公开(公告)号：CN1372488A

公开(公告)日：2002-10-02

申请号：CN01801169.1

申请日：2001-05-24

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 早坂裕二 ,  跡边仁志 ,  古濑良雄

IPC: B01D53/34 ,  B01D53/86 ,  A62D3/00 ,  B01J23/78

CPC classification number: B01D53/02 ,  B01D53/685 ,  B01D53/8659 ,  B01D2253/102 ,  B01D2253/108 ,  B01D2253/112 ,  B01D2253/304 ,  B01D2253/306 ,  B01D2255/20738 ,  B01D2257/20 ,  B01D2258/0216 ,  B01J21/18 ,  B01J23/78 ,  Y02C20/30

Abstract: 本发明涉及提供一种除去有害气体的试剂和方法,它们对制造半导体器件过程的蚀刻或清洗步骤的废气中包含的含卤素气体具有高的单位体积除去能力,而且价格低廉。本发明特点是使用包括一定量的特定氧化铁、碱土金属化合物和活性炭的除害剂可以除去含卤素气体。当废气中包含如氯的含卤素气体或如二氧化硫的气体时,通过组合使用包括活性炭或沸石的除害剂,可以使这些气体无害。