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公开(公告)号：CN111665681B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202010143020.X
申请日：2020-03-04
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 宫崎由宽
Abstract: 提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法，能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。
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公开(公告)号：CN111665681A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010143020.X
申请日：2020-03-04
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 宫崎由宽
Abstract: 提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法，能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。
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公开(公告)号：CN110967919A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910915865.3
申请日：2019-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 宫崎由宽
Abstract: 本发明提供光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模，目的在于减少光掩模的缺陷的产生，提高光掩模制造的生产效率及品质。一种光掩模基板的制造方法，上述光掩模基板在透明基板(1)上具有遮光膜(3)，其用于通过至少将上述遮光膜(3)图案化而形成包含透光部和遮光部的转印用图案从而制成光掩模，其中，遮光膜(3)包含分别具有光密度OD为1.5以上的遮光性的上层(3b)和下层(3a)，上述光掩模基板的制造方法具有下述工序：在透明基板(1)上形成下层(3a)的工序；对下层(3a)的表面实施第1异物除去处理的工序；和在下层(3a)上形成上层(3b)的工序。
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