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公开(公告)号：CN107003602A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201680003768.1
申请日：2016-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 防护膜组件存在如下的问题：在制造过程中由于各种各样的原因而被尘埃等污染，特别是在修整时、对防护膜组件膜进行各种加工时，尘埃等附着的风险高。对此，本发明提供一种使尘埃等的附着减少的EUV用防护膜组件的制造方法。一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整基板，以及在修整后至少去除基板的一部分。此外，在去除基板的一部分之前，至少去除附着于防护膜组件膜表面的粒子。
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公开(公告)号：CN111919170B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN201980022922.3
申请日：2019-03-27
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/62 , C09J11/06 , C09J123/02 , C09J125/04 , C09J133/04 , C09J153/02
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在进行曝光的温度范围内容易塑性变形，在掩模剥离后基本不存在残胶，操作性良好且不易使防护膜的雾度上升的掩模粘接剂。解决所述课题的掩模粘接剂包含：在频率1Hz的条件下测定的损耗角正切显示最大值的温度为‑20℃～30℃的热塑性弹性体(A)100质量份、增粘树脂(B)20质量份～150质量份及加工油(C)20质量份～150质量份。加工油(C)中，石蜡烃碳的比例(％CP)与环烷烃碳的比例(％CN)的合计为50％以上。掩模粘接剂在频率1Hz的条件下测定的损耗角正切显示最大值的温度为‑10℃～30℃，且硫含量为300μg/g以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113917783B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202111214914.4
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN113917783A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111214914.4
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN107003602B
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN201680003768.1
申请日：2016-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 防护膜组件存在如下的问题：在制造过程中由于各种各样的原因而被尘埃等污染，特别是在修整时、对防护膜组件膜进行各种加工时，尘埃等附着的风险高。对此，本发明提供一种使尘埃等的附着减少的EUV用防护膜组件的制造方法。一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整基板，以及在修整后至少去除基板的一部分。此外，在去除基板的一部分之前，至少去除附着于防护膜组件膜表面的粒子。
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公开(公告)号：CN111919170A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022922.3
申请日：2019-03-27
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/62 , C09J11/06 , C09J123/02 , C09J125/04 , C09J133/04 , C09J153/02
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在进行曝光的温度范围内容易塑性变形，在掩模剥离后基本不存在残胶，操作性良好且不易使防护膜的雾度上升的掩模粘接剂。解决所述课题的掩模粘接剂包含：在频率1Hz的条件下测定的损耗角正切显示最大值的温度为‑20℃～30℃的热塑性弹性体(A)100质量份、增粘树脂(B)20质量份～150质量份及加工油(C)20质量份～150质量份。加工油(C)中，石蜡烃碳的比例(％CP)与环烷烃碳的比例(％CN)的合计为50％以上。掩模粘接剂在频率1Hz的条件下测定的损耗角正切显示最大值的温度为‑10℃～30℃，且硫含量为300μg/g以下。
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公开(公告)号：CN106796391B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201580046926.7
申请日：2015-09-18
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：配置有防护膜的第1框体；支持上述第1框体的第2框体；贯通上述第1框体的贯通孔；以及在上述第1框体的配置有上述防护膜的面侧覆盖上述贯通孔的过滤器。上述贯通孔可以贯通上述防护膜，上述过滤器可以配置在上述防护膜上。此外，上述过滤器可以与上述防护膜相邻地配置在上述第1框体上。
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