公开(公告)号：WO2017072588A2

公开(公告)日：2017-05-04

申请号：PCT/IB2016/001660

申请日：2016-10-26

Applicant: ESKO-GRAPHICS IMAGING GMBH

Inventor： WOLTERINK, Jorg ,  HANSEL, Thomas ,  SIEVERS, Wolfgang

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/203 ,  G03F7/2032

Abstract: A method and apparatus to expose photosensitive printing plates with a predetermined radiation density from the main side (top) and a predetermined radiation density from the back side (bottom). The method comprises executing the main exposure with a time delay after the back exposure. The time delay between back exposure and main exposure is optimized to create smaller stable single dot elements on the photosensitive printing plate after processing and smaller single element dot sizes printed on the print substrate.

Abstract translation: 从主侧（顶部）以预定辐射密度和从背侧（底部）以预定辐射密度使光敏印版曝光的方法和设备。 该方法包括在后曝光之后延时执行主曝光​​。 优化后曝光和主曝光之间的时间延迟，以便在处理后在光敏印版上产生更小的稳定单点元素，并在印刷基材上印刷更小的单元点大小。

公开(公告)号：WO2017063040A1

公开(公告)日：2017-04-20

申请号：PCT/AU2016/050960

申请日：2016-10-13

Applicant: BILINSKY, Henry Claudius

Inventor： BILINSKY, Henry Claudius

IPC: G03F7/00 ,  B05D5/00 ,  C09D133/00 ,  C09D175/04 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F7/038 ,  B64G1/22 ,  C09D133/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/24

Abstract: In one aspect, there is provided a method of creating a microstructure pattern on an exterior surface of an aircraft, boat, automobile or other vehicle is disclosed. A layer of photopolymer (44) is applied to the top coat or substrate (43) by nozzles (45). The photopolymer is selectively irradiated to activate its photoinitiator and the unirradiated polymer is removed. The irradiation can be via a mask (49) which does not come into contact with the polymer, or via a beam splitting arrangement (63, 64) or a diffraction grating (71). The pattern can be formed by either leaving the exposed photopolymer in situ, or using the exposed photopolymer to mask the substrate, etching the substrate, and then removing the exposed photopolymer. In another aspect, there is provided a method 1100 comprising the step 1102 of applying a layer of photocurable material to the exterior surface, the step 1104 of irradiating the photocurable material with radiation including a predetermined irradiation intensity profile, and the step 1106 of removing uncured photocurable material to form the microstructure pattern. The radiation initiates curing of the irradiated photocurable material, causing a curing depth profile across the layer of the photocurable material corresponding to the selected intensity profile.

Abstract translation: 在一个方面，提供了一种在飞机，船，汽车或其它交通工具的外表面上产生微结构图案的方法。 通过喷嘴（45）将一层光聚合物（44）施加到顶涂层或基底（43）上。 选择性地照射光聚合物以激活其光引发剂，并去除未照射的聚合物。 照射可以通过不与聚合物接触的掩模（49）或经由分束装置（63,64）或衍射光栅（71）进行。 可以通过原位保留曝光的光敏聚合物，或使用曝光的光敏聚合物来掩蔽基材，蚀刻基材，然后除去曝光的光敏聚合物来形成图案。 另一方面，提供了一种方法1100，其包括将光固化材料层施加到外表面的步骤1102，用包括预定照射强度分布的辐射照射光固化材料的步骤1104，以及去除未固化的步骤1106 光固化材料以形成微结构图案。 辐射引发所照射的可光致固化材料的固化，导致穿过光致固化材料层的固化深度分布对应于所选择的强度分布。

公开(公告)号：WO2014172400A1

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：PCT/US2014/034261

申请日：2014-04-16

Applicant: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

Inventor： STRUEWE, Volker ,  LUETKE, Helmut

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  B41C1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70875

Abstract: The invention pertains to an exposure apparatus, a method for exposing a photosensitive element to radiation using the exposure apparatus, and a method for preparing a printing form from the photosensitive element. The exposure apparatus includes a base assembly having an exposure bed that supports the photosensitive element, and a lamp housing assembly having one or more lamps. The base assembly includes an assembly for controlling the temperature of the exposure bed to heat and cool the bed; and an assembly configured to remove air between the photosensitive element and an exterior top surface of the exposure bed.

Abstract translation: 本发明涉及一种曝光装置，一种使用该曝光装置将光敏元件暴露于辐射的方法，以及一种从感光元件制备印刷形式的方法。 曝光装置包括具有支撑感光元件的曝光床的基座组件和具有一个或多个灯的灯壳体组件。 基座组件包括用于控制曝光床的温度以加热和冷却床的组件; 以及构造成去除感光元件和曝光床的外部顶表面之间的空气的组件。

公开(公告)号：WO2014026662A2

公开(公告)日：2014-02-20

申请号：PCT/DE2013000377

申请日：2013-07-12

Applicant: FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH

Inventor： HARDTDEGEN HILDE ,  MIKULICZ MARTIN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70391

Abstract: The invention relates to a method for optical transmission of a structure into a recording medium which can be transformed locally from a first undefined state into a second defined state by irradiating with photons from a photon source. The two states of the recording medium are manifested in different physical and/or chemical properties of the recording medium. According to the invention at least one photon source having a photon flux of less than 104 photons per second is selected for the irradiation with the photons. It was recognised that with such a low photon flux especially fine structures can advantageously be transmitted into the recording medium without the irradiation having to be partially blocked by a mask. In this manner, for a given wavelength (energy) of the photons, structures can be transmitted that are considerably smaller than the width, defined by the diffraction limit, of the probability distribution for the locations at which the emitted photons are incident.

