公开(公告)号：KR1020090059884A

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：KR1020070126968

申请日：2007-12-07

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  김경남 ,  임종혁 ,  박정균

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/30 ,  H05H1/34 ,  H05H1/40

CPC classification number: H01J37/32669 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32174 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4667

Abstract: A plasma source and a plasma generating apparatus using the same are provided to concentrate a field of a radial shape to a substrate to be treated by mounting a ferrite structure on a linear type antenna. One linear antenna(21) forms a loop type by connecting one side of a first antenna of a linear type to one side of a second antenna of a linear type. A ferrite structure(23a) is positioned in each top part of the first antenna and the second antenna of the linear antenna. The ferrite structure concentrates a field formed into a radial type from the antenna to a specific direction. The ferrite structure is formed into an arch type.

Abstract translation: 提供了一种等离子体源和使用该等离子体源的等离子体产生装置，通过将铁氧体结构安装在线性天线上将径向形状的场域集中到待处理的基板上。 一个线性天线（21）通过将线性类型的第一天线的一侧连接到线性类型的第二天线的一侧来形成环路类型。 铁氧体结构（23a）位于第一天线的每个顶部和线性天线的第二天线中。 铁氧体结构将从天线形成的径向类型的场集中到特定方向。 铁氧体结构形成拱型。

公开(公告)号：KR101021480B1

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：KR1020070126968

申请日：2007-12-07

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  김경남 ,  임종혁 ,  박정균

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/30 ,  H05H1/34 ,  H05H1/40

Abstract: 본 발명은 페라이트 구조체를 구비하는 플라즈마 소스 및 이를 채택하는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 반응챔버의 내측 상부에 형성된 제1 안테나 및 제2 안테나의 일측을 연결한 루프형 선형안테나로부터 방사형으로 형성된 필드(field)를 상기 반응챔버 내부에 안착된 처리기판 방향으로 집중시키는 페라이트 구조체를 포함하는 구성을 마련한다.
상기와 같은 페라이트 구조체를 구비하는 플라즈마 소스 및 이를 채택하는 플라즈마 발생장치를 이용하는 것에 의해, 방사형으로 형성되는 필드(field)를 처리기판으로 집중시켜 전력손실을 줄이고, 반응챔버 내부에서 플라즈마의 밀도 및 균일도를 향상시켜 반도체 제조공정의 효율성 및 수율을 높일 수 있다.
선형안테나, 플라즈마, 페라이트, 유도코일