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公开(公告)号：CN110036081A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201780072314.4
申请日：2017-11-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够制造异物少的膜等的固化性组合物等中所使用的颜料分散液。并且，提供一种能够制造异物少的膜的固化性组合物、膜、近红外线截止滤波器、固体摄像元件、图像显示装置及红外线传感器。该颜料分散液包含在波长600～1,200nm的范围具有极大吸收波长的近红外线吸收性有机颜料、2种以上的不同结构的颜料衍生物及溶剂。
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公开(公告)号：CN102206559B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201110078415.7
申请日：2011-03-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H01L21/02076 , C11D7/261 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D11/0047 , H01L21/02063 , H01L21/02071
Abstract: 本发明提供不损伤布线结构、层间绝缘结构而能够将半导体基板上的等离子体蚀刻残渣充分除去的洗涤组合物、洗涤方法和使用了上述洗涤组合物的半导体装置的制造方法。提供用于除去在半导体基板上形成的等离子体蚀刻残渣的洗涤组合物、洗涤方法以及包含通过上述洗涤组合物洗涤在半导体基板上形成的等离子体蚀刻残渣的工序的半导体装置的制造方法，所述洗涤组合物的特征在于，含有57～95重量％的(成分a)水、1～40重量％的(成分b)具有仲羟基和/或叔羟基的羟基化合物、(成分c)有机酸、以及(成分d)季铵化合物，pH为5～10。
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公开(公告)号：CN104152297A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201410424866.5
申请日：2011-05-09
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004
Abstract: 本发明提供一种可以抑制半导体基板的金属的腐蚀、且半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的除去性优异的清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法。一种清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法，其特征在于，所述组合物为用于除去形成于半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的清洗组合物，其包括(成分a)水、(成分b)胺化合物、(成分c)羟胺及/或其盐、(成分d)季铵化合物、(成分e)有机酸、以及(成分f)水溶性有机溶剂，且pH为6～9。
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公开(公告)号：CN111095046B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201880058699.3
申请日：2018-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/22 , H01L27/146 , H01L31/02
Abstract: 本发明提供一种能够形成在来自于可见光线的干扰少的状态下可透射红外线的膜的组合物。并且，提供一种膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器。该组合物包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材、红外线吸收剂及固化性化合物，红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料。该组合物的波长400～1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400～1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上。
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公开(公告)号：CN112558413A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011463178.1
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，所述着色剂为黑色颜料，所述含氟原子的肟酯系光聚合引发剂含有选自具有氟原子的烷基、及包含具有氟原子的烷基的基团的至少1种，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107022421B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201610815832.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种清洗组合物，其为除去在半导体用基板上形成的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣用的清洗组合物，其特征在于，包含(成分a)水、(成份b)羟基胺及/或其盐、(成分c)碱性有机化合物和(成分d)有机酸，所述清洗组合物的pH为7～9。还提供使用所述清洗组合物的清洗方法及半导体装置的制造方法。
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公开(公告)号：CN106661340B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201580047352.5
申请日：2015-08-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09B67/20 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08K5/3415 , C08L101/00 , C09B57/00 , G02B5/22 , H01L27/14 , H01L27/144
Abstract: 本发明提供一种含吡咯并吡咯色素的粒子的分散性良好的组合物及其制造方法、硬化性组合物及其应用、照相机模块及化合物。本发明的组合物含有含式(1)所表示的色素的粒子，且粒子的平均二次粒径为500nm以下。R1a及R1b分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，R2及R3分别独立地表示氢原子或取代基，R2及R3也可相互键结而形成环，R4表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、‑BR4AR4B或金属原子，R4也可与选自R1a、R1b及R3中的至少一个形成共价键或配位键，R4A及R4B分别独立地表示氢原子或取代基。
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公开(公告)号：CN107430340A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680017381.1
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/031 , G03F7/038 , H01L31/0232
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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公开(公告)号：CN107075264A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580053145.0
申请日：2015-09-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L101/02 , C08J7/04 , C09B67/08 , C09K3/00
CPC classification number: C09D5/32 , C08K9/10 , C08K2201/003 , C09B23/0075 , C09B23/04 , C09B47/04 , C09B47/0675 , C09B57/00 , C09B57/004 , C09B67/0013 , C09B69/109 , C09D7/68 , C09D133/14 , G02B1/04 , G02B5/208 , H01L27/14625
Abstract: 本发明提供一种近红外吸收色素的分散性高且触变性小的近红外吸收组合物、固化性组合物、固化膜、近红外截止滤光片、固体成像元件、红外传感器、相机模块、加工色素及加工色素的制造方法。本发明的近红外吸收组合物包含使用具有选自色素结构、杂环结构及含非环状杂原子的基团中的1种以上的树脂来涂覆近红外吸收色素而成的加工色素。近红外吸收色素优选选自酞菁色素、苝色素、吡咯并吡咯色素、花青色素、二硫醇金属络合物色素、萘醌色素、二亚胺色素、偶氮色素及方酸色素中的1种以上，更优选为吡咯并吡咯色素。
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