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公开(公告)号：CN113646700B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202080027016.5
申请日：2020-03-25
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , J·L·克鲁泽 , 林宇翔 , K·U·索博列夫
IPC: G03F9/00
Abstract: 用于测量衬底上的对准标记的参数的装置和方法，其中光学系统被布置为接收来自对准标记的至少一个衍射阶次并且衍射阶次在光学系统的光瞳、晶片共轭平面处被调制，固态光学设备被布置为接收调制的衍射阶次，并且光谱仪被布置为从固态光学设备接收调制的衍射阶次并确定调制的衍射阶次中的一个或多个光谱分量的强度。
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公开(公告)号：CN113454538A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202080015884.1
申请日：2020-02-06
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种对准方法，包括：引导具有第一偏振态的照射束以形成来自对准目标的、具有第二偏振态的衍射束；和使所述衍射束传递通过偏振分析器。所述对准方法还包括：测量所述衍射束的偏振态；和根据所测量的偏振态，相对于其初始偏振态来确定所述对准目标的部位。所述对准目标包括具有单个间距以及两个或更多个占空比的多个衍射光栅，其中所述间距小于所述照射束的波长，并且所述对准目标的部位对应于所述衍射光栅的占空比。
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公开(公告)号：CN114450638B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202080067850.7
申请日：2020-09-23
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： M·斯维拉姆 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , S·鲁 , 林宇翔 , J·L·克鲁泽
Abstract: 一种系统包括辐射源、第一相控阵列和第二相控阵列以及检测器。第一相控阵列和第二相控阵列包括光学元件、多个端口、波导和相位调制器。光学元件辐射辐射波。波导将辐射从多个端口中的一个端口引导到光学元件。相位调制器调整辐射波的相位。第一相控阵列和第二相控阵列中的一者或两者基于被耦合到辐射源的端口来形成被引导朝向目标结构的第一辐射束和/或第二辐射束。检测器接收由目标结构散射的辐射并且基于接收到的辐射来生成测量信号。
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公开(公告)号：CN114514474B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202080067332.5
申请日：2020-09-14
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： 林宇翔 , J·亚当斯 , T·M·T·A·M·埃拉扎里 , K·肖梅
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/956
Abstract: 一种系统(500)，包括照射系统(502)、透镜元件(506)和检测器(504)。所述照射系统产生辐射束(510)，该辐射束在光瞳平面(528)处具有第一空间强度分布(800)以及在目标(514)的平面处具有第二空间强度分布(900)。所述第一空间强度分布包括环形强度轮廓(802)或与三个或更多个束对应的强度轮廓。所述透镜元件将所述束聚焦到所述目标上。所述第二空间强度分布与所述第一强度分布是共轭的，并且具有与中心束(902)以及与所述中心束基本上隔离的一个或更多个旁瓣(904)对应的强度轮廓。所述中心束在所述目标处具有约20微米或更小的束直径。所述检测器接收由所述目标散射的辐射并且基于所接收的辐射产生测量信号。
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公开(公告)号：CN112020677A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201980028130.7
申请日：2019-04-03
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： S·R·惠斯曼 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , 林宇翔 , V·Q·特兰 , S·A·戈登 , J·L·克鲁泽 , C·J·马松 , I·M·P·阿尔茨 , K·肖梅 , I·策玛
Abstract: 对准传感器装置包括照射系统、第一光学系统、第二光学系统、检测器系统和处理器。照射系统被配置为沿照射路径透射照射光束。第一光学系统被配置为朝向衬底上的衍射目标透射照射光束。第二光学系统包括第一偏振光学器件，该第一偏振光学器件被配置为分离并且透射辐照度分布的。检测器系统被配置为基于从第一偏振分支和第二偏振分支输出的辐照度分布来测量衍射目标的重心。处理器被配置为测量由衍射目标中的不对称性变化引起的衍射目标的重心的偏移，并且基于重心偏移来确定对准传感器装置的传感器响应函数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112020677B
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN201980028130.7
申请日：2019-04-03
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： S·R·惠斯曼 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , 林宇翔 , V·Q·特兰 , S·A·戈登 , J·L·克鲁泽 , C·J·马松 , I·M·P·阿尔茨 , K·肖梅 , I·策玛
Abstract: 对准传感器装置包括照射系统、第一光学系统、第二光学系统、检测器系统和处理器。照射系统被配置为沿照射路径透射照射光束。第一光学系统被配置为朝向衬底上的衍射目标透射照射光束。第二光学系统包括第一偏振光学器件，该第一偏振光学器件被配置为分离并且透射辐照度分布的。检测器系统被配置为基于从第一偏振分支和第二偏振分支输出的辐照度分布来测量衍射目标的重心。处理器被配置为测量由衍射目标中的不对称性变化引起的衍射目标的重心的偏移，并且基于重心偏移来确定对准传感器装置的传感器响应函数。
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公开(公告)号：CN114450638A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202080067850.7
申请日：2020-09-23
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： M·斯维拉姆 , T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , S·鲁 , 林宇翔 , J·L·克鲁泽
Abstract: 一种系统包括辐射源、第一相控阵列和第二相控阵列以及检测器。第一相控阵列和第二相控阵列包括光学元件、多个端口、波导和相位调制器。光学元件辐射辐射波。波导将辐射从多个端口中的一个端口引导到光学元件。相位调制器调整辐射波的相位。第一相控阵列和第二相控阵列中的一者或两者基于被耦合到辐射源的端口来形成被引导朝向目标结构的第一辐射束和/或第二辐射束。检测器接收由目标结构散射的辐射并且基于接收到的辐射来生成测量信号。
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公开(公告)号：CN118859651A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202411265521.X
申请日：2020-03-25
Applicant: ASML控股股份有限公司
Inventor： T·M·T·A·M·埃拉扎雷 , J·L·克鲁泽 , 林宇翔 , K·U·索博列夫
IPC: G03F9/00
Abstract: 用于测量衬底上的对准标记的参数的装置和方法，其中光学系统被布置为接收来自对准标记的至少一个衍射阶次并且衍射阶次在光学系统的光瞳、晶片共轭平面处被调制，固态光学设备被布置为接收调制的衍射阶次，并且光谱仪被布置为从固态光学设备接收调制的衍射阶次并确定调制的衍射阶次中的一个或多个光谱分量的强度。
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公开(公告)号：CN113454538B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202080015884.1
申请日：2020-02-06
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 一种对准方法，包括：引导具有第一偏振态的照射束以形成来自对准目标的、具有第二偏振态的衍射束；和使所述衍射束传递通过偏振分析器。所述对准方法还包括：测量所述衍射束的偏振态；和根据所测量的偏振态，相对于其初始偏振态来确定所述对准目标的部位。所述对准目标包括具有单个间距以及两个或更多个占空比的多个衍射光栅，其中所述间距小于所述照射束的波长，并且所述对准目标的部位对应于所述衍射光栅的占空比。
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公开(公告)号：CN115698866A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180042775.3
申请日：2021-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Abstract: 一种系统，包括照射系统、光学元件、开关元件和检测器。照射系统包括生成辐射束的宽带光源。色散光学元件接收辐射束并且生成带宽比宽带光源窄的多个光束。光学开关接收多个光束并且将多个光束中的每个光束传输到传感器阵列的多个对准传感器中的相应一个对准传感器。检测器接收从传感器阵列返回的辐射并且基于所接收的辐射生成测量信号。
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