公开(公告)号：CN101166622A

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：CN200680014537.7

申请日：2006-04-26

Applicant: 东洋纺织株式会社

Inventor： 藤田伸二 ,  上村彰一 ,  挽正治 ,  中川洋一郎 ,  谷口清士 ,  河原惠造 ,  前田乡司

IPC: B29C71/02 ,  B29C41/24 ,  B29C41/34 ,  B65H23/022 ,  B29L7/00

Abstract: 一种聚合物膜生产的设备及一种用该设备生产聚合物膜的方法，该设备在生产聚合物膜，特别是聚酰亚胺膜中，使用拉幅机型进料设备进行干燥和热处理时，能够抑制在插销咬入的孔的附近的膜的变形以及所述孔断裂以致在宽度方向上形成长孔的问题。聚合物膜生产的设备具有插销拉幅机型加工部分，并且特征在于具有：抑制在用所述插销刺穿膜两端时在所述插销附近的膜的变形的装置。聚合物膜生产的设备可以具有：在通过插销刺穿膜两端进料所述膜时，将所述插销温度冷却至低于180℃的装置；以及聚合物膜生产的设备可以具有这样的装置：其中将排列于所述插销板的最内侧的各个插销以相同的距离全部设置在所述多个插销板的膜进料方向上和其它插销板之间。

公开(公告)号：CN1898308A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200480038951.2

申请日：2004-12-27

Applicant: 东洋纺织株式会社

Inventor： 堤正幸 ,  前田乡司 ,  河原惠造 ,  吉田武史 ,  冈本和丈 ,  森野盛雄 ,  上村彰一 ,  永良哲庸 ,  高桥则子 ,  尾山宽子 ,  仓原俊次 ,  安井润

IPC: C08J5/18 ,  C08G73/22 ,  H05K1/03 ,  C08L29/04

Abstract: 问题：为了提供一种聚酰亚胺薄膜，其适合用作电子元件的基材薄膜，在耐热性、刚性、高频特性方面优异并且还在热变形稳定性方面优异，使得即使当加热时在其上叠加各种功能层时也不会发生由于卷曲导致的故障。解决问题的手段：一种聚酰亚胺薄膜，其根据X射线衍射方法测量的沿面取向系数为0.79－0.89，该薄膜的一个主表面的表面沿面取向度与薄膜另一个主表面的表面沿面取向度之差不超过2，并且其中所述薄膜的卷曲度不超过5％，其是通过将具有特定酰亚胺化率的聚酰亚胺前体薄膜酰亚胺化得到的。