中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

464 records (took 0.025 seconds)

    DISPLAY DEVICE WITH AT LEAST ONE MOVABLE STOP ELEMENT
    161.
    发明申请
    DISPLAY DEVICE WITH AT LEAST ONE MOVABLE STOP ELEMENT 审中-公开
    具有至少一个可动止动元件的显示装置

    公开(公告)号：WO2011034972A2

    公开(公告)日：2011-03-24

    申请号：PCT/US2010/048997

    申请日：2010-09-15

    Applicant: QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. ,  KOTHARI, Manish ,  GUDLAVALLETI, Sauri ,  ZEE, Stephen

    Inventor： KOTHARI, Manish ,  GUDLAVALLETI, Sauri ,  ZEE, Stephen

    IPC: G02B26/00

    CPC classification number: B81B3/0008 ,  B81B2201/042 ,  B81C2201/112 ,  B81C2201/115 ,  G02B26/001 ,  G02B26/0841

    Abstract: In certain embodiments, a device is provided including a substrate and a plurality of supports over the substrate. The device may further include a mechanical layer having a movable portion and a stationary portion. The stationary portion may disposed over the supports. In certain embodiments, the device further includes a reflective surface positioned over the substrate and mechanically coupled to the movable portion. The device of certain embodiments further includes at least one movable stop element displaced from and mechanically coupled to the movable portion. In certain embodiments, the at least a portion of the stop element may be positioned over the stationary portion.

    Abstract translation: 在某些实施例中，提供了一种包括衬底和在衬底上的多个支撑体的装置。 该装置还可以包括具有可移动部分和固定部分的机械层。 固定部分可以设置在支撑件上方。 在某些实施例中，所述装置还包括位于所述基板上并且机械地联接到所述可移动部分的反射表面。 某些实施例的装置还包括至少一个可动止动元件，该可移动止动元件从可移动部分移动并机械联接到可动部分。 在某些实施例中，止动元件的至少一部分可以定位在固定部分上方。

    SELECTIVE UV-OZONE DRY ETCHING OF ANTI-STICTION COATINGS FOR MEMS DEVICE FABRICATION
    162.
    发明申请
    SELECTIVE UV-OZONE DRY ETCHING OF ANTI-STICTION COATINGS FOR MEMS DEVICE FABRICATION 审中-公开
    用于MEMS器件制造的抗反射涂层的选择性UV-臭氧干蚀刻

    公开(公告)号：WO2010147796A2

    公开(公告)日：2010-12-23

    申请号：PCT/US2010/037735

    申请日：2010-06-08

    Applicant: ANALOG DEVICES, INC. ,  HANCER, Mehmet

    Inventor： HANCER, Mehmet

    IPC: B81C1/00

    CPC classification number: B81C1/00269 ,  B81C2201/0181 ,  B81C2201/112 ,  B81C2203/0118

    Abstract: Organic anti-stiction coatings such as, for example, hydrocarbon and fluorocarbon based self-assembled organosilanes and siloxanes applied either in solvent or via chemical vapor deposition, are selectively etched using a UV-Ozone (UVO) dry etching technique in which the portions of the organic anti-stiction coating to be etched are exposed simultaneously to multiple wavelengths of ultraviolet light that excite and dissociate organic molecules from the anti-stiction coating and generate atomic oxygen from molecular oxygen and ozone so that the organic molecules react with atomic oxygen to form volatile products that are dissipated, resulting in removal of the exposed portions of the anti-stiction coating. A hybrid etching process using heat followed by UVO exposure may be used. A shadow mask (e.g., of glass or quartz), a protective material layer, or other mechanism may be used to selective expose the portions of the anti-stiction coating to be UVO etched. Such selective UVO etching may be used, for example, to expose wafer bond lines prior to wafer-to-wafer bonding in order to increase bond shear and adhesion strength, to expose bond pads in preparation for electrical or other connections, or for general removal of anti-stiction coating materials from metal or other material surfaces. One specific embodiment uses two wavelengths of ultraviolet light, one at around 184.9 nm and the other at around 253.7 nm..

