光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111752089A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202010221760.0

    申请日:2020-03-26

    Inventor: 山口昇

    Abstract: 提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法,提供可形成尺寸精度高的转印用图案的光掩模制造方法,其包括:准备在透明基板上依次形成有光学膜和抗蚀剂膜的光掩模基板的工序;初期显影工序,通过描绘、显影而在抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案;预备蚀刻工序,以抗蚀剂图案为掩模,对光学膜实施蚀刻,形成由光学膜得到的预备图案;追加显影工序,在由预备蚀刻工序形成的预备图案的边缘的至少一部分处于与抗蚀剂图案对应的区域内的状态下,对抗蚀剂图案实施追加显影,使抗蚀剂图案边缘后退,使预备图案边缘露出;测定工序,测定预备图案规定部位的尺寸;和追加蚀刻工序,基于测定工序中测定的尺寸确定追加蚀刻量,进一步蚀刻光学膜,形成确定图案。

    内窥镜
    182.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110267579B

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN201880011013.5

    申请日:2018-01-30

    Abstract: 提供一种用于获得良好的观察视野的内窥镜(10)。内窥镜(10)具备:照明光学系统,其具有从插入部的端面(561)突出的照明窗(52);圆柱体(57),其从所述端面(561)突出;以及观察窗(51),其设置在所述圆柱体(57)的内侧,并从所述端面(561)突出。所述照明窗(52)和所述观察窗(51)满足公式(1)和公式(2),并且,一条直线与所述照明光学系统的光轴的交点比所述插入部的端面(561)更靠近所述插入部侧,其中所述直线将所述观察窗(51)的光入射面边缘和所述圆柱体(57)的端面边缘连接。C≥D...(1),E≥D...(2),C是观察窗从插入部的端面突出的最大量。D是照明窗从插入部的端面突出的最大量。E是观察窗的光入射面边缘从插入部的端面突出的量。

    光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111665681A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010143020.X

    申请日:2020-03-04

    Inventor: 宫崎由宽

    Abstract: 提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法,能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法,对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正,该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案,其中,该光掩模的修正方法具有成膜工序,在该成膜工序中,在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下,将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中,并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光,使所述原料气体发生反应,由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。

    光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111665680A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010141996.3

    申请日:2020-03-04

    Inventor: 今敷修久

    Abstract: 提供光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法,提供即使辅助图案产生缺陷也不发生显示装置等电子器件的制造成品率或生产效率降低的光掩模的修正方法。转印用图案通过曝光而在被转印体上形成具有期望CD值的孔图案,包含由透光部构成的主图案(11);配置在主图案(11)附近且具有利用曝光分辨不出的宽度且具有相移作用的辅助图案(12);和在主图案(11)和辅助图案(12)以外的区域形成的低透光部(13)。通过进行下述步骤修正光掩模:确定步骤,辅助图案(12)产生了缺陷时,通过增减主图案(11)CD值,确定在被转印体上具有期望CD值的修正转印用图案的形状;和修正步骤,基于确定步骤中得到的形状,实施增减主图案(11)的CD值来修正为主图案(111)的修正加工。

    光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111624848A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010111676.3

    申请日:2020-02-24

    Abstract: 本发明提供光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法,在以过度蚀刻时间对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成于透明基板上的转印图案中抑制在与透明基板的界面的浸入。光掩模坯料为用于形成光掩模的底版,光掩模为通过湿法蚀刻图案形成用薄膜而得到的、在透明基板上具有转印图案的光掩模,图案形成用薄膜含有过渡金属、硅、氧、氮,通过XPS分析得到的氧的含有率为1原子%以上且70原子%以下,且在将透明基板与图案形成用薄膜的界面定义为通过XPS分析得到的图案形成用薄膜中包含的过渡金属的含有率为0原子%的位置时,从界面起向上述图案形成用薄膜的表面30nm以内的区域中,氮相对于氧的比率存在最大值。

    内窥镜用变倍光学系统及内窥镜

    公开(公告)号:CN107076967B

    公开(公告)日:2020-09-01

    申请号:CN201680002885.6

    申请日:2016-08-29

    Inventor: 藤井宏明

    Abstract: 本发明有关一种内窥镜用变倍光学系统,其构成为,由从物体侧依次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组构成,所述第一透镜组具有负的屈光度,所述第二透镜组具有正的屈光度,所述第三透镜组至少具有凹面朝向物体侧的凸凹透镜及正透镜,在将第一透镜组的最物体侧的透镜面至像面的距离保持为一定的同时,通过使至少第二透镜组相对于固定透镜组即该第一透镜组沿光轴方向移动,使光学像变倍。

    医用设备支架
    188.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107708520B

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN201680039305.0

    申请日:2016-06-15

    Abstract: 公开的实施例可包括内窥镜落地支架。根据一个实施例,内窥镜落地支架可包括基座和可调节的主体。主体可包括至少第一细长结构,该第一细长结构具有第一端和第二端,其中,第一端连接到基座。主体还可包括至少第二细长结构,该第二细长结构相对于第一细长结构可滑动地移动,以调节内窥镜落地支架的高度,并且第二细长结构可悬置在基座的上方。支架还可包括球形接头,其中,球形接头的至少一部分被配置为可拆卸地耦接到位于主体的与基座相对的端部。球形接头还可包括从球形接头延伸并且尺寸设置成接收用于内窥镜的保持件。

    内窥镜系统
    190.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107072511B

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN201680002893.0

    申请日:2016-10-12

    Inventor: 福田雅明

    Abstract: 本发明提供一种内窥镜系统,该内窥镜系统由如下部件构成:光源单元,其交互地射出第一照明光和第二照明光;拍摄单元,其生成被第一照明光照明的被拍摄体的第一图像信号,生成被第二照明光照明的被拍摄体的第二图像信号;第一图像信号存储单元,其存储第一图像信号;第二图像信号存储单元,其存储第二图像信号;图像评价值计算单元,其计算出基于第一图像信号的图像评价值和基于第二图像信号的图像评价值的至少一方;图像信号选择单元,基于图像评价值选择第一显示用图像信号并选择第二显示用图像信号;显示单元,其显示分别基于第一显示用图像信号、第二显示用图像信号的第一图像、第二图像。

Patent Agency Ranking