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公开(公告)号:CN118347701A
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202410054552.4
申请日:2024-01-12
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供即使在不同的发光条件下也能够高精度地测定从显示器等能够发光的测定对象物测定的亮度、色度等测定对象参数的光测定装置、光测定系统及光测定方法、显示器调整系统及调整方法、以及记录介质。具备:受光单元(20),接收来自能够发光的测定对象物(4)的光;存储单元(29b),按照测定对象物的每种发光颜色,预先存储与对应于测定对象物的多个发光模式的多个灰度相对应的校正数据;以及发光信息计算单元(27d),使用与由受光单元接收的光强度信号和与测定对象物的发光状态对应的校正数据,计算包括由受光单元接收的光的测定对象参数的发光信息。
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公开(公告)号:CN118339580A
公开(公告)日:2024-07-12
申请号:CN202280078663.8
申请日:2022-11-04
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor: 川上主马
IPC: G06T7/00 , G06T7/90 , G06N3/0464
Abstract: 提供即使在由于某种主要因素推测不出希望推测的关节、区域的情况下也能够在不需要向作业者佩戴终端、不需要新的学习的同时补充该关节、区域的要推测区域推测系统。要推测区域推测系统具备:检测部,从物体的图像检测物体的关节点;以及推测部,根据利用检测部检测出的关节点,推测要推测区域。
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公开(公告)号:CN111796495B
公开(公告)日:2024-07-02
申请号:CN202010241617.8
申请日:2020-03-31
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的问题涉及能够抑制游离外部添加剂产生量、使感光体磨损、清洁刀片磨损减少、抑制清洁不良导致的图像不良的电子照相图像形成方法和电子照相图像形成系统。本发明的电子照相图像形成方法是使用电子照相感光体的电子照相图像形成方法,其中,所述电子照相感光体具有保护层,所述保护层的表面具有凸部结构,多个凸部中彼此相邻的凸部间的平均距离R被设置在100~250nm的范围内,并且,使用使钛酸化合物粒子附着在调色剂母体粒子上而得到的调色剂。
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公开(公告)号:CN118251684A
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202280075636.5
申请日:2022-08-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor: 指田岳彦
Abstract: 在机器学习方法中,取得序列数据,针对序列数据,根据预定条件进行序列方向的尺寸调整的预处理,从而利用1个序列数据生成序列方向的间隔相互不同的多个调整后序列数据,使用生成的多个调整后序列数据进行监督学习,生成学习模型。
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公开(公告)号:CN118240424A
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202311739304.5
申请日:2023-12-18
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: C09D11/322
Abstract: 本发明提供一种能够进一步提高固化物的亮度的活性能量射线固化型组合物。本发明的活性能量射线固化型组合物包含第一单体和蓄光颜料,所述第一单体是折射率为1.49以上且1.65以下的活性能量射线固化性化合物。
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公开(公告)号:CN111904442B
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202010375850.5
申请日:2020-05-07
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: A61B6/00
Abstract: 本发明涉及放射线图像拍摄装置、电子设备、无线通信系统以及程序和存储介质,即便是不具有专业知识的人,也能够容易地进行设置时的设定。一种放射线图像拍摄装置,根据照射的放射线生成图像,其中,具备:通信部,与进行无线通信的信息处理装置直接进行无线通信,接收从所述信息处理装置发送的用于在设置时进行预定的设定的设置设定信息;以及设定部,依照由所述通信部接收到的所述设置设定信息,进行该放射线图像拍摄装置的设定。
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公开(公告)号:CN118183613A
公开(公告)日:2024-06-14
申请号:CN202311679992.0
申请日:2023-12-08
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor: 多田一成
Abstract: 本发明提供能以少量的掩模形成次数形成耐摩擦性强、高耐久且超疏水性的微细凹凸结构、并能谋求削减成本的功能性膜的制造方法和功能性膜。另外,提供即使在基材的折射率高的情况下也能以低反射兼顾耐摩擦性和超疏水性的功能性膜的制造方法等。本发明的功能性膜的制造方法是含有无机物且表面具有微细凹凸结构的功能性膜的制造方法,具备一次掩模形成工序和蚀刻工序,在膜厚方向的垂直截面形状中,将构成微细凹凸结构的多个凸部形成为一级或多级台阶状,并且将无机物的莫氏硬度设为X并将上述凸部的台阶数设为整数Y时,满足下述式(I),并且使从最下级的上述凸部的最底面到最上级的上述凸部的最表面为止的平均高度为1μm以下。式(I):10≤X×Y。
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公开(公告)号:CN114746782B
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN202080083211.X
申请日:2020-10-05
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G02B5/30 , B29C55/02 , H10K59/10 , G02F1/13363 , H05B33/02
Abstract: 光学膜,其含有环烯烃树脂和具有下述通式(1)表示的结构的化合物。(Y表示元数为5~20的芳香族杂环,X1及X2表示与构成Y的原子形成单键的取代或未取代的芳香环基,R表示氢原子、氰基、羟基或碳数1~10的烷基,或者用2个表示=O。n为Y的价数,为2以上的整数。将Y的中心和构成X1的环中最远离Y的环的中心进行连接的直线L1与将Y的中心与构成X2的环中最远离Y的环的中心进行连接的直线L2所成的角为110°~145°。)#imgabs0#
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公开(公告)号:CN118103214A
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202180102357.9
申请日:2021-09-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的喷墨装置具备基材、以至少一个主面与所述基材接触的方式进行了叠层的树脂层、和以油墨与所述树脂层的一部分接触而流通的方式进行了配设的油墨流路,其中,所述树脂层包含碳、氧、氮和硅,并且所述主面的至少一个面满足以下的(1)和(2)的要件。(1)所述主面与所述基材接触。(2)通过X射线光电子能谱法测定的所述树脂层的所述主面和内部中的氮、氧和硅的原子浓度(atm%)之间的关系为:主面O>内部O且主面N>0,并且主面Si/内部Si为5以上。
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公开(公告)号:CN118102611A
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202311574789.7
申请日:2023-11-22
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题为提供能够进一步提高金属层与树脂层之间的密合性的表面改性剂、及使用有该表面改性剂的印刷配线板的制造方法。本发明的表面改性剂为在金属层与树脂层之间形成表面改性层的表面改性剂,其特征在于,由下述式A求出的吸光度变化率Z为5~30%的范围内。式A Z[%]=(X‑Y)/X×100[将涂布前的上述表面改性剂的吸光度设为吸光度X。将涂布于铜板后没有附着于上述铜板而剩余的上述表面改性剂的吸光度设为吸光度Y。各吸光度采用分光光度测定中得到的吸收光谱的300~800nm的波长范围内的最大吸收极大的吸光度。]。
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