    Abstract translation: 使用UV-臭氧（UVO）干蚀刻技术选择性地蚀刻有机抗静电涂层，例如在溶剂中或通过化学气相沉积施加的烃和氟碳基自组装有机硅烷和硅氧烷，其中部分 待蚀刻的有机抗静电涂层同时暴露于多个波长的紫外线，其激发和解离有机分子与抗静电涂层，并从分子氧和臭氧产生原子氧，使得有机分子与原子氧反应形成 挥发的产物被消散，导致去除抗静电涂层的暴露部分。 可以使用使用热量然后UVO曝光的混合蚀刻工艺。 可以使用荫罩（例如，玻璃或石英），保护材料层或其它机构来选择性地将抗静电涂层的部分暴露于UVO蚀刻。 可以使用这种选择性UVO蚀刻，例如在晶片到晶片接合之前暴露晶片接合线，以增加键合剪切和粘附强度，以暴露接合焊盘以准备电气或其它连接，或用于一般去除 的抗静电涂层材料从金属或其他材料表面。 一个具体实施方案使用两个波长的紫外光，一个在约184.9nm，另一个在约253.7nm。

    DISPLAY DEVICE WITH DESICCANT
    163.
    发明申请
    DISPLAY DEVICE WITH DESICCANT 审中-公开
    显示设备与DESICCANT

    公开(公告)号：WO2010093522A2

    公开(公告)日：2010-08-19

    申请号：PCT/US2010/022281

    申请日：2010-01-27

    Applicant: QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. ,  NATARAJAN, Bangalore, R. ,  GOUSEV, Evgeni ,  LAVERY, Kristopher, A.

    Inventor： NATARAJAN, Bangalore, R. ,  GOUSEV, Evgeni ,  LAVERY, Kristopher, A.

    CPC classification number: B01J20/2808 ,  B01D53/261 ,  B01D53/28 ,  B01D2253/108 ,  B01J20/18 ,  B01J20/183 ,  B01J20/2803 ,  B01J2220/42 ,  B81B2201/047 ,  B81C1/00285 ,  B81C2201/112 ,  H01L23/26 ,  H01L51/5259 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/09701 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/1433 ,  Y10T156/10 ,  H01L2924/00

    Abstract: Systems and methods for providing MEMS devices with integrated desiccant are provided. In one embodiment, a dry composition comprising desiccant is impact sprayed onto the backplate or substrate of a MEMS device, and becomes fused with the substrate. In another embodiment, the desiccant is impact sprayed such that the desiccant adheres to the impact sprayed surface. In yet another embodiment, the impact- sprayed surface is impregnated with the desiccant. In still another embodiment, the desiccant is combined with a suitable inorganic binder, then impact sprayed such that the desiccant adheres to the impact sprayed surface. In yet a further embodiment, the desiccant is micronized or pulverized into a powder of desired particle size, and then impact sprayed onto a surface. Thus, the desiccant particles or powder are fused onto the target surface through the impact spraying process.

    Abstract translation: 提供了提供MEMS器件集成干燥剂的系统和方法。 在一个实施方案中，将包含干燥剂的干组合物冲击喷射到MEMS装置的背板或基板上，并与基底熔合。 在另一个实施方案中，干燥剂被冲击喷雾，使得干燥剂粘附到冲击喷涂表面上。 在另一个实施例中，冲击喷射表面用干燥剂浸渍。 在另一个实施方案中，将干燥剂与合适的无机粘合剂组合，然后冲洗喷雾，使得干燥剂粘附到冲击喷涂表面。 在又一个实施方案中，干燥剂被微粉化或粉碎成所需粒度的粉末，然后冲击喷涂到表面上。 因此，干燥剂颗粒或粉末通过冲击喷涂工艺熔合到目标表面上。

    可動構造体及びそれを用いた光走査ミラー
    164.
    发明申请
    可動構造体及びそれを用いた光走査ミラー 审中-公开
    使用相同的可移动结构和光学扫描镜

