公开(公告)号：CN104995722B

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201380057522.9

申请日：2013-10-10

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 床嶋裕人 ,  森田博志

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/02052 ,  C02F1/20 ,  C02F1/78 ,  C02F2103/346

Abstract: 制造出溶存臭氧气体浓度高，而且氧气在使用场所中的气泡化被抑制的臭氧气体溶解水。使用所制造出的臭氧气体溶解水，回避因气泡所引起的洗净不均匀或机器破损的故障而有效率地洗净电子材料。在将臭氧气体及氧气的混合气体和脱气处理水供给至臭氧溶解部使该混合气体溶解于该供水而制造出臭氧气体溶解水时，对供给至臭氧溶解部的混合气体量进行控制，以使在假设混合气体中的臭氧全部分解为氧时的该混合气体中的氧气量和供水中的溶存氧气量的合计，成为所获得的臭氧气体溶解水的使用条件下的氧气的饱和溶解度以下。

公开(公告)号：CN103687820A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201280033875.0

申请日：2012-07-05

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 床嶋裕人 ,  井田纯一

IPC: C02F1/78

CPC classification number: C02F1/78

Abstract: 本发明提供一种能够不产生使臭氧浓度降低的情况地将臭氧水供给至使用位置的臭氧水供给装置以及臭氧水供给方法。臭氧水供给装置（10），其具备：生成臭氧水的臭氧水生成装置（1）、形成有使来自臭氧水生成装置（1）的臭氧水分流的分支点（12、13、14）的主管（11）、联络分支点和使用位置的分支管（15、16、17）、以及防止在主管和分支管中流动的臭氧水的流速的降低的流速维持装置。主管（11）的流路剖面积，与分支点（12、13、14）的上游侧相比，在下游侧减少。主管（11）的流路剖面积的减少量，对应于在分支点被分流至分支管的臭氧水的流量。

公开(公告)号：CN102844845A

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN201180013890.4

申请日：2011-03-02

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 山川晴义 ,  床嶋裕人

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027

CPC classification number: B08B3/04 ,  G03F7/423 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67051

Abstract: 一种电子材料清洗系统具备试剂清洗设备(1)、湿式清洗设备(2)和单片式清洗装置(3)。试剂清洗设备(1)具有功能性试剂蓄存槽(6)和介由浓硫酸电解管道(7)与该功能性试剂蓄存槽(6)连接的电解反应装置(8)。该功能性试剂蓄存槽(6)介由功能性试剂供给管道(10)可将功能性试剂(W1)供给于单片式清洗装置(3)。湿式清洗设备(2)具备纯水的供给管道(21)、与氮气源连通的氮气供给管道(22)、以及这些纯水供给管道(21)和氮气供给管道(22)分别连接于其上的内部混合型二流体喷嘴(23)。从二流体喷嘴(23)的前端可喷射由氮气和超纯水形成的液滴(W2)。根据所述电子材料清洗系统，可以缩短电子材料的抗蚀剂的剥离处理所需的时间，进而通过抗蚀剂剥离后的湿式清洗，可以在短时间内确实地除去抗蚀剂残渣。

公开(公告)号：CN102348496A

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN201080011488.8

申请日：2010-03-29

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 床嶋裕人 ,  濑尾启太

IPC: B01F1/00 ,  B01F5/06 ,  B08B3/08 ,  H01L21/304

CPC classification number: B08B3/08 ,  B01F3/04269 ,  B01F15/0022 ,  B01F15/00344 ,  B01F2003/04404 ,  B01F2215/0096 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/8158 ,  Y10T137/86083

Abstract: 本发明提供一种气体溶解水供给装置及气体溶解水的制造方法，能稳定供给溶解气体浓度为低浓度(低饱和度)的气体溶解水。从气体供给配管(31)将氧气体供给到气相室(13)内，并且使真空泵(35)动作，将气相室(13)内真空排气。另外，从原水配管(21)将原水供给到液相室(12)内。气相室(13)内的氧的一部分系透过气体透过膜(11)，溶解于液相室(12)内的原水，而制造出气体溶解水。气相室(13)内的氧的剩余部分与凝结水一起被真空泵(35)吸引，从排气配管(33)排出。通过溶解气体浓度计(23)测量气体溶解水的溶解氧浓度，调节气体流量控制阀(32)的打开度，以使该测量浓度达到目标值。

公开(公告)号：CN102129957A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201010609161.2

申请日：2010-12-23

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 床嶋裕人 ,  森田博志

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02

CPC classification number: H01L21/0206 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明通过由气体溶解水进行的高压喷射清洗或二流体清洗得到高清洗效果，从而提供一种低成本且节省资源的清洗方法。本发明的清洗方法，是从清洗流体喷嘴向被清洗物喷出清洗液或清洗液与气体的混合流体，从而清洗该被清洗物的高压喷射清洗或二流体清洗方法，其特征在于，导入该清洗流体喷嘴的清洗液，含有在该清洗液的液温下的饱和溶解度以上的溶解气体。