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公开(公告)号：CN105465679B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201510592128.6
申请日：2015-09-17
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 井上隆博
IPC: B41J2/01 , B41J11/00 , B29C64/264 , B29C64/20
Abstract: 一种光照射装置及光固化材料处理装置，能够防止或抑制光照射到相邻的其他部位，能够实现装置整体的小型化。在假设将沿着铅垂方向延伸的轴设为Z轴的XYZ三维正交坐标系时，光源部由多个发光元件在同一平面上以发光面的中心位于X轴上的方式排列配置而构成，将包含多个发光元件的发光面的中心的XZ平面设为基准面，相对于基准面在Y轴负方向侧的位置，在X轴方向上延伸设置有具有使来自光源部的光指向Y轴正方向、且遮断指向Y轴负方向的光的功能的第一反射部，并且相对于基准面在Y轴正方向侧的位置，在X轴方向上延伸设置有具有对来自光源部的光及来自第一反射部的光进行反射以指向Y轴正方向的功能的第二反射部。
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公开(公告)号：CN108351092A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680064470.1
申请日：2016-10-25
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: F21V29/56 , F21V29/503 , F21V29/70 , F21V29/83 , F21Y115/10
CPC classification number: F21V29/503 , F21V29/56 , F21V29/70 , F21V29/83
Abstract: 本发明的目的在于提供能够高效地并且以较高的均匀性将多个发光元件冷却的发光元件光源模块。本发明的发光元件光源模块的特征在于，具备在散热片的表面上配置有多个发光元件的光源单元、以及配设于散热片的背面的冷却块，在散热片形成有用于使冷却介质流通的冷却流路，冷却流路具有流路宽度比流路高度大、且沿散热片的表面延伸的扁平的剖面形状，冷却流路中的冷却介质供给口以及该冷却介质排出口分别与形成于冷却块的冷却介质供给流路以及冷却介质排出流路连接，冷却流路在散热片的表面上的多个发光元件所配置的发光元件配置区域的正下方区域具有相互连续、且隔着热传导性隔壁部邻接的多个流路部分，热传导性隔壁部的厚度比冷却流路的流路宽度小。
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公开(公告)号：CN108351077A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680063572.1
申请日：2016-11-02
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: F21S2/00 , F21V23/00 , H05K1/02 , F21Y115/10
CPC classification number: F21V19/0025 , F21S2/00 , F21V23/00 , F21V29/59 , F21Y2103/10 , F21Y2105/12 , F21Y2115/10 , H05K1/02 , H05K1/0209 , H05K1/0272 , H05K1/0296 , H05K1/142 , H05K2201/064 , H05K2201/10106
Abstract: 光照射装置具有被供给电流而发光的多个发光部。多个发光部分别具有：与电源连接的表示阳极极性的第一供电端子、表示阴极极性的第二供电端子；多个发光元件；以及布线图案，形成为能够将第一供电端子、多个发光元件、及所述第二供电端子以电连接的方式串联连接。布线图案具有：第一布线区域，位于第一供电端子和在电气上与该第一供电端子最近的位置处配置的发光元件之间；以及第二布线区域，位于第二供电端子和在电气上与该第二供电端子最近的位置处配置的发光元件之间。多个发光部中的相邻配置的两个发光部被配置为，第一布线区域彼此的间隔或第二布线区域彼此的间隔比一方的发光部的第一布线区域与另一方的发光部的第二布线区域之间的间隔窄。
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公开(公告)号：CN108351077B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201680063572.1
申请日：2016-11-02
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: F21S2/00 , F21V23/00 , H05K1/02 , F21Y115/10
CPC classification number: F21V19/0025 , F21S2/00 , F21V23/00 , F21V29/59 , F21Y2103/10 , F21Y2105/12 , F21Y2115/10 , H05K1/02 , H05K1/0209 , H05K1/0272 , H05K1/0296 , H05K1/142 , H05K2201/064 , H05K2201/10106
Abstract: 光照射装置具有被供给电流而发光的多个发光部。多个发光部分别具有：与电源连接的表示阳极极性的第一供电端子、表示阴极极性的第二供电端子；多个发光元件；以及布线图案，形成为能够将第一供电端子、多个发光元件、及所述第二供电端子以电连接的方式串联连接。布线图案具有：第一布线区域，位于第一供电端子和在电气上与该第一供电端子最近的位置处配置的发光元件之间；以及第二布线区域，位于第二供电端子和在电气上与该第二供电端子最近的位置处配置的发光元件之间。多个发光部中的相邻配置的两个发光部被配置为，第一布线区域彼此的间隔或第二布线区域彼此的间隔比一方的发光部的第一布线区域与另一方的发光部的第二布线区域之间的间隔窄。
