公开(公告)号：WO98055876A1

公开(公告)日：1998-12-10

申请号：PCT/DE1998/001075

申请日：1998-04-17

IPC: G01P15/125 ,  B81B3/00 ,  B81B7/00 ,  B81C1/00 ,  G01P1/02 ,  G01P15/08

CPC classification number: G01P15/0802 ,  B81B3/0005 ,  B81C1/0096 ,  B81C2201/0176 ,  B81C2201/112 ,  G01P1/023

Abstract: The invention relates to a method for producing micromechanical components or a micromechanical component. According to the invention, a moveable element (4) is produced on a sacrificial layer (2). The sacrificial layer (2) under the moveable element (4) is then removed, so that said moveable element (4) is able to move. After the sacrificial layer (2) has been removed, a protective layer (7) is deposited on a surface of the moveable element (4). Silicon oxide and/or silicon nitride are used for the protective layer (7).

Abstract translation: 它提出了一种用于制造微机械部件或微机械部件，其中产生一个牺牲层（2）上的可动构件（4）的方法。 在随后的步骤中，可移动元件（4）根据所述牺牲层（2）被移除，使得所述可动构件（4）是可移动的。 去除所述牺牲层（2）后可动构件（4）的表面上形成保护层（7）沉积。 用于保护层（7）被用于氧化硅和/或氮化硅。

公开(公告)号：WO2015120939A1

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：PCT/EP2014/078998

申请日：2014-12-22

Applicant: ROBERT BOSCH GMBH

Inventor： GONSKA, Julian ,  REINMUTH, Jochen ,  AMETOWOBLA, Mawuli

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00119 ,  B81B1/004 ,  B81B7/02 ,  B81B2203/0315 ,  B81C1/00293 ,  B81C2201/112 ,  B81C2201/115 ,  B81C2203/0109 ,  B81C2203/0145 ,  B81C2203/019

Abstract: Verfahren zum Herstellen eines mikromechanischen Bauelements (100), aufweisend die Schritte: - Ausbilden einer Zugangsöffnung (7) in einem MEMS-Element (5) oder in einem Kappenelement (6) des Bauelements (100); - Verbinden des MEMS-Elements (5) mit dem Kappenelement (6), wobei zwischen dem MEMS-Element (5) und dem Kappenelement (6) wenigstens eine Kaverne (8a, 8b) ausgebildet wird; und - Verschließen der Zugangsöffnung (7) zur wenigstens einen Kaverne (8a, 8b) unter einer definierten Atmosphäre mittels eines Lasers (9).

Abstract translation: 一种用于制造微机械部件（100），包括以下步骤的方法： - 形成的进入开口（7）中的MEMS元件（5）或在设备（100）的盖元件（6）; - 与盖部件（6），连接所述MEMS元件（5），其中所述MEMS元件（5）和（6）（8A，8B）形成在盖部件之间的至少一个腔; 和 - 通过激光（9）的装置关闭所述进入开口（7），用于在至少一个空腔（8A，8B）定义的气氛下进行。

公开(公告)号：WO2013030576A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：PCT/GB2012/052127

申请日：2012-08-31

Applicant: MEMSSTAR LIMITED ,  O'HARA, Anthony

Inventor： O'HARA, Anthony

IPC: C23C16/44

CPC classification number: B81C1/00952 ,  B81C1/0038 ,  B81C2201/112 ,  C23C16/44

Abstract: The present invention describes a deposition method suitable for depositing a coating on a device. The method is particularly suited for depositing a self assembled monolayer (SAM) coating on a micro electro-mechanical structures (MEMS). The method employs carrier gases in order to form a deposition vapour in a process chamber within which the device is located wherein the deposition vapour comprises controlled amounts of a vapour precursor material and a vapour reactant material. Employing the described technique avoids the problematic effects of particulate contamination of the device even when the volumetric ratio of the reactant material to the precursor material is significantly higher than those ratios previously employed in the art. The vapour precursor material can be of a type that provides the MEMS with an anti-stiction coating with the associated vapour reactant material comprising water.

