公开(公告)号：CN108172529B

公开(公告)日：2021-10-26

申请号：CN201711237826.X

申请日：2017-11-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 藤田和宏 ,  三浦淳靖 ,  辻川裕贵 ,  土桥裕也 ,  泷昭彦

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供能抑制或防止基板间的蚀刻处理的偏差的基板处理方法和装置。基板处理方法对多张基板依次实施共同的共同蚀刻处理，共同蚀刻处理具有：蚀刻工序，通过向共同配管供给第一液温的蚀刻液，并从喷嘴喷出蚀刻液，对基板进行蚀刻；高温液体喷出工序，在蚀刻工序之后向共同配管供给具有高于第一液温的液温的高温液体，并从喷嘴喷出高温液体，基板处理方法还包括配管升温工序，在配管升温工序中，在对上述多张基板进行的多个上述共同蚀刻处理中的最初的共同蚀刻处理之前，使共同配管的管壁升温至高于第一液温的规定的第二液温，在各共同蚀刻处理中，在各高温液体喷出工序之后且下一次的各蚀刻工序之前不进行使共同配管的管壁降温的工序。

公开(公告)号：CN107104074B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201710080441.0

申请日：2017-02-15

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充 ,  泷昭彦 ,  岩田智巳 ,  江户彻 ,  山田邦夫

IPC: H01L21/687

Abstract: 一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。

公开(公告)号：CN106952858A

公开(公告)日：2017-07-14

申请号：CN201610864314.5

申请日：2016-09-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充 ,  泷昭彦

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的基板保持旋转装置包括：施力单元，将各可动销的所述支撑部置于所述保持位置，驱动用磁石，与各可动销对应地安装，开放磁石，以非旋转状态设置，并形成磁场产生区域，所述磁场产生区域是随着所述旋转台的旋转而旋转的各可动销所能够通过的规定的磁场产生区域，并被设置为沿着所述旋转台的旋转方向错开且仅使与多个可动销中的一部分可动销对应的驱动用磁石能够通过，并且所述开放磁石向通过该磁场产生区域的所述可动销的驱动用磁石赋予斥力或引力，在由所述施力单元按压至所述保持位置的该可动销的所述支撑部产生反抗该按压力而指向所述开放位置的力。