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公开(公告)号：CN119573030A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411106036.8
申请日：2024-08-13
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: F21V29/503 , F21V29/70 , F21V17/12 , F21Y115/10
Abstract: 提供一种将所安装的发光元件更均匀地冷却的光源单元。具备：基板，在第一主面上搭载有多个LED；第一贯通孔，当在与基板的第一主面正交的方向上观察时，中心位于距第一主面的重心为规定的范围内，将基板的第一主面和与第一主面相反侧的第二主面连接；热沉，设在基板的第二主面侧；以及第一固定螺纹件，通过被插通到基板的第一贯通孔中，并被拧入到与第一贯通孔对应而设置的螺孔中，将基板与热沉固定。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115312418A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210120948.5
申请日：2022-02-09
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 井上隆博
Abstract: 本发明提供一种加热用光源装置，抑制了从发光元件照射到被处理基板的光的照射不均。加热用光源装置具备：光源部，具有多个包含多个发光元件的发光元件区域，并且发光元件区域彼此相互分离而配置；冷却单元，与光源部接触而配置；多个冷却流路，形成于冷却单元的内部，并在冷却单元的内部相互独立地配置；第一主流路，与多个冷却流路各自的一端部连结；及第二主流路，与多个冷却流路各自的另一端部连结，多个冷却流路分别形成于与多个发光元件区域对应的冷却单元的内部位置。
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公开(公告)号：CN115938975A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202210520246.6
申请日：2022-05-13
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 提供通过作为加热用光源的LED元件的加热被抑制而可靠性被提高的光加热装置及加热处理方法。具备载置被处理基板的支承构件和包含搭载有LED元件群的LED基板的多个光源单元，LED基板的第一主面和载置于支承构件的被处理基板的第二主面不平行，在将第一主面与第二主面所成的角度设为θ，将搭载于LED基板上的关于第二主面的法线方向位于距第二主面最近处的第一LED元件与被处理基板的分离距离设为D1，将搭载于LED基板上的关于法线方向位于距第二主面最远处的第二LED元件与第一LED元件的分离距离设为D2时，多个光源单元的各自以满足规定的关系式的方式配置。
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公开(公告)号：CN118366893A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410060397.7
申请日：2024-01-15
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种热处理腔室、成膜装置及基板加热方法，降低脱气，提高形成于基板上的膜的质量。对基板进行热处理的热处理腔室，具备：包围基板的腔室壳体；构成腔室壳体的一部分的透光窗；以及LED光源，设置在腔室壳体的外侧，通过透光窗对配置在腔室壳体的内侧的基板照射光来对基板进行加热处理。
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公开(公告)号：CN116504671A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310082285.7
申请日：2023-01-19
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 提供能够更精细地调整被处理基板的主面上的照度分布的光加热装置、加热处理方法。光加热装置通过向被处理基板照射光来进行加热，其中，具备：支承部件，支承被处理基板；以及光源单元，包含在第一主面搭载有LED元件组的多个LED基板；多个LED基板中的至少一个以在被处理基板被支承于支承部件的状态下第一主面与被处理基板的第二主面倾斜的方式配置。
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公开(公告)号：CN115312419A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210124958.6
申请日：2022-02-10
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 井上隆博
Abstract: 一种加热用光源装置、加热用光源模块及光加热系统，能够用于各种尺寸和形状的被处理基板的加热处理，并且抑制了对被处理基板的被照射面的照射不均。加热用光源装置配置有多个加热用光源模块，多个加热用光源模块分别具备：发光元件基板；多个发光元件，搭载于发光元件基板；及冷却构件，与发光元件基板的面中的与搭载有多个发光元件的面相反侧的面接触，冷却构件具备：冷却流路，形成于冷却构件的内部，并流通用于冷却发光元件的冷却介质；流入口，向冷却流路导入冷却介质；及排出口，从冷却流路向冷却构件将冷却介质向外侧排出，冷却流路在从与冷却构件的主面正交的方向观察时，以从发光元件基板的中央部侧逐渐朝向周端部侧的方式呈旋涡形状。
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