Abstract translation: 在本发明的上下文中与来自光子源的光子已被开发用于在一个记录介质上，其状态从第一状态局部地描述到第二未记录光学转印图案的方法是通过照射可兑换。 这里，记录介质在记录介质的不同的物理和/或化学特性的清单的两个状态。 根据本发明，至少每秒小于104个的光子的光子通量的光子一个源被选择用于光子的辐射。 它已认识到，这样的低光子通量特别有利精细结构可以被转移到记录介质，而不照射必须由掩模部分地遮蔽。 在光子的这种方式（能量）可以被传输的结构，其是比对于其中发射的光子入射具有给定波长的地方的概率分布的宽度预定的衍射极限显著小。

公开(公告)号：WO2013062755A1

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：PCT/US2012/059388

申请日：2012-10-09

Applicant: ROLITH, INC.

Inventor： KOBRIN, Boris ,  BRONGERSMA, Mark ,  BARNARD, Edward

IPC: G03C1/00

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/22 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70325

Abstract: Embodiments of the present invention are directed to techniques for obtaining patterns of features. One set of techniques uses multiple-pass rolling mask lithography to obtain the desired feature pattern. Another technique uses a combination of rolling mask lithography and a self-aligned plasmonic mask lithography to obtain a desired feature pitch.

Abstract translation: 本发明的实施例涉及用于获得特征图案的技术。 一组技术使用多遍轧制掩模光刻来获得所需的特征图案。 另一种技术使用滚动掩模光刻和自对准等离子体掩模光刻的组合来获得期望的特征间距。

公开(公告)号：WO2011106171A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：PCT/US2011/024463

申请日：2011-02-11

Applicant: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC ,  RECCHIA, David, A. ,  GOTSICK, Timothy

Inventor： RECCHIA, David, A. ,  GOTSICK, Timothy

IPC: G01B11/00 ,  G01N21/55

CPC classification number: B41N1/06 ,  B41C1/055 ,  B41M1/04 ,  B41N1/12 ,  G03F7/09 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2012 ,  G03F7/202 ,  Y10T428/24521

Abstract: A method of making a relief image printing element from a photosensitive printing blank is provided. A photosensitive printing blank with a laser ablatable layer disposed on at least one photocurable layer is ablated with a laser to create an in situ mask. The printing blank is then exposed to at least one source of actinic radiation through the in situ mask to selectively cross link and cure portions of the photocurable layer. Diffusion of air into the at least one photocurable layer is limited during the exposing step and preferably at least one of the type, power and incident angle of illumination of the at least one source of actinic radiation is altered during the exposure step. The resulting relief image comprises a plurality of dots and a dot shape of the plurality of dots that provide optimal print performance on various substrates, including corrugated board.

Abstract translation: 提供了一种从感光印刷坯料制造浮雕图像打印元件的方法。 设置在至少一个光固化层上的具有激光烧蚀层的感光印刷坯料用激光烧蚀以产生原位掩模。 然后将印刷坯料通过原位掩模暴露于至少一种光化辐射源，以选择性地交联并固化可光固化层的部分。 在曝光步骤期间限制空气向至少一个光固化层的扩散，并且优选在曝光步骤期间改变至少一种光化辐射源的类型，功率和入射角的至少一种。 所产生的浮雕图像包括多个点的多个点和点形状，其在包括瓦楞纸板的各种基底上提供最佳打印性能。

公开(公告)号：WO2010088274A3

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：PCT/US2010022234

申请日：2010-01-27

Applicant: YOON YONG-KYU ,  KIM JUNGKWUN ,  ALLEN MARK G

Inventor： YOON YONG-KYU ,  KIM JUNGKWUN ,  ALLEN MARK G

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201

Abstract: A system according to an embodiment of the present invention comprises a movable stage having a top surface. A photosensitive material may be deposited on the top surface and a mask may be placed on the photosensitive material. A vessel, having a top portion, one or more flexible sides, and a transparent base, is configured to be placed adjacent to the mask. The base is configured to be movable relative to the top portion of the vessel. In this way, the movable stage, photosensitive material, and mask may move in conjunction with the base of the vessel.