Abstract translation: 本发明描述了一种适用于在装置上沉积涂层的沉积方法。 该方法特别适用于在微机电结构（MEMS）上沉积自组装单层（SAM）涂层。 该方法使用载气，以便在其中设置的处理室中形成沉积蒸气，其中沉积蒸气包含受控量的蒸气前体材料和蒸汽反应物料。 即使当反应物材料与前体材料的体积比显着高于本领域中先前使用的比例时，采用所述技术也避免了装置的颗粒污染的有问题的影响。 蒸汽前体材料可以是向MEMS提供具有包含水的相关蒸汽反应物材料的抗静电涂层的类型。

公开(公告)号：WO2010093522A3

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：PCT/US2010022281

申请日：2010-01-27

Applicant: QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES INC ,  NATARAJAN BANGALORE R ,  GOUSEV EVGENI ,  LAVERY KRISTOPHER A

Inventor： NATARAJAN BANGALORE R ,  GOUSEV EVGENI ,  LAVERY KRISTOPHER A

IPC: B81C1/00 ,  H01L23/26 ,  H01L51/52

CPC classification number: B01J20/2808 ,  B01D53/261 ,  B01D53/28 ,  B01D2253/108 ,  B01J20/18 ,  B01J20/183 ,  B01J20/2803 ,  B01J2220/42 ,  B81B2201/047 ,  B81C1/00285 ,  B81C2201/112 ,  H01L23/26 ,  H01L51/5259 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/09701 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/1433 ,  Y10T156/10 ,  H01L2924/00

Abstract: Systems and methods for providing MEMS devices with integrated desiccant are provided. In one embodiment, a dry composition comprising desiccant is impact sprayed onto the backplate or substrate of a MEMS device, and becomes fused with the substrate. In another embodiment, the desiccant is impact sprayed such that the desiccant adheres to the impact sprayed surface. In yet another embodiment, the impact- sprayed surface is impregnated with the desiccant. In still another embodiment, the desiccant is combined with a suitable inorganic binder, then impact sprayed such that the desiccant adheres to the impact sprayed surface. In yet a further embodiment, the desiccant is micronized or pulverized into a powder of desired particle size, and then impact sprayed onto a surface. Thus, the desiccant particles or powder are fused onto the target surface through the impact spraying process.

Abstract translation: 提供了为MEMS器件提供集成干燥剂的系统和方法。 在一个实施方案中，将包含干燥剂的干组合物冲击喷射到MEMS装置的背板或基板上，并与基底熔合。 在另一个实施例中，干燥剂被冲击喷涂，使得干燥剂粘附到冲击喷涂表面上。 在又一实施例中，冲击喷射表面用干燥剂浸渍。 在另一个实施方案中，将干燥剂与合适的无机粘合剂组合，然后冲洗喷雾，使得干燥剂粘附到冲击喷涂表面上。 在又一个实施方案中，干燥剂被微粉化或粉碎成所需粒度的粉末，然后冲击喷涂到表面上。 因此，干燥剂颗粒或粉末通过冲击喷涂工艺熔合到目标表面上。

公开(公告)号：WO2010142602A1

公开(公告)日：2010-12-16

申请号：PCT/EP2010/057802

申请日：2010-06-03

Applicant: The Swatch Group Research and Development Ltd ,  STEINMÜLLER, Detlef ,  STEINMÜLLER, Doris ,  DREXEL, Herwig ,  GHODBANE, Slimane ,  RICHARD, David ,  CUSIN, Pierre

Inventor： STEINMÜLLER, Detlef ,  STEINMÜLLER, Doris ,  DREXEL, Herwig ,  GHODBANE, Slimane ,  RICHARD, David ,  CUSIN, Pierre

IPC: C23C16/27 ,  C23C16/26

CPC classification number: C23C16/277 ,  B81B3/0008 ,  B81B2201/035 ,  B81C2201/112 ,  C23C16/27 ,  C23C16/56 ,  G04D3/0074 ,  Y10T428/30

Abstract: Method for coating micromechanical components of a micromechanical system, in particular a watch movement, comprising: - providing a substrate component to be coated; - providing said component with a diamond coating; wherein said diamond coating conductivity is increased in order to reduce dust attraction by the coated component when used in said micromechanical system. Corresponding microchemical components and systems are also provided.

