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公开(公告)号：CN1279406C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN03178649.9
申请日：2003-07-18
Applicant: 长濑产业株式会社 , 株式会社平间理化研究所 , 长濑CMS科学技术株式会社
IPC: G03F7/42
CPC classification number: H01L21/67207 , G03F7/42 , H01L21/67017 , H01L21/6715
Abstract: 本发明公开了一种抗蚀剂剥离装置，具有收容粘附抗蚀剂的基板、向该基板上供给抗蚀剂剥离液的抗蚀剂剥离室，与前述抗蚀剂剥离室相连接、导入含该抗蚀剂剥离室内的抗蚀剂剥离液成分的混合气、分离该混合气中的该抗蚀剂剥离液成分的气液分离部分，与前述气液分离部分相连接、把分离的前述抗蚀剂剥离液成分供给前述抗蚀剂剥离室内的回收抗蚀剂剥离液供给部分。
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公开(公告)号：CN1781975A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510128932.5
申请日：2002-02-21
Applicant: 东丽株式会社 , 长濑色彩及化学品株式会社 , 长濑产业株式会社
Abstract: 本发明提供一种不会抑制PPS特有的特征、对紫外线等光线的耐久性优良、即使在室外使用也不会变色的PPS构件。本发明PPS构件的特征是，基于JIS L－0842测定的对紫外线碳弧灯光的耐光牢度在1级以上。
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公开(公告)号：CN1647181A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03808580.1
申请日：2003-04-15
Applicant: 长濑产业株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0017 , G11B7/261 , G11B7/263
Abstract: 本发明的目的在于，可在制造光盘母盘时省去需要长时间且容易产生不良的Ni电铸工序，另外，可形成精度高的细微凹凸图形的光盘母盘原盘等。本发明光盘母盘原盘11是顺序地层积基盘1、半交联抗蚀剂层2及预焙抗蚀剂层3的装置。预焙抗蚀剂层3由甲氧基甲基化蜜胺构成，可容易地通过曝光、显影形成突起部(图1C)。
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公开(公告)号：CN1379285A
公开(公告)日：2002-11-13
申请号：CN02103474.5
申请日：2002-02-06
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社 , 长濑CMS科学技术株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , B01F3/088 , B01F15/00155 , B01F15/0022 , B01F15/0408 , B01F2003/0896 , B01F2215/0093
Abstract: 提供显影液制造装置及方法,该装置备有供给且搅拌显影原液和纯水的调制槽、以及与该调制槽连接设置的正常化槽,正常化槽通过管路连接在形成电子电路的加工设备上。调制槽及正常化槽具有测定各自槽内的碱系显影液的碱浓度的第一及第二碱浓度测定装置。在调制槽中,根据第一碱浓度测定装置的测定值,调整供给槽内的显影原液的供给量及纯水的供给量中的至少一个,调制系碱显影液。该碱系显影液送给正常化槽,碱浓度被正常化后,通过管路送给加工设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1327888A
公开(公告)日：2001-12-26
申请号：CN00118129.7
申请日：2000-06-09
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社
IPC: B08B3/04 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 提供了处理液能循环使用、且即使反复循环使用也能连续保持处理液自身的性能的基板表面处理装置,该装置包括:其中,依次将处理液与冲洗液送抵配置在处理台上的基板的处理装置;分别回收废处理液与废冲洗液的液体回收装置;贮留废处理液,由电导率计30和/或吸光光度计32检测废处理液中至少一种成分的浓度,依该检测值补给调整处理液,对处理液进行调整的废液贮留·浓度检测·液体补给装置;以及将调整后的处理液供给前述处理装置的处理液供给装置。
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公开(公告)号：CN1307919A
公开(公告)日：2001-08-15
申请号：CN00124188.5
申请日：1995-03-23
Applicant: 长濑产业株式会社 , 株式会社东海弹簧制作所
IPC: B01D25/00
CPC classification number: B01D25/26 , B01D25/001 , B01D29/111 , B01D29/41 , B29C47/362 , B29C47/68 , Y10S29/902 , Y10T29/30 , Y10T29/301 , Y10T29/303 , Y10T29/496 , Y10T29/49604 , Y10T29/49616 , Y10T29/49835 , Y10T29/49904 , Y10T428/12361 , Y10T428/12368
Abstract: 设置在一其表面部分具有过滤介质的圆板状滤板内部的支撑板的制造方法,包括以下步骤:在一环状板上成形出多个长孔,每个长孔之间有间隔并沿着环状板的径向延伸,所述多个长孔配置在(a)环状板的周向上,及(b)环状板的径向方向,以多个环形系列的形式存在;其中每个长孔形成纵向延伸的长缝,在两端部具有直径大于长缝的中央部分的宽度的圆孔;通过将相应各对长孔之间的部分以相对环状板的一底板部分大致成90。的角度进行扭转,形成多个从底板部分的上和下表面垂直于底板部分延伸出的立片。
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公开(公告)号：CN1294388A
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN00120062.3
申请日：2000-07-05
Abstract: 一种包括一个线圈支承构件和一个承载构件的摆动致动器,该承载构件包括一个轴承孔和一根或多根杆,其中,在杆具有按照离开承载构件中的轴承孔的顺序而排列的一个中间部分和一个头部部分,且该中间部分的厚度小于头部部分的厚度。该摆动致动器用于盘装置,显示出优良的尺寸稳定性并能被便利而节俭地生产。
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公开(公告)号：CN1065447C
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN95104085.5
申请日：1995-03-23
Applicant: 长濑产业株式会社 , 株式会社东海弹簧制作所
IPC: B01D29/05
CPC classification number: B01D25/26 , B01D25/001 , B01D29/111 , B01D29/41 , B29C47/362 , B29C47/68 , Y10S29/902 , Y10T29/30 , Y10T29/301 , Y10T29/303 , Y10T29/496 , Y10T29/49604 , Y10T29/49616 , Y10T29/49835 , Y10T29/49904 , Y10T428/12361 , Y10T428/12368
Abstract: 设置在一圆板状滤板内部的支撑板的制造方法，包括：成形出一个具有两相反表面的环状板；通过挤压在所述环状板上成形出多个沿纵向延伸的波形部分，所述波形部分在相反方向上交替延伸超过所述两相反表面，每个所述多个波形部分基本上在所述环状板的纵向圆周方向上延伸，并且所述多个波形部分基本上在所述环状板的径向方向上彼此相邻配置，该支撑板具有高耐压强度、低压力损失、良好的聚合物流动方向性和优异的聚合物混合效果，适合用作设在过滤板内层的护圈。
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公开(公告)号：CN1108767A
公开(公告)日：1995-09-20
申请号：CN94119237.7
申请日：1994-12-23
Applicant: 株式会社平间理化研究所 , 长濑产业株式会社
Abstract: 一种用于液晶基板和半导体制造工艺的光刻胶剥离管理装置。此装置可恒定地控制光刻胶剥离液质量，且可削减液体用量、减少停机时间和降低成本，其包括用吸光光度计16检测剥离液中溶解的光刻胶浓度并排出剥离液的光刻胶剥离液置放装置，用液面高度仪3检测剥离液的液面高度并补给有机溶剂和MEA等烷醇基胺的第一补给装置以及用吸光光度计15检测剥离的MEA等烷醇基胺浓度并补给有机溶剂和烷醇基胺二者中至少一种的第二补给装置。
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