公开(公告)号：US5165905A

公开(公告)日：1992-11-24

申请号：US620054

申请日：1990-11-30

Applicant: Shigeo Sasaki ,  Miho Yamada

Inventor： Shigeo Sasaki ,  Miho Yamada

IPC: C01B33/141 ,  C01B33/148 ,  C01B33/18

CPC classification number: C01B33/18 ,  C01B33/1485 ,  C01P2006/80 ,  C03B2201/03

Abstract: A process for producing high purity silicic acid aqueous solution is disclosed, wherein alkali metals in an alkali silicate solution are removed by ion-exchanging, the resulting solution is treated in an electrochemical process in the present of a strong acid and oxidizing agent to solubilize the remaining non-alkali metal salts, and the non-alkali metals in the water soluble salts are removed by ion-exchanging to obtain the silicic acid aqueous solution.

公开(公告)号：WO2017103160A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081512

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WITTRIN, Mirko ,  WILDE, Markus

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B19/10 ,  C03B37/012 ,  C03B17/04

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B17/04 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1085 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03C1/026 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, erhältlich aus einem Siliziumdioxidpulver, wobei das Siliziumdioxidgranulat eine größere Partikelgröße aufweist als das Siliziumdioxidpulver; ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Schmelztiegel mindestens einen Einlass und einen Auslassbeinhaltet, wobei mindestens ein Teil der Glasschmelze durch den Auslass des Schmelztiegels entnommen wird. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML ;. Rpers包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats，＆AUML ERH;二氧化硅粉末，ltlich其中Siliziumdioxidgranulat一个GR＆ouml;道路ERE粒子＆OUML;道路 作为二氧化硅粉末; 。ii）形成玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化和iii）从所述熔融玻璃的至少一部分上，形成了石英玻璃＆OUML ;. Rpers其中所述坩埚的至少一个入口和一个Auslassbeinhaltet，其中，所述熔融玻璃的至少一部分被取出通过坩埚的出口处。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2017103156A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081506

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  TROMMER, Martin

IPC: C03B20/00 ,  C03B19/10 ,  C03C12/00 ,  C01B33/18

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/0336 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/106 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei das Siliziumdioxidgranulat durch Bereitstellung und Verarbeiten eines Siliziumdioxidpulvers erfolgt. Die Erfindung betrifft ebenfalls ein Siliziumdioxidgranulat, das durch Bereitstellung eines Siliziumdioxidpulvers und dessen Verarbeitung erfolgt. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化和iii）形成的石英玻璃与OUML; ...的至少一个的Rpers 部分熔融玻璃，其中Siliziumdioxidgranulat通过提供和处理硅石粉发生。 本发明还涉及一种通过提供二氧化硅粉末并加工而制成的二氧化硅颗粒。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2017034966A1

公开(公告)日：2017-03-02

申请号：PCT/US2016/047742

申请日：2016-08-19

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BANKAITIS, Jonas ,  BHAGAVATULA, Venkata Adiseshaiah ,  HAWTOF, Daniel Warren ,  LI, Xinghua ,  MERZ, Gary Edward ,  STONE, John, III

IPC: C03B19/14 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/03 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/3488

Abstract: A system and method for making a thin sintered silica sheet is provided. The method includes providing a soot deposition surface and forming a glass soot sheet by delivering a stream of glass soot particles from a soot generating device to the soot deposition surface. The method includes providing a sintering laser positioned to direct a laser beam onto the soot sheet and forming a sintered glass sheet from the glass soot sheet by delivering a laser beam from the sintering laser onto the glass soot sheet. The sintered glass sheet formed by the laser sintering system or method is thin, has low surfaces roughness and/or low contaminant levels.