Abstract translation: 根据本发明的实施例的系统包括具有顶表面的可移动台。 感光材料可以沉积在顶表面上，并且掩模可以放置在感光材料上。 具有顶部，一个或多个柔性侧面和透明基底的容器构造成邻近掩模放置。 基部构造成相对于容器的顶部可移动。 以这种方式，可移动台，感光材料和面罩可以与容器的底部一起移动。

公开(公告)号：WO2010088274A2

公开(公告)日：2010-08-05

申请号：PCT/US2010/022234

申请日：2010-01-27

Applicant: YOON, Yong-Kyu ,  KIM, Jungkwun ,  ALLEN, Mark, G.

Inventor： YOON, Yong-Kyu ,  KIM, Jungkwun ,  ALLEN, Mark, G.

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201

Abstract: A system according to an embodiment of the present invention comprises a movable stage having a top surface. A photosensitive material may be deposited on the top surface and a mask may be placed on the photosensitive material. A vessel, having a top portion, one or more flexible sides, and a transparent base, is configured to be placed adjacent to the mask. The base is configured to be movable relative to the top portion of the vessel. In this way, the movable stage, photosensitive material, and mask may move in conjunction with the base of the vessel.

Abstract translation: 根据本发明实施例的系统包括具有顶表面的可移动台。 感光材料可以被沉积在顶表面上并且掩模可以被放置在感光材料上。 具有顶部部分，一个或多个柔性侧面和透明基底的器皿被配置为与掩模相邻放置。 底座构造成可相对于容器的顶部移动。 这样，可移动平台，感光材料和面罩可以与容器底部一起移动。

公开(公告)号：WO2009044901A1

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：PCT/JP2008/068112

申请日：2008-10-04

Applicant: 国立大学法人京都大学 ,  鈴木 孝明 ,  小寺 秀俊 ,  神野 伊策

Inventor： 鈴木 孝明 ,  小寺 秀俊 ,  神野 伊策

IPC: C12M1/00 ,  B29C39/10 ,  B29C59/02 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00 ,  G01N37/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: B81C1/00103 ,  B29C35/0894 ,  B81B2201/058 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/201

Abstract: 　複数部品の位置合せなしに簡単にかつ高精度に微小構造体を作製することができる、微小構造体の形成方法を提供する。 　（１）マスクパターン及び光硬化性樹脂を貫通する一つの回転軸を中心に回転させながら、回転軸に対して斜め方向からマスクパターンを介して光硬化性樹脂の露光を行い、光硬化性樹脂の露光部分に、光硬化性樹脂が硬化する吸光量の閾値である硬化基準値以上の吸光量になった高露光部分と硬化基準値未満の吸光量である低露光部分とを含む吸光量分布を形成する第１のステップと、（２）光硬化性樹脂の高露光部分の少なくとも一部により微小構造体の少なくとも一部を形成する第２のステップとを備える。

Abstract translation: 本发明提供了一种用于形成微结构的方法，其可以以简单且高度准确的方式定位多个部件来制备微结构。 该方法包括：（1）第一步骤，在围绕通过掩模图案延伸的一个旋转轴和光固化树脂周围旋转掩模图案和光固化树脂的同时，将光固化树脂沿着倾斜方向暴露于光掩模图案 旋转轴在光固化树脂的露出部分中形成光吸收分布，其包括较高曝光部分，其中光吸收为固化参考值，其为用于固化光固化树脂的光吸收的阈值，或 光吸收低于固化参考值的较高值和较低曝光部分，以及（2）第二步骤，通过光固化的高曝光部分的至少一部分形成至少一部分微结构 树脂。

公开(公告)号：WO2008076390A2

公开(公告)日：2008-06-26

申请号：PCT/US2007/025683

申请日：2007-12-14

Applicant: CARNEGIE MELLON UNIVERSITY ,  SITTI, Metin ,  MURPHY, Michael ,  AKSAK, Burak

Inventor： SITTI, Metin ,  MURPHY, Michael ,  AKSAK, Burak

IPC: C09J7/02

CPC classification number: G03F7/2014 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/424 ,  B29C39/26 ,  B29L2031/756 ,  B81C99/0085 ,  B81C2201/034 ,  C09J7/38 ,  C09J2201/28 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/201

Abstract: Dry adhesives and methods for forming dry adhesives. A method of forming a dry adhesive structure (30) on a substrate (10), comprises: forming a template backing layer (12) of energy sensitive material on the substrate (10); forming a template layer (14) of energy sensitive material on the template backing layer (12); exposing the template layer (14) to a predetermined pattern of energy; removing a portion of the template layer (14) related to the predetermined pattern of energy, and leaving a template structure (20) formed from energy sensitive material and connected to the substrate (10) via the template backing layer (12).

Abstract translation: 干燥粘合剂和干燥粘合剂的形成方法。 在基材（10）上形成干燥粘合剂结构（30）的方法包括：在基材（10）上形成能量敏感材料的模板背衬层（12）; 在所述模板背衬层（12）上形成能量敏感材料的模板层（14）; 将模板层（14）暴露于预定的能量模式; 去除与预定能量图案相关的模板层（14）的一部分，并留下由能量敏感材料形成的模板结构（20），并通过模板背衬层（12）连接到基板（10）。