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公开(公告)号：CN101166622B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200680014537.7
申请日：2006-04-26
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B29C71/02 , B29C41/24 , B29C41/34 , B65H23/022 , B29L7/00
Abstract: 一种聚合物膜生产的设备及一种用该设备生产聚合物膜的方法，该设备在生产聚合物膜，特别是聚酰亚胺膜中，使用拉幅机型进料设备进行干燥和热处理时，能够抑制在插销咬入的孔的附近的膜的变形以及所述孔断裂以致在宽度方向上形成长孔的问题。聚合物膜生产的设备具有插销拉幅机型加工部分，并且特征在于具有：抑制在用所述插销刺穿膜两端时在所述插销附近的膜的变形的装置。聚合物膜生产的设备可以具有：在通过插销刺穿膜两端进料所述膜时，将所述插销温度冷却至低于180℃的装置；以及聚合物膜生产的设备可以具有这样的装置：其中将排列于所述插销板的最内侧的各个插销以相同的距离全部设置在所述多个插销板的膜进料方向上和其它插销板之间。
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公开(公告)号：CN101193750B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200580050032.1
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K1/0346 , H05K3/181 , H05K3/388 , H05K2201/0154 , H05K2201/0317 , H05K2201/0326 , H05K2203/065 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 薄膜层压的聚酰亚胺膜包含基底膜和至少在所述基底膜的一个表面上形成的薄膜层。所述基底膜由表现出在300℃热处理后的卷曲度不大于10％的聚酰亚胺膜制成。使用这种薄膜层压的聚酰亚胺膜作为暴露于高温下的电子零件如太阳能电池、电容器等的基底，防止了在生产过程中容易产生翘曲和畸变的问题，并且可以提高电子零件的质量和产量。
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公开(公告)号：CN102256785B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN200980151211.2
申请日：2009-12-16
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B17/10 , B32B7/06 , B32B15/088 , B32B18/00
CPC classification number: B32B17/064 , B32B7/06 , B32B9/005 , B32B9/045 , B32B15/08 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/281 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/304 , B32B2307/306 , B32B2307/538 , B32B2307/54 , B32B2307/546 , B32B2307/714 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2379/08 , B32B2457/08 , H05K1/0346 , H05K3/007 , H05K3/389 , H05K2201/0154 , H05K2203/016
Abstract: 本发明提供能够进行精密的位置确定，制作后的剥离顺利，并且制作过程中不会剥离的用于器件制作的层叠体。一种层叠体，其为玻璃板、硅晶片等无机层，与通过芳香族四羧酸类和芳香族二胺类的反应得到的聚酰亚胺的线膨胀系数在规定的范围内的膜在不介由粘接剂层的情况下层叠而成的层叠体，层叠体的膜与无机层的180度剥离强度在规定范围内。
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公开(公告)号：CN101473080A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200780023398.9
申请日：2007-06-19
Applicant: 东洋纺织株式会社
CPC classification number: D04H3/16 , D01D5/0038 , D01F6/74 , D04H1/42 , D04H1/4334 , D04H1/4382 , D04H1/72 , Y10T442/626
Abstract: 本发明提供一种在暴露于高温环境下的用途中，具有耐热性、机械强度、热尺寸稳定性而且具有非常大的表面积、显示高过滤性能的无纺布。本发明的无纺布是用聚酰亚胺纤维制造的无纺布，该聚酰亚胺是至少从芳香族四羧酸类和具有苯并噁唑结构的芳香族二胺缩聚得到的聚酰亚胺，其纤维直径为0.001～1μm，该聚酰亚胺纤维利用如下所述的工序得到，即：对至少从芳香族四羧酸类和具有苯并噁唑结构的芳香族二胺缩聚得到的聚酰胺酸进行带电纺丝形成聚酰亚胺前体无纺布的工序和对聚酰亚胺前体纤维组进行酰亚胺化处理的工序。
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公开(公告)号：CN101193750A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200580050032.1
