可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置

    公开(公告)号:CN206467285U

    公开(公告)日:2017-09-05

    申请号:CN201621194387.X

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本实用新型描述了可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置。描述了一种用于在基板上沉积材料的可旋转溅射装置。所述可旋转溅射装置包括:具有旋转轴的靶材背衬管;磁体组件,所述磁体组件布置在所述靶材背衬管内;冷却通道,所述冷却通道用于提供冷却流体,所述冷却通道布置在所述靶材背衬管内,所述磁体组件布置在所述旋转轴的方向上,并且相对于所述旋转轴偏移,所述冷却通道布置在所述旋转轴的方向上,并且相对于所述旋转轴偏移;连接凸缘,所述连接凸缘用于将冷却流体提供至所述冷却通道,所述连接凸缘与所述旋转轴同轴地布置;以及交叉元件,所述交叉元件与所述连接凸缘接触,其中所述交叉元件将所述连接凸缘与所述冷却通道连接。

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