Abstract translation: 用于涂覆微机械系统的微机械部件的方法，特别是手表机芯，包括： - 提供待涂覆的基底部件; - 向所述部件提供金刚石涂层; 其中所述金刚石涂层的导电性增加，以便在所述微机械系统中使用时减少所涂覆的部件的吸尘。 还提供了相应的微化学成分和系统。

公开(公告)号：WO2009083565A2

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：PCT/EP2008/068283

申请日：2008-12-24

Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ,  CAPLET, Stéphane

Inventor： CAPLET, Stéphane

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/0096 ,  B81B3/0005 ,  B81C2201/112

Abstract: Dispositif micromécanique et/ou nanomécanique (100) comportant un premier élément (108) à base de semi-conducteur, mobile par rapport à un second élément (106) du dispositif à base de semi-conducteur, le premier élément mobile étant susceptible de se déplacer en regard d'une cavité formée dans le dispositif, des parois du premier élément mobile disposées en regard d'une paroi du second élément et d'une paroi de la cavité à base de matériau semi-conducteur étant susceptibles d'entrer en contact avec lesdites parois du second élément et de la cavité, et lesdites parois du premier élément mobile, du second élément et de la cavité étant recouvertes au moins partiellement par un matériau anti-collage conducteur (118) de telle sorte que le matériau anti-collage conducteur recouvrant lesdites parois du second élément et de la cavité soit disposé au moins partiellement en regard du matériau anti-collage conducteur recouvrant lesdites parois du premier élément mobile.

Abstract translation:

设备microm的é机械和/或纳米机械é（100），具有第一éL E包换（108）＆agrave; 半导体基体，可相对于＆agrave; 该设备agrave的第二éL E包换（106）; 半导体基底，第一éL E换货移动é一样可能DE处的空腔Dé相反 在该装置表格E E，第一éL E移动布置的精神疾病é的壁面对第二éL E精神疾病和腔的DE的壁的壁 ＆Agrave; 基垫é廖内半导体é一样可能接触到所述第二éL E精神疾病和腔é的壁;以及所述第一éL E移动彪壁，第二éL E ;精神疾病和空腔＆eacute; e。通过一个垫至少部分地覆盖é廖内抗结块导体（118），使得所述垫é廖内抗结块导体覆盖所述第二éL E精神疾病和腔的DE壁 被刷新＆eacute; 至少部分地相对的垫é廖内抗结块导体覆盖所述第一éL E移动换货的壁。

公开(公告)号：WO2008105938A2

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：PCT/US2007079723

申请日：2007-09-27

Applicant: MIRADIA INC ,  CHEN DONGMIN ,  WORLEY WILLIAM SPENCER ,  CHEN HUNG-NAN

Inventor： CHEN DONGMIN ,  WORLEY WILLIAM SPENCER ,  CHEN HUNG-NAN

CPC classification number: B81C1/0096 ,  B81B3/0005 ,  B81B2201/042 ,  B81C2201/112 ,  G02B26/0833

Abstract: A micromechanical device assembly includes a micromechanical device enclosed within a processing region and a lubricant channel formed through an interior wall of the processing region and in fluid communication with the processing region. Lubricant is injected into the lubricant channel via capillary forces and held therein via surface tension of the lubricant against the internal surfaces of the lubrication channel. The lubricant channel containing the lubricant provides a ready supply of fresh lubricant to prevent stiction from occurring between interacting components of the micromechanical device disposed within the processing region.

Abstract translation: 微机械装置组件包括封闭在处理区域内的微机械装置和通过处理区域的内壁形成并与处理区域流体连通的润滑剂通道。 润滑剂通过毛细管力注入润滑剂通道并通过润滑剂的表面张力保持在润滑通道的内表面上。 包含润滑剂的润滑剂通道提供了新鲜的润滑剂的容易供应，以防止在设置在处理区域内的微机械装置的相互作用的部件之间发生静电。

公开(公告)号：WO2008057960A2

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：PCT/US2007083368

申请日：2007-11-01

Applicant: MIRADIA INC ,  CHEN DONGMIN ,  XIONG FULIN ,  WORLEY III WILLIAM SPENCER

Inventor： CHEN DONGMIN ,  XIONG FULIN ,  WORLEY III WILLIAM SPENCER

IPC: H01L21/00 ,  H01L29/82

CPC classification number: B81B3/0086 ,  B81B3/0005 ,  B81B3/0075 ,  B81B2201/042 ,  B81C2201/112

Abstract: Embodiments of the present invention generally relate to a device that has an improved usable lifetime due to the presence of a lubricant that reduces the likelihood of stiction occurring between the various moving parts in an electromechanical device. Embodiments of the present invention also generally include a device, and a method of forming a device, that has one or more surfaces or regions that have a volume of lubricant disposed thereon that acts as a ready supply of "fresh" lubricant to prevent stiction occurring between interacting components found within the device. In one aspect, components within the volume of lubricant form a gas or vapor phase that reduces the chances of stiction-related failure in the formed device. In one example, aspects of this invention may be especially useful for fabricating and using micromechanical devices, such as MEMS devices, NEMS devices, or other similar thermal or fluidic devices.