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K1/0346 , H05K3/181 , H05K3/388 , H05K2201/0154 , H05K2201/0317 , H05K2201/0326 , H05K2203/065 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 薄膜层压的聚酰亚胺膜包含基底膜和至少在所述基底膜的一个表面上形成的薄膜层。所述基底膜由表现出在300℃热处理后的卷曲度不大于10％的聚酰亚胺膜制成。使用这种薄膜层压的聚酰亚胺膜作为暴露于高温下的电子零件如太阳能电池、电容器等的基底，防止了在生产过程中容易产生翘曲和畸变的问题，并且可以提高电子零件的质量和产量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101193751B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200580050033.6
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K3/4626 , B32B15/08 , H05K3/386 , H05K2201/0154 , H05K2201/0195 , Y10T428/24628 , Y10T428/31678
Abstract: 粘合板包含作为衬底膜以及形成在所述衬底膜的至少一个表面上的粘合层。所述衬底膜由在300℃热处理之后的卷曲度为不大于10％的聚酰亚胺膜制成。本发明的粘合板可以用于暴露于尤其是高温的电子零件等，因为其由高温引起的翘曲和变形得到了抑制，并且能够改善电子零件等的质量和收率。
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公开(公告)号：CN101193751A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200580050033.6
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K3/4626 , B32B15/08 , H05K3/386 , H05K2201/0154 , H05K2201/0195 , Y10T428/24628 , Y10T428/31678
Abstract: 粘合板包含作为衬底膜以及形成在所述衬底膜的至少一个表面上的粘合层。所述衬底膜由在300℃热处理之后的卷曲度为不大于10％的聚酰亚胺膜制成。本发明的粘合板可以用于暴露于尤其是高温的电子零件等，因为其由高温引起的翘曲和变形得到了抑制，并且能够改善电子零件等的质量和收率。
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公开(公告)号：CN101473080B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200780023398.9
申请日：2007-06-19
Applicant: 东洋纺织株式会社
CPC classification number: D04H3/16 , D01D5/0038 , D01F6/74 , D04H1/42 , D04H1/4334 , D04H1/4382 , D04H1/72 , Y10T442/626
Abstract: 本发明提供一种在暴露于高温环境下的用途中，具有耐热性、机械强度、热尺寸稳定性而且具有非常大的表面积、显示高过滤性能的无纺布。本发明的无纺布是用聚酰亚胺纤维制造的无纺布，该聚酰亚胺是至少从芳香族四羧酸类和具有苯并噁唑结构的芳香族二胺缩聚得到的聚酰亚胺，其纤维直径为0.001～1μm，该聚酰亚胺纤维利用如下所述的工序得到，即：对至少从芳香族四羧酸类和具有苯并噁唑结构的芳香族二胺缩聚得到的聚酰胺酸进行带电纺丝形成聚酰亚胺前体无纺布的工序和对聚酰亚胺前体纤维组进行酰亚胺化处理的工序。
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公开(公告)号：CN102256785A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980151211.2
申请日：2009-12-16
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B17/10 , B32B7/06 , B32B15/088 , B32B18/00
CPC classification number: B32B17/064 , B32B7/06 , B32B9/005 , B32B9/045 , B32B15/08 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/281 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/304 , B32B2307/306 , B32B2307/538 , B32B2307/54 , B32B2307/546 , B32B2307/714 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2379/08 , B32B2457/08 , H05K1/0346 , H05K3/007 , H05K3/389 , H05K2201/0154 , H05K2203/016
Abstract: 本发明提供能够进行精密的位置确定，制作后的剥离顺利，并且制作过程中不会剥离的用于器件制作的层叠体。一种层叠体，其为玻璃板、硅晶片等无机层，与通过芳香族四羧酸类和芳香族二胺类的反应得到的聚酰亚胺的线膨胀系数在规定的范围内的膜在不介由粘接剂层的情况下层叠而成的层叠体，层叠体的膜与无机层的180度剥离强度在规定范围内。
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公开(公告)号：CN100549072C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200480038951.2
申请日：2004-12-27
Applicant: 东洋纺织株式会社
Abstract: [问题]为了提供一种聚酰亚胺薄膜，其适合用作电子元件的基材薄膜，在耐热性、刚性、高频特性方面优异并且还在热变形稳定性方面优异，使得即使当加热时在其上叠加各种功能层时也不会发生由于卷曲导致的故障。[解决问题的手段]一种聚酰亚胺薄膜，其根据X射线衍射方法测量的沿面取向系数为0.79-0.89，该薄膜的一个主表面的表面沿面取向度与薄膜另一个主表面的表面沿面取向度之差不超过2，并且其中所述薄膜的卷曲度不超过5%，其是通过将具有特定酰亚胺化率的聚酰亚胺前体薄膜酰亚胺化得到的。
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