公开(公告)号：CN105465679A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510592128.6

申请日：2015-09-17

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 井上隆博

IPC: F21S8/00 ,  F21V7/00 ,  F21V33/00 ,  B41J11/00 ,  B29C67/00

CPC classification number: F21S8/00 ,  B29C67/00 ,  B41J11/002 ,  F21V7/00 ,  F21V33/00

Abstract: 一种光照射装置及光固化材料处理装置，能够防止或抑制光照射到相邻的其他部位，能够实现装置整体的小型化。在假设将沿着铅垂方向延伸的轴设为Z轴的XYZ三维正交坐标系时，光源部由多个发光元件在同一平面上以发光面的中心位于X轴上的方式排列配置而构成，将包含多个发光元件的发光面的中心的XZ平面设为基准面，相对于基准面在Y轴负方向侧的位置，在X轴方向上延伸设置有具有使来自光源部的光指向Y轴正方向、且遮断指向Y轴负方向的光的功能的第一反射部，并且相对于基准面在Y轴正方向侧的位置，在X轴方向上延伸设置有具有对来自光源部的光及来自第一反射部的光进行反射以指向Y轴正方向的功能的第二反射部。