    公开(公告)号：WO2009157509A1

    公开(公告)日：2009-12-30

    申请号：PCT/JP2009/061583

    申请日：2009-06-25

    Applicant: パナソニック電工株式会社 ,  橘 宏明 ,  野毛 宏 ,  河野 清彦 ,  上田 英喜

    Inventor： 橘　宏明 ,  野毛　宏 ,  河野　清彦 ,  上田　英喜

    IPC: H02N1/00 ,  B81B3/00 ,  G02B26/08 ,  G02B26/10

    CPC classification number: B81B3/0051 ,  B81B2201/042 ,  B81C2201/112 ,  B81C2203/0118 ,  B81C2203/031 ,  G02B26/0841 ,  H02N1/006 ,  Y10T403/32557

    Abstract: 【課題】半導体機械構造体において、外部から衝撃が加わってもヒンジが破損しないようにし、耐衝撃性を高める。 【解決手段】光走査ミラー１は、可動板２と、可動板２の両側部に一端部がそれぞれ接続されており、可動板２の１つの揺動軸を構成する一対のヒンジ３と、可動板２の周囲を囲むように配され各ヒンジ３の他端部を支持する固定フレーム４と、固定フレーム４に形成されたストッパ部６を備えている。可動板２が側方に変位すると、ストッパ部６が可動板２の凹部２ｅの側縁部に接触し、可動板２の側方への変位が制限される。これにより、外部から衝撃が加わってもヒンジ３の破損が防止される。

    Abstract translation: 即使在半导体机械结构中从外部提供冲击，也可以防止铰链受到损伤而提高耐冲击性。 光学扫描镜（1）包括可动板（2），所述一对铰链（3）分别具有一端连接到可动板（2）的两侧，并形成可动板的一个摆动轴 （2），围绕可动板（2）并支撑铰链（3）的另一端的固定框架（4）以及形成在固定框架（4）上的止动件（6）。 当可动板（2）侧向移动时，止动件（6）与可动板（2）的凹部（2e）的侧边缘接触，并且可动板（2）的侧向移动 被限制 因此，即使从外部提供冲击，也可以防止铰链（3）的损坏。

    ALUMINUM FLUORIDE FILMS FOR MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM APPLICATIONS
    165.
    发明申请
    ALUMINUM FLUORIDE FILMS FOR MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM APPLICATIONS 审中-公开
    用于微电子系统应用的氟化铝薄膜

    公开(公告)号：WO2008079229A1

    公开(公告)日：2008-07-03

    申请号：PCT/US2007/025936

    申请日：2007-12-17

    Applicant: QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. ,  CHIANG, Chih-Wei

    Inventor： CHIANG, Chih-Wei

    IPC: G02B26/00 ,  B81B3/00

    CPC classification number: G02B26/001 ,  B81B2201/047 ,  B81C1/00801 ,  B81C2201/014 ,  B81C2201/112

    Abstract: A microelectromechanical systems (MEMS) device utilizing an aluminum fluoride layer as an etch stop is disclosed. In one embodiment, a MEMS device (80) includes a first electrode (81) having a first surface; and a second electrode (82) having a second surface facing the first surface and defining a gap (85) therebetween. The second electrode (82) is movable in the gap (85) between a first position and a second position. At least one of the electrodes includes an aluminum fluoride layer (83) facing the other of the electrodes. During fabrication of the MEMS device, a sacrificial layer is formed between the first and second electrodes and is released to define the gap. The aluminum fluoride layer (83) serves as an etch stop to protect the first or second electrode during the release of the sacrificial layer.