Abstract translation: 提供一种用于制造薄的烧结二氧化硅片的系统和方法。 该方法包括提供烟灰沉积表面并通过将烟灰发生装置的玻璃烟灰颗粒流输送到烟灰沉积表面来形成玻璃烟灰片。 该方法包括提供烧结激光器，其定位成将激光束引导到烟灰片上，并通过将来自烧结激光器的激光束输送到玻璃烟炱片上，从玻璃烟炱片形成烧结玻璃片。 通过激光烧结体系或方法形成的烧结玻璃板薄，表面粗糙度低和/或污染物含量低。

公开(公告)号：WO2006094876A3

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：PCT/EP2006050946

申请日：2006-02-15

Applicant: DEGUSSA ,  MEYER JUERGEN ,  OSWALD MONIKA ,  DELLER KLAUS

Inventor： MEYER JUERGEN ,  OSWALD MONIKA ,  DELLER KLAUS

IPC: C01B33/18

CPC classification number: C09C1/3036 ,  C01B33/18 ,  C01P2006/11 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/17 ,  C01P2006/19 ,  C03B19/106 ,  C03B19/108 ,  C03B2201/03 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2993 ,  Y10T428/2995

Abstract: Granules based on silicon dioxide and having the properties : Average grain size: 10 to 120 µm BET surface area: 40 to 400 m2/g Pore volume: 0.5 to 2.5 ml/g Pore size distribution: less than 5 % of the total pore volume exists of pores with a diameter

Abstract translation: 基于二氧化硅并具有以下性质的颗粒：平均粒度：10-120μmBET表面积：40-400m 2 / g孔体积：0.5-2.5ml / g孔径分布：小于总孔体积的5％ 存在直径<5nm的孔，剩余的中孔和大孔pH值：3.6-8.5振实密度：220-700g / l它们通过将二氧化硅分散在水中，喷雾干燥，任选地加热和/或硅烷化来制备。 尽管BET表面积为30至90m 2 / g，DBP指数为80或更小，平均聚集体面积小于25000nm 2且平均聚集体周长小于1000nm的热解二氧化硅粉末，其中至少 通过用金属含量小于30ppb的四氯化硅通过以下方式反应来制备70％的聚集体具有小于1300nm的周长或具有小于0.2μg/ g的金属含量的高纯度热解法制备的二氧化硅： 使用火焰水解。

公开(公告)号：WO2005056486A3

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：PCT/EP2004013723

申请日：2004-12-02

Applicant: WACKER CHEMIE GMBH ,  HAACK BERND ,  HUBER HELMUT ,  MAGINOT HELMUT ,  SZILLAT HOLGER

Inventor： HAACK BERND ,  HUBER HELMUT ,  MAGINOT HELMUT ,  SZILLAT HOLGER

IPC: C03B19/10

CPC classification number: C03B19/1025 ,  C03B19/102 ,  C03B2201/03

Abstract: The invention relates to a device for the production of fused silica, which is characterized in that the device, the following components of which are now free from metal, comprises a conveyor device for fumed silica, a measuring device and a dosing device followed by a reactor with a fusion device followed by a separation device.

Abstract translation: 用于制造熔融二氧化硅的装置，其特征在于，这是现在以下组分是不含金属的装置中，下一个未来包括用于热解法二氧化硅，一个测量装置和计量装置，然后具有Versinterungsvorrichtung的反应器中并在其上的沉积装置的输送装置。

公开(公告)号：WO2005028385A1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：PCT/EP2004/009318

申请日：2004-08-19

Applicant: WACKER-CHEMIE GMBH ,  SCHWERTFEGER, Fritz

Inventor： SCHWERTFEGER, Fritz

IPC: C03B20/00

CPC classification number: B01J21/08 ,  B28B1/26 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C04B35/14 ,  C04B2235/6022 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/77

Abstract: Amorpher poröser offenporiger SiO2-Formkörper, dadurch gekenn- zeichnet, dass er aus zwei Schichten besteht, und die Schichten eine identische Struktur und Zusammensetzung besitzen.

