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公开(公告)号：CN110352221B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201880014583.X
申请日：2018-02-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L101/00 , C07F5/02 , C08K5/3445 , C09B67/20 , C09B67/46 , G02B5/22 , H01L27/146 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种组合物，其含有：由式(1)表示的化合物；及选自由固化性化合物及树脂组成组成的组中的至少一种。并且，提供一种使用上述组合物而成的膜、红外线截止滤光片、固体摄像元件、红外线传感器及相机模块。还提供一种由式(1)表示的化合物。R1及R2分别独立地表示由式(2)表示且基团整体的SP值为12.2(cal/cm3)1/2以上的基团。
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公开(公告)号：CN106661340A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580047352.5
申请日：2015-08-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09B67/20 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08K5/3415 , C08L101/00 , C09B57/00 , G02B5/22 , H01L27/14 , H01L27/144
Abstract: 本发明提供一种含吡咯并吡咯色素的粒子的分散性良好的组合物、组合物的制造方法、硬化性组合物、使用硬化性组合物的硬化膜、近红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线传感器及照相机模块。本发明的组合物含有含式(1)所表示的色素的粒子，且粒子的平均二次粒径为500nm以下。R1a及R1b分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，R2及R3分别独立地表示氢原子或取代基，R2及R3也可相互键结而形成环，R4表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、‑BR4AR4B或金属原子，R4也可与选自R1a、R1b及R3中的至少一个形成共价键或配位键，R4A及R4B分别独立地表示氢原子或取代基。
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公开(公告)号：CN102242025A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201110122345.0
申请日：2011-05-09
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004
Abstract: 本发明提供一种可以抑制半导体基板的金属的腐蚀、且半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的除去性优异的清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法。一种清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法，其特征在于，所述组合物为用于除去形成于半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的清洗组合物，其包括(成分a)水、(成分b)胺化合物、(成分c)羟胺及/或其盐、(成分d)季铵化合物、(成分e)有机酸、以及(成分f)水溶性有机溶剂，且pH为6～9。
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公开(公告)号：CN102206559A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201110078415.7
申请日：2011-03-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H01L21/02076 , C11D7/261 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D11/0047 , H01L21/02063 , H01L21/02071
Abstract: 本发明提供不损伤布线结构、层间绝缘结构而能够将半导体基板上的等离子体蚀刻残渣充分除去的洗涤组合物、洗涤方法和使用了上述洗涤组合物的半导体装置的制造方法。提供用于除去在半导体基板上形成的等离子体蚀刻残渣的洗涤组合物、洗涤方法以及包含通过上述洗涤组合物洗涤在半导体基板上形成的等离子体蚀刻残渣的工序的半导体装置的制造方法，所述洗涤组合物的特征在于，含有57～95重量％的(成分a)水、1～40重量％的(成分b)具有仲羟基和/或叔羟基的羟基化合物、(成分c)有机酸、以及(成分d)季铵化合物，pH为5～10。
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公开(公告)号：CN107430340B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201680017381.1
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L31/02 , H01L27/14
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111095046A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880058699.3
申请日：2018-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/22 , H01L27/146 , H01L31/02
Abstract: 本发明提供一种能够形成在来自于可见光线的干扰少的状态下可透射红外线的膜的组合物。并且，提供一种膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器。该组合物包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材、红外线吸收剂及固化性化合物，红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料。该组合物的波长400～1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400～1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上。
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公开(公告)号：CN110352221A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201880014583.X
申请日：2018-02-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L101/00 , C07F5/02 , C08K5/3445 , C09B67/20 , C09B67/46 , G02B5/22 , H01L27/146 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种组合物，其含有：由式(1)表示的化合物；及选自由固化性化合物及树脂组成组成的组中的至少一种。并且，提供一种使用上述组合物而成的膜、红外线截止滤光片、固体摄像元件、红外线传感器及相机模块。还提供一种由式(1)表示的化合物。R1及R2分别独立地表示由式(2)表示且基团整体的SP值为12.2(cal/cm3)1/2以上的基团。
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公开(公告)号：CN104152297B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201410424866.5
申请日：2011-05-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可以抑制半导体基板的金属的腐蚀、且半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的除去性优异的清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法。一种清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法，其特征在于，所述组合物为用于除去形成于半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的清洗组合物，其包括(成分a)水、(成分b)胺化合物、(成分c)羟胺及/或其盐、(成分d)季铵化合物、(成分e)有机酸、以及(成分f)水溶性有机溶剂，且pH为6～9。
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公开(公告)号：CN112558415B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202011463196.X
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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公开(公告)号：CN112558412A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011463176.2
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，所述着色剂含有C.I.颜料绿58，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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