Abstract translation: 本发明的实施例一般涉及由于存在降低机电装置中的各种移动部件之间发生静摩擦的可能性的润滑剂而具有改善的可用寿命的装置。 本发明的实施例通常还包括一种装置和一种形成装置的方法，该装置具有一个或多个表面或区域，其上布置有润滑剂体积，其充当“新鲜”润滑剂的供应以防止发生粘着 在设备内发现的交互组件之间。 在一个方面，润滑剂体积内的组分形成气相或气相，从而降低了成形装置中与粘滞有关的失效的可能性。 在一个示例中，本发明的各个方面对于制造和使用微机械装置（诸如MEMS装置，NEMS装置或其他类似的热或流体装置）可能是特别有用的。

公开(公告)号：WO2006017009A3

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：PCT/US2005022865

申请日：2005-06-24

Applicant: REFLECTIVITY INC ,  SIMONIAN DMITRI ,  PORTER JOHN

Inventor： SIMONIAN DMITRI ,  PORTER JOHN

IPC: G02F1/03 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00 ,  G02B26/08 ,  G02F1/07 ,  H01L21/306 ,  H01L21/312

CPC classification number: G02B26/0833 ,  B81B3/0005 ,  B81B2201/042 ,  B81C1/0096 ,  B81C2201/112 ,  B82Y30/00 ,  C03C17/28 ,  C10M105/00 ,  C10M2207/0406 ,  C10M2211/0425 ,  C10M2211/063 ,  C10M2215/041 ,  C10M2215/2225 ,  C10M2219/081 ,  C10M2223/0603 ,  C10M2227/003 ,  C10M2227/045 ,  C10N2240/06 ,  C23C26/00 ,  C23C30/00 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/3121

Abstract: Lubricants for lubricating surfaces of microelectromechanical devices (100) are disclosed. Specifically, the lubricants can be applied to the contacting surfaces of the microelectrochemical devices so as to remove stiction of the contacting surfaces.

Abstract translation: 公开了用于微机电装置（100）的润滑表面的润滑剂。 具体地说，可以将润滑剂施加到微电化学装置的接触表面，以便消除接触表面的粘性。

公开(公告)号：WO2006015901A1

公开(公告)日：2006-02-16

申请号：PCT/EP2005/052862

申请日：2005-06-21

Applicant: ROBERT BOSCH GMBH ,  LÄRMER, Franz ,  REICHENBACH, Ralf

Inventor： LÄRMER, Franz ,  REICHENBACH, Ralf

IPC: B81B3/00

CPC classification number: B81C1/0096 ,  B81B3/0005 ,  B81C2201/112 ,  B81C2201/117

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Abscheidung einer Anti-Haftungsschicht auf eine Oberfläche mikromechanischer Strukturen (5a; 7a) auf einem Substrat (Sub) vorgeschlagen, wobei das abzuscheidende Material oder Precursormaterial in einem Lösungs- und Transportmedium den Strukturen (5a; 7a) zugeführt wird. Als Lösungs- und Transportmedium ist das superkritische CO 2 -Fluid vorgesehen. Die Abscheidung des Materials oder Precursormaterials wird durch eine physikalische Zustandsänderung des CO 2 -Fluids oder durch eine Oberflächenreaktion zwischen der Oberfläche und dem Precursormaterial hervorgerufen. Das Verfahren ermöglicht eine nachträgliche Beschichtung der mikromechanischen Strukturen (5a; 7a) in einer Kaverne (14) oder in einem Hohlraum nach deren Verkappung, wobei das abzuscheidende Material über Zugangskanäle (15) oder Perforationslöcher zugeführt wird.

Abstract translation: 它是用于沉积抗粘连层的表面微机械结构（5A;图7a）的方法，在基板（子）上提出，其特征在于，在溶剂中的沉积材料或前体材料和输送介质结构（5A;图7a）被提供。 溶剂和传输介质中，超临界CO <子是