Abstract translation: 无定形多孔开孔的SiO2状体，其特征在于标记为其特征在于它由两层组成，并且这些层具有相同的结构和组成。

公开(公告)号：WO2003084889A1

公开(公告)日：2003-10-16

申请号：PCT/JP2003/004267

申请日：2003-04-03

Applicant: 住友電気工業株式会社 ,  横川 知行 ,  梁田 英二 ,  平野 正晃

Inventor： 横川 知行 ,  梁田 英二 ,  平野 正晃

IPC: C03B37/012

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/36 ,  G02B6/02261 ,  G02B6/02271 ,  G02B6/0228 ,  G02B6/03644 ,  G02B6/03666

Abstract: 本発明の課題は、OH基がコア部の近傍に侵入することを防止して伝送損失の増加を抑制することのできる光ファイバの製造方法及び光ファイバを提供することである。本発明の光ファイバの製造方法は、出発材としての出発パイプ14の内面にリング部15を内付けしてガラスパイプ16を形成し、中心コア部11及びディプレスト部12となるべきガラスロッド13をガラスパイプ16の内側に挿入し、ガラスパイプ16とガラスロッド13とをコラップスにより一体化してガラス体17を形成した後、ガラス体17の外側にジャケット部18を設けてプリフォーム10aを形成し、プリフオーム10aを線引きして光ファイバ10を製造する光ファイバの製造方法であって、出発パイプ14の肉厚14aを、4mm～8mmに設定する。

Abstract translation: 光纤制造方法和光纤。 通过防止OH基进入芯部附近，防止了传输损失的增加。 一种光纤制造方法，其特征在于，在作为起始部件的起动管（14）的内表面安装环状部（15），形成玻璃管（16），将玻璃棒（13）插入 将中心芯（11）和凹陷部分（12）分别插入玻璃管（16）中，通过塌缩将玻璃管（16）和玻璃棒（13）整合，以形成玻璃体（17），从而提供 在玻璃体（17）外部的护套部分（18），以形成预成型件（10a），并且绘制（10a）制造光纤（10）。 起动管（14）的壁厚（14a）设定为4〜8mm。

公开(公告)号：WO2003078321A1

公开(公告)日：2003-09-25

申请号：PCT/EP2003/002316

申请日：2003-03-06

Applicant: WACKER-CHEMIE GMBH ,  SZILLAT, Holger ,  SCHWERTFEGER, Fritz ,  HAACK, Bernd ,  SCHÄFER, Marcus

Inventor： SZILLAT, Holger ,  SCHWERTFEGER, Fritz ,  HAACK, Bernd ,  SCHÄFER, Marcus

IPC: C01B33/18

CPC classification number: B82Y30/00 ,  C01B33/183 ,  C01P2002/84 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C03B19/1025 ,  C03B2201/03 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/46 ,  C03C3/06 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/44

Abstract: Silica-Pulver mit einer Summe an Verunreinigungen kleiner 500 ppb.

Abstract translation: 具有小于500个ppb的杂质的总和二氧化硅粉末。

公开(公告)号：WO2003002473A1

公开(公告)日：2003-01-09

申请号：PCT/JP2002/006504

申请日：2002-06-27

Applicant: 株式会社渡邊商行 ,  旭電化工業株式会社 ,  楠原 昌樹 ,  渡部 弘行 ,  上原 啓史 ,  三瓶 桂子 ,  栗田 有康 ,  多田 修一 ,  尾見 仁一 ,  高橋 真木雄 ,  森田 博

Inventor： 楠原 昌樹 ,  渡部 弘行 ,  上原 啓史 ,  三瓶 桂子 ,  栗田 有康 ,  多田 修一 ,  尾見 仁一 ,  高橋 真木雄 ,  森田 博

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1065 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C1/026 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02

Abstract: High purity synthetic vitreous silica particles, characterized in that it is derived from an alkali metal silicate and has a total metal impurity content of 1 μg/g or less, and in particular has an oxygen deficient defect. The melt of the high purity synthetic vitreous silica particles exhibits a high viscosity similar to that of the melt of natural quartz, and the above synthetic vitreous silica has a high purity similar to that of a conventional synthetic quartz and can be produced at a reduced cost.

Abstract translation: 高纯度合成玻璃状二氧化硅粒子，其特征在于，其来自碱金属硅酸盐，总金属杂质含量为1μg/ g以下，特别是缺氧缺陷。 高纯度合成玻璃状二氧化硅粒子的熔体显示与天然石英熔体相似的高粘度，上述合成玻璃状二氧化硅具有与常规合成石英相似的高纯度，可以降低成本 。