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公开(公告)号：CN114514474B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202080067332.5
申请日：2020-09-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 林宇翔 , J·亚当斯 , T·M·T·A·M·埃拉扎里 , K·肖梅
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/956
Abstract: 一种系统(500)，包括照射系统(502)、透镜元件(506)和检测器(504)。所述照射系统产生辐射束(510)，该辐射束在光瞳平面(528)处具有第一空间强度分布(800)以及在目标(514)的平面处具有第二空间强度分布(900)。所述第一空间强度分布包括环形强度轮廓(802)或与三个或更多个束对应的强度轮廓。所述透镜元件将所述束聚焦到所述目标上。所述第二空间强度分布与所述第一强度分布是共轭的，并且具有与中心束(902)以及与所述中心束基本上隔离的一个或更多个旁瓣(904)对应的强度轮廓。所述中心束在所述目标处具有约20微米或更小的束直径。所述检测器接收由所述目标散射的辐射并且基于所接收的辐射产生测量信号。
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公开(公告)号：CN114402264B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202080064758.5
申请日：2020-09-04
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： M·U·阿高恩卡
Abstract: 披露了一种经改善的激光器模块。该激光器模块可以包括：激光源(310)，该激光源被配置成产生激光；以及无限冲激响应滤波器，该无限冲激响应滤波器被配置成通过对激光的分量的相位进行解相关来减小所述激光的相干效应。无限冲激响应滤波器可以包括多个光学耦合器(410，420，430，440，450)，以形成分别具有不同的光学路径长度(L1，L2，L3)的多个光学传播回路。激光器模块还可以包括声光调制器，该声光调制器被布置于光学传播回路中并且被配置成使光学载波频率移位，使得激光器模块的输出具有加宽的光谱以进一步减小相干效应。
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公开(公告)号：CN111051986B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201880055936.0
申请日：2018-07-31
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： V·A·佩雷兹-法尔肯 , M·A·奇达
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了用于清洁诸如卡盘的夹具的支撑件的方法和系统，卡盘的夹具保持光刻装置中的图案形成设备或晶片。该方法包括将静电清洁衬底装载到光刻装置中。静电清洁衬底包括至少一个电极。该方法还包括使静电清洁衬底靠近要被清洁的夹具表面，并且将电极连接到电压源。支撑件上存在的颗粒然后被转移到静电清洁衬底上。
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公开(公告)号：CN117836713A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280057125.0
申请日：2022-08-08
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·U·阿高恩卡 , A·阿布多尔万德 , W·R·彭格斯 , J·J·M·巴塞曼斯 , 倪永锋
Abstract: 用于通过光谱加宽产生宽带辐射的辐射源组件和方法。该辐射源组件包括泵组件，该泵组件被配置为提供宽带输入辐射。该泵组件包括泵浦源，被配置为提供泵浦波长的第一辐射，和宽带组件，被配置为提供包括连续波长范围的第二辐射，其中第一辐射和第二辐射形成宽带输入辐射。该辐射源组件还包括光纤，被配置为接收宽带输入辐射。该光纤包括芯部，该芯部被配置为沿着光纤的长度的至少一部分，以在所接收的宽带输入辐射传播通过光纤期间引导所接收的宽带输入辐射，以便通过光谱加宽产生待由光纤输出的宽带辐射。
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公开(公告)号：CN117546101A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202280044880.5
申请日：2022-06-13
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： 让-菲利普·泽维尔·范达默 , R·J·约翰森 , 拉贾·加纳帕蒂·苏布拉曼尼安
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中的实施例描述了用于对光刻设备处的图案形成装置进行热调节的系统、方法和装置。描述了一种用于对光刻设备的图案形成装置(202)进行热调节的图案形成装置冷却系统，所述冷却系统包括：热调节器，所述热调节器对所述图案形成装置进行热调节；和控制器，所述控制器控制所述热调节器以确定所述图案形成装置的温度状态，确定所述光刻设备的生产状态，以及基于所述温度状态和所述光刻设备的生产状态，对所述图案形成装置进行热调节。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117063127A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280023485.9
申请日：2022-03-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： M·S·B·莫利泰尔诺 , P·C·科奇斯珀格
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了用于修改衬底保持器的衬底支撑元件的装置和方法。根据一些实施例，公开了一种装置，所述装置包括：衬底保持器，所述衬底保持器具有从所述衬底保持器的第一侧突出的多个支撑元件；支撑结构，所述支撑结构被配置成从所述衬底保持器的第二侧以横切方式保持所述衬底保持器；以及清洁工具，所述清洁工具具有球形主体。所述装置还包括：处理器，所述处理器将所述衬底保持器的受关注的预定区与所述清洁工具的预定部位对准、操纵所述支撑结构的移动使得所述对准在所述受关注的预定区与所述预定部位之间产生接触、以及启动对所述受关注的预定区的清洁操作。
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公开(公告)号：CN116981995A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202280018670.9
申请日：2022-02-03
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F1/84
Abstract: 一种方法，包括：检测与图案形成装置和/或光刻设备相关联的数据；基于该数据来执行评估测试；基于该评估测试来确定是否继续曝光衬底；当做出不继续的确定时从多个动作中选择动作，并且在图案形成装置和/或光刻设备上执行该动作。
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公开(公告)号：CN116868122A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202280014666.5
申请日：2022-01-21
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F1/62
Abstract: 一种系统，可包括：光源，被配置成照射表膜的表面；扫描器，被配置成扫描表膜的表面；光谱仪，被配置成测量参考信号的拉曼光谱和测试信号的拉曼光谱，参考信号基于来自表膜的表面和/或掩模版的表面的测量结果，测试信号基于所照射的表膜的表面；以及处理器。处理器可配置成确定参考信号的拉曼光谱与测试信号的拉曼光谱之间的差异，以及响应于检测到参考信号的拉曼光谱与测试信号的拉曼光谱的偏差，识别表膜的表面上的污染物的存在。
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公开(公告)号：CN116762041A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202180090790.5
申请日：2021-12-02
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 该系统包括辐射源、衍射元件、光学系统、检测器和处理器。辐射源生成辐射。衍射元件衍射辐射以生成第一射束和第二射束。第一射束包括第一非零衍射级，第二射束包括不同于第一非零衍射级的第二非零衍射级。光学系统从目标结构接收第一散射束和第二散射辐射束，并将第一散射束和第二散射辐射束朝向检测器引导。检测器生成检测信号。处理器分析检测信号以至少基于检测信号来确定目标结构属性。第一射束相对于第二射束被衰减，或者第一散射束相对于第二散射束被有意地衰减。
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公开(公告)号：CN116635795A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202180086361.0
申请日：2021-12-02
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： A·J·A·贝克曼 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , S·鲁 , S·索科洛夫 , F·阿尔佩吉安尼
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种方法，包括：用顺序照射镜头辐照目标结构；将来自所述目标结构的散射束朝向成像检测器引导；使用所述成像检测器来产生检测信号；以及至少基于所述检测信号来确定所述目标结构的性质。顺序照射镜头中的每个照射镜头的积分时间被选择以降低低频误差。
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