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公开(公告)号:CN106029944A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201480075991.8
申请日:2014-02-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor: T·德皮施
CPC classification number: C23C14/5873 , C23C14/24 , C23C14/562 , C23C16/50 , C23C16/56 , H01J37/32082 , H01J2237/3321 , H01J2237/335
Abstract: 根据本公开,提供一种柔性基板涂布装置。所述柔性基板涂布装置包括真空工艺腔室,用以处理柔性基板。所述真空工艺腔室包括一或多个沉积单元以及定位在所述一或多个沉积单元的直接下游的清洁单元。在另一方面中,提供一种用于将薄膜沉积在柔性基板上的方法。所述用于将薄膜沉积在柔性基板上的方法包括:真空涂布所述柔性基板,由此将一或多个层沉积在所述柔性基板上;以及在所述涂布的直接下游清洁所述柔性基板。
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公开(公告)号:CN105637452A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:CN201480056789.0
申请日:2014-10-17
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/562 , C23C14/086 , C23C14/14 , C23C14/3464 , C23C14/35 , C23C14/5873 , G03F9/7042 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , H01J37/3405 , H05K1/028 , H05K1/0393 , H05K3/00 , H05K2201/0108 , H05K2201/0145 , H05K2201/0326 , H05K2201/10128
Abstract: 描述了一种用于制造用于触摸屏面板的透明体的工艺。所述工艺包括以下步骤:在柔性透明基板上方沉积第一透明层堆叠,其中所述第一透明层堆叠包括至少第一电介质膜以及第二电介质膜,所述第一电介质膜具有第一折射率,所述第二电介质膜具有与所述第一折射率不同的第二折射率;在所述第一透明层堆叠上方提供透明导电膜;在所述透明导电膜上方沉积导电材料层;在所述导电材料层上方提供聚合物层;在所述聚合物层上压印图案,尤其是3D图案;基于所述图案来蚀刻所述导电材料层以形成用于所述触摸屏面板的导电路径;以及基于所述图案来蚀刻所述透明导电层以形成用于触摸检测的结构化的透明导电图案。
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公开(公告)号:CN206467285U
公开(公告)日:2017-09-05
申请号:CN201621194387.X
申请日:2016-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型描述了可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置。描述了一种用于在基板上沉积材料的可旋转溅射装置。所述可旋转溅射装置包括:具有旋转轴的靶材背衬管;磁体组件,所述磁体组件布置在所述靶材背衬管内;冷却通道,所述冷却通道用于提供冷却流体,所述冷却通道布置在所述靶材背衬管内,所述磁体组件布置在所述旋转轴的方向上,并且相对于所述旋转轴偏移,所述冷却通道布置在所述旋转轴的方向上,并且相对于所述旋转轴偏移;连接凸缘,所述连接凸缘用于将冷却流体提供至所述冷却通道,所述连接凸缘与所述旋转轴同轴地布置;以及交叉元件,所述交叉元件与所述连接凸缘接触,其中所述交叉元件将所述连接凸缘与所述冷却通道连接。
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公开(公告)号:CN206204411U
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201620800779.X
申请日:2016-07-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor: T·德皮施 , S·海因 , N·莫里森 , R·库克拉 , C·克森 , S·施拉弗 , S·劳伦斯 , D·瓦格纳 , V·迈特 , V·哈克 , U·赫尔曼斯 , B·斯狄克赛尔-维斯 , W·温丹姆斯 , J·乌尔里奇
CPC classification number: C23C14/562 , B08B7/0028 , C23C14/086 , C23C14/10 , C23C14/34 , C23C14/564
Abstract: 描述一种用层堆叠涂布柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含:第一卷筒腔室(110),配置用于容纳存储卷筒,所述存储卷筒用于提供柔性基板;第一沉积腔室(120),布置在第一卷筒腔室下游且包含第一涂布滚筒(122),所述第一涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第一组多个沉积单元(121);第二沉积腔室(140),布置在第一沉积腔室(120)下游且包含第二涂布滚筒(142),所述第二涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第二组多个沉积单元(141);第二卷筒腔室,布置在第二沉积腔室(140)下游且被配置用于容纳缠绕卷筒,所述缠绕卷筒用于在沉积后在此缠绕卷筒上缠绕柔性基板;以及辊组件,配置成将柔性基板(10)沿部分凸形和部分凹形的基板传送路径从第一卷筒腔室传送到第二卷筒腔室。
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