    Abstract translation: 公开了一种利用氟化铝层作为蚀刻阻挡层的微机电系统（MEMS）装置。 在一个实施例中，MEMS器件（80）包括具有第一表面的第一电极（81） 和第二电极（82），其具有面向所述第一表面的第二表面并在其间限定间隙（85）。 第二电极（82）可在间隙（85）中在第一位置和第二位置之间移动。 至少一个电极包括面对另一个电极的氟化铝层（83）。 在MEMS器件的制造期间，在第一和第二电极之间形成牺牲层并被释放以限定间隙。 氟化铝层（83）用作蚀刻停止件以在释放牺牲层期间保护第一或第二电极。

    METHODS FOR PRODUCING MEMS WITH PROTECTIVE COATINGS USING MULTI-COMPONENT SACRIFICIAL LAYERS
    166.
    发明申请
    METHODS FOR PRODUCING MEMS WITH PROTECTIVE COATINGS USING MULTI-COMPONENT SACRIFICIAL LAYERS 审中-公开
    使用多组分复合层生产具有保护涂层的MEMS的方法

    公开(公告)号：WO2007106271A1

    公开(公告)日：2007-09-20

    申请号：PCT/US2007/003591

    申请日：2007-02-09

    Applicant: QUALCOMM INCORPORATED ,  TUNG, Ming-Hau ,  KOGUT, Lior

    Inventor： TUNG, Ming-Hau ,  KOGUT, Lior

    IPC: B81C1/00

    CPC classification number: B81C1/00801 ,  B81B3/001 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/042 ,  B81C2201/0109 ,  B81C2201/017 ,  B81C2201/112 ,  B81C2201/115 ,  G02B26/001 ,  Y10T428/30 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31935

    Abstract: Methods of forming a protective coating on one or more surfaces of a microelectromechanical device are disclosed comprising the steps of forming a composite layer of a sacrificial material and a protective material, and selectively etching the sacrificial material to form a protective coating. The protective coatings of the invention preferably improve one or more aspects of the performance of the microelectromechanical devices in which they axe incorporated. Also disclosed are microelectromechanical devices formed by methods of the invention, and visual display devices incorporating such devices.

    Abstract translation: 公开了在微机电装置的一个或多个表面上形成保护涂层的方法，其包括以下步骤：形成牺牲材料和保护材料的复合层，并选择性地蚀刻牺牲材料以形成保护涂层。 本发明的保护涂层优选地改进其中所包含的微机电装置的性能的一个或多个方面。 还公开了通过本发明的方法形成的微机电装置以及包括这种装置的视觉显示装置。

    STICTION ALLEVIATION USING PASSIVATION LAYER PATTERNING
    169.
    发明申请
    STICTION ALLEVIATION USING PASSIVATION LAYER PATTERNING 审中-公开
    使用钝化层方式进行提示

    公开(公告)号：WO2003067662A1

    公开(公告)日：2003-08-14

    申请号：PCT/US2003/002578

    申请日：2003-01-29

    Applicant: SUPERCONDUCTOR TECHNOLOGIES, INC. ,  PROPHET, Eric, M.

    Inventor： PROPHET, Eric, M.

    IPC: H01L27/108

    CPC classification number: B81B3/001 ,  B81C2201/112 ,  H01L29/66181

    Abstract: The present invention alleviates stiction between a suspended beam (25) or microstructure and an underlying substrate (15) by providing a patterned passivation layer (20) on the substrate underneath the beam. The passivation layer is patterned to provide a substrate surface that differs substantially from the bottom surface (27) of the beam. The difference between these two surfaces reduces the potential contact area between the beam and the substrate when the beam is pulled down, thereby reducing adhesive forces between the beam and the substrate and reducing the likelihood of stiction. In one embodiment, the passivation layer is patterned to form a substrate surface comprising a plurality of protuberances (40).

    Abstract translation: 本发明通过在光束下面的衬底上提供图案化的钝化层（20）来减轻悬挂梁（25）或微结构和下面的衬底（15）之间的粘结。 钝化层被图案化以提供与梁的底表面（27）大不相同的衬底表面。 这两个表面之间的差异减小了当光束被拉下时光束和基板之间的潜在接触面积，从而减小光束与基板之间的粘合力，并降低粘结的可能性。 在一个实施例中，钝化层被图案化以形成包括多个突起（40）的衬底表面。

Patent Agency Ranking