KR1020130095941A

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：KR1020120017369

申请日：2012-02-21

Applicant: 건국대학교 산학협력단

Inventor： 변도영

IPC: B05B5/025 ,  H05K3/10

CPC classification number: B05B5/025 ,  B05B5/001 ,  B05B5/08 ,  B05B17/0607

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a large area electrode by using a large area deposition device which uses a surface acoustic wave is provided to prevent quality degradation in total from a denaturalization of conductive ink which is supplied during the deposition process. CONSTITUTION: A large area deposition device which uses a surface acoustic wave comprises: a substrate; a piezoelectricity base which is arranged to be separated to the substrate; and a vibrating electrode part which is patterned on the piezoelectricity base; a vibration generator which is permitted to have a power source and generates the surface acoustic wave (110); a nozzle unit (120) which consecutively supplies the conductive ink to the vibration generator; an ink supply portion (130) which provides the conductive ink to the nozzle unit; an electrostatic force permitting portion (140) which permits the electrostatic force to induce the flow of the atomized conductive ink to the substrate side so that the atomized conductive ink is deposited in the substrate with the surface acoustic wave in the vibration generator; and a cooling means (160) which is for cooling the piezoelectricity base in order to prevent a denaturalization of the conductive ink which is supplied on the spray area. [Reference numerals] (116) Power supply part; (133) Voltage authorization part; (143) Supply control part

Abstract translation: 目的：提供使用使用表面声波的大面积沉积装置的大面积电极的制造方法，以防止在沉积工艺期间供应的导电油墨的变性的总体质量劣化。 构成：使用表面声波的大面积沉积装置包括：基板; 布置成分离到基板的压电基座; 以及在压电基体上图案化的振动电极部分; 允许具有电源并产生声表面波的振动发生器; 喷嘴单元（120），其连续地将所述导电油墨供应到所述振动发生器; 向所述喷嘴单元提供所述导电油墨的供墨部分（130）; 静电力允许部分（140），其允许静电力引起雾化的导电油墨流到基板侧，使得雾化的导电油墨在振动发生器中用表面声波沉积在基板中; 以及用于冷却压电基座以便防止在喷射区域上供应的导电油墨变质的冷却装置（160）。 （116）电源部; （133）电压授权部分; （143）供应控制部分

公开(公告)号：KR200385744Y1

公开(公告)日：2005-06-02

申请号：KR2020050005931

申请日：2005-03-05

Applicant: 박형갑

Inventor： 박형갑 ,  김중태

IPC: B05B5/00 ,  B05B5/025

CPC classification number: B05B5/08 ,  B05B5/025 ,  B05B14/00

Abstract: 본 고안은 스트립 오일러의 과도유 방지장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 스트립 표면에 방청유를 도포할 때 그 방청유가 과도유 또는 부분적 도유가 되는 것을 방지하며 특히 스트립의 에지부분의 과도유를 해결할 수 있으며 오일러 자체의 오염을 방지할 수 있는 장치에 관한 것이다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 고안은, 스트립의 에지부분에 일정간격을 두고 대면되는 대전 플레이트와 대전 플레이트의 일면에 부착되어 대전플레이트와 스트립의 간격을 조절하기 위한 조정 유닛을 포함하여 구성되는 스트립 오일러의 과도유 방지 장치이다. 상기 조정 유닛은 대전플레이트와 스트립간의 간격을 조절할 수 있도록 하는 것이며 대전플레이트는 도전율을 고려하여 전도율이 좋은 재질을 선정하며 대전 플레이트는 필요에 따라 대전율을 조절할 수 있도록 한다.

公开(公告)号：KR100380264B1

公开(公告)日：2003-08-21

申请号：KR1019950034463

申请日：1995-10-05

Applicant: 노드슨 코포레이션

Inventor： 제랄드더블유.크럼 ,  에디더블유.딕스2세 ,  찰스엘.기티안3세 ,  지앤마리레이디 ,  윌리암마크룩키 ,  죠셉지.슈로더 ,  신씨아스켈톤-벡커

IPC: B05B12/00 ,  B05C19/04

CPC classification number: G05B19/41885 ,  B05B5/08 ,  B05B12/006 ,  B05B12/04 ,  B05B12/122 ,  B05B13/0264 ,  G05B19/4148 ,  G05B19/41815 ,  G05B2219/31139 ,  G05B2219/31228 ,  G05B2219/32145 ,  G05B2219/33105 ,  G05B2219/33107 ,  G05B2219/33113 ,  G05B2219/33126 ,  G05B2219/33142 ,  G05B2219/33273 ,  G05B2219/34304 ,  G05B2219/34492 ,  G05B2219/35266 ,  G05B2219/36509 ,  G05B2219/45013 ,  Y02P90/04 ,  Y02P90/08 ,  Y02P90/10 ,  Y02P90/18 ,  Y02P90/26

Abstract: A powder coating control system comprising a plurality of gun controls associated with a like plurality of powder spray guns. Each of the gun controls stores a plurality of presets spray parameters. Each of the gun controls responds to part identification signals and part position signals to select in real time one of the stored presets of spray parameters and trigger its respective powder spray gun ON and OFF to apply a powder coating to the moving part in accordance with the selected set of spray parameters. The control system further permits a gun purge cycle to be programmed either before or after the powder coating process is executed. The control system automatically initializes and brings each of the gun controls to an operable state on-line with the system control.

Abstract translation: 一种粉末涂料控制系统，包括与多个粉末喷枪相关的多个喷枪控制装置。 每个枪控件存储多个预设喷雾参数。 每个枪控件响应零件识别信号和零件位置信号以实时选择所存储的喷射参数预设中的一个，并且触发其相应的粉末喷枪ON和OFF，以根据 选择的一组喷雾参数。 控制系统还允许在执行粉末涂覆工艺之前或之后对喷枪清洗循环进行编程。 控制系统自动初始化，并使每个喷枪控制器处于与系统控制器联机的可操作状态。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR1020030016394A

公开(公告)日：2003-02-26

申请号：KR1020037000409

申请日：2001-07-11

Applicant: 델시스 파머수티컬 코포레이션

Inventor： 폴로조지알. ,  산토나스토소게리 ,  켈러데이비드 ,  무라리라마스워미 ,  치라이수지에스.

IPC: B65G53/28

CPC classification number: B05B5/08

Abstract: 본 발명의 재순환식 입자 공급 장치(10)는 가스중의 부유 입자(gas suspended particulates)를 재순환시키기에 적합한 원형 도관(11; circular conduit)과, 척(9; chuck)의 적재 표면이 끼워맞춰지는 상태로, 정전식 척이 내부로 끼워맞춰지는 개구를 상기 도관상에 포함하는 적재 스테이션(17; deposition station)과, 상기 도관(11)을 통한 가스 및 입자의 순환을 유지하기 위한 추진 디바이스(12; propulsion device)를 포함하고, 상기 디바이스(12)는 입자의 적재 유효량을 상기 적재 스테이션(17)에서의 정전-흡인 효과 범위 내의 양으로 흡인하는 순환 속도로 순환을 유지하도록 되어 있다.