光学信息的记录方法和记录单元

    公开(公告)号:CN1250210A

    公开(公告)日:2000-04-12

    申请号:CN99121072.7

    申请日:1996-10-04

    Abstract: 标志长度调制记录中,把标志的后端校正脉冲序列加到记录脉冲序列与冷却功率处激光辐射或后端校正脉冲序列间进行偏置功率激光辐射。依标志长度改变辐射起始时间、宽度、后端校正脉冲序列的结构。CAV模式下,依盘片半径改变辐射时间和起始时间。记录脉冲包括起始沿、结束沿脉冲和其间的脉冲时,在记录脉冲序列和冷却功率间进行偏置功率激光辐射。根据结束沿脉冲的延迟量或时钟进行依据标志长度和间隔的辐射起始时间定时的改变。

    光信息记录介质以及用于制造该介质的方法

    公开(公告)号:CN1551165A

    公开(公告)日:2004-12-01

    申请号:CN200410045805.4

    申请日:2004-05-20

    Abstract: 一种光信息记录介质,具有至少两个信息层。设置在前侧(从激光入射侧观察)的第一信息层(100)至少包括:反射层(3);相对于反射层(3)设置在激光入射侧的记录层(6),用于产生通过施加激光束光学地进行检测的、非晶相和晶相之间的可逆变化;以及设置在反射层(3)和记录层(6)之间的介电层(50)。所述介电层50至少包括锆、硅和铬,在反射层侧的介电层(50)的锆、硅和铬的比率可以表达为:锆∶硅∶铬=p∶q∶r(p+q+r=100),在记录层侧的接触面附近的介电层中的锆、硅和铬的比率可以表达为:锆∶硅∶铬=s∶t∶u(s+t+u=100),并且r<u,或t<q。

    光信息记录介质
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1545699A

    公开(公告)日:2004-11-10

    申请号:CN03800795.9

    申请日:2003-04-08

    CPC classification number: G11B7/24038 G11B7/241 G11B7/257 G11B7/268

    Abstract: 在一个单面多层结构的相位变化光盘中初始化第一和第二信息层时,第一和第二信息层的薄膜结构,会在初始化处发生错误。一种光信息记录介质,其中,在至少一个信息层的结晶区域与无定型区域之间的界面处,即在面向一个信息层初始化起始位置的另一个信息层位置的区域内,在预结晶记录层的激光束波长下的反射率小于在上述波长下另一个信息层之其他区域的反射率。

    光学信息的记录方法和记录单元

    公开(公告)号:CN1146869C

    公开(公告)日:2004-04-21

    申请号:CN96191828.4

    申请日:1996-10-04

    Abstract: 迄今为止,当记录光学信息时,产生的问题是标志后端快速冷却因此标志的后端变大且复现跳动不令人满意,而且用于进行多次循环引起的热破坏产生了信号恶化。因此,在标志长度调制记录中,在把标志的后端校正脉冲序列加到记录脉冲序列中的记录脉冲序列与冷却功率处的激光辐射或标志的后端校正脉冲序列之间进行偏置功率的激光辐射。此外,依据记录标志的长度改变冷却功率辐射起始时间、冷却功率辐射宽度和标志的后端校正脉冲序列的结构。此外,在CAV模式下,依据盘片的半径改变冷却功率辐射时间和冷却功率起始时间。此外,在记录脉冲包括起始沿脉冲、结束沿脉冲和位于起始沿和结束沿脉冲之间的脉冲时,在进行冷却功率激光辐射的记录脉冲序列和冷却功率之间进行偏置功率的激光辐射。此外,在记录脉冲序列中,在依据标志的长度和标志之间的间隔改变激光辐射起始时间的情况下,根据结束沿脉冲的延迟量或时钟进行冷却功率处激光辐射起始时间的定时。

    光学信息的记录方法
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1137473C

    公开(公告)日:2004-02-04

    申请号:CN99121072.7

    申请日:1996-10-04

    Abstract: 标志长度调制记录中,把标志的后端校正脉冲序列加到记录脉冲序列与冷却功率处激光辐射或后端校正脉冲序列间进行偏置功率激光辐射。依标志长度改变辐射起始时间、宽度、后端校正脉冲序列的结构。CAV模式下,依盘片半径改变辐射时间和起始时间。记录脉冲包括起始沿、结束沿脉冲和其间的脉冲时,在记录脉冲序列和冷却功率间进行偏置功率激光辐射。根据结束沿脉冲的延迟量或时钟进行依据标志长度和间隔的辐射起始时间定时的改变。

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