公开(公告)号：KR101021480B1

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：KR1020070126968

申请日：2007-12-07

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  김경남 ,  임종혁 ,  박정균

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/30 ,  H05H1/34 ,  H05H1/40

Abstract: 본 발명은 페라이트 구조체를 구비하는 플라즈마 소스 및 이를 채택하는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 반응챔버의 내측 상부에 형성된 제1 안테나 및 제2 안테나의 일측을 연결한 루프형 선형안테나로부터 방사형으로 형성된 필드(field)를 상기 반응챔버 내부에 안착된 처리기판 방향으로 집중시키는 페라이트 구조체를 포함하는 구성을 마련한다.
상기와 같은 페라이트 구조체를 구비하는 플라즈마 소스 및 이를 채택하는 플라즈마 발생장치를 이용하는 것에 의해, 방사형으로 형성되는 필드(field)를 처리기판으로 집중시켜 전력손실을 줄이고, 반응챔버 내부에서 플라즈마의 밀도 및 균일도를 향상시켜 반도체 제조공정의 효율성 및 수율을 높일 수 있다.
선형안테나, 플라즈마, 페라이트, 유도코일