公开(公告)号：CN119895553A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202380065812.1

申请日：2023-08-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，抑制装置的尺寸，并且使所配置的单片式腔室的数量增加，从而改善处理量。根据本发明，由于能将单片式腔室在铅垂方向上层叠，因此，能提供即使地面面积与以往的装置相同也能搭载更多的单片式腔室的基板处理装置。而且，若构成为独立地设置用于将基板W搬入至单片式腔室(干燥腔室37)的机构以及用于从干燥腔室37搬出基板W的机构，则能构成为干燥腔室37的周边的基板搬运变得顺畅。根据本发明，能提供小型且处理量高的基板处理装置1。

公开(公告)号：CN112542416A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823737.9

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有第一处理单元(7A)和第二处理单元(7B)。第一处理单元(7A)具有第一基板保持部(91A)和第一旋转驱动部(92A)。第一基板保持部91A具有第一板(101)、固定销(103)以及气体吹出口(104)。第二处理单元(7B)具有第二板(131)和端缘接触销(133)。基板处理装置(1)具有搬运机构(8)和控制部(9)。搬运机构(8)向处理单元(7)搬运基板(W)。控制部(9)根据基板(W)的形状将处理基板(W)的处理单元(7)确定为第一处理单元(7A)以及第二处理单元(7B)中的某一个，并通过搬运机构(8)向确定的处理单元(7)搬运基板(W)。

公开(公告)号：CN112542411A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010824054.5

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有容纳架载置部(3)、搬运机构(4)、控制部(9)。容纳架载置部载置容纳架(C)。容纳架具有在上下方向(Z)上排列的多个搁板(22)。搁板分别以水平姿势载置一张基板(W)。搬运机构向载置于容纳架载置部的容纳架(C)搬运基板。控制部(9)控制搬运机构(4)。搬运机构(4)具有手部(33)和手部驱动部(34)。手部支撑基板。手部驱动部(34)使手部(33)移动。控制部(9)根据搬运机构从搁板取下的基板或搬运机构(4)放置于搁板的基板的形状，改变向沿上下方向(Z)相邻的两个搁板(22)之间插入手部(33)时的手部的高度位置(HA)。

公开(公告)号：CN107104074B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201710080441.0

申请日：2017-02-15

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充 ,  泷昭彦 ,  岩田智巳 ,  江户彻 ,  山田邦夫

IPC: H01L21/687

Abstract: 一种包括旋转台和基板旋转保持装置的基板处理装置和基板处理方法。基板旋转保持装置设置成与旋转台一同绕沿铅垂方向的旋转轴线旋转且包括将基板水平地支撑的多个支撑销，支撑销包括具有支撑部的可动销，支撑部设置为可在与基板周缘部抵接的抵接位置与比抵接位置远离旋转轴线的开放位置间移动；基板处理装置还包括驱动用磁铁，其与可动销对应设置且在旋转台的径向上具有规定的磁极方向；按压用磁铁，具有在其与驱动用磁铁之间提供磁吸引力或磁排斥力的磁极，该磁吸引力或者该磁排斥力使支撑部推向抵接位置而使支撑部按压于基板的周缘部；按压力变动单元，其随着旋转台的旋转，将支撑部按压基板的周缘部的按压力大小保持为大于零的同时使大小变动。

公开(公告)号：CN106952858A

公开(公告)日：2017-07-14

申请号：CN201610864314.5

申请日：2016-09-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充 ,  泷昭彦

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的基板保持旋转装置包括：施力单元，将各可动销的所述支撑部置于所述保持位置，驱动用磁石，与各可动销对应地安装，开放磁石，以非旋转状态设置，并形成磁场产生区域，所述磁场产生区域是随着所述旋转台的旋转而旋转的各可动销所能够通过的规定的磁场产生区域，并被设置为沿着所述旋转台的旋转方向错开且仅使与多个可动销中的一部分可动销对应的驱动用磁石能够通过，并且所述开放磁石向通过该磁场产生区域的所述可动销的驱动用磁石赋予斥力或引力，在由所述施力单元按压至所述保持位置的该可动销的所述支撑部产生反抗该按压力而指向所述开放位置的力。

公开(公告)号：CN112542417B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202010823740.0

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。吸引部(68)安装于基座部(65)。吸引部使气体沿基板(W)的上表面(16)流动，以不与基板接触的方式将基板向上方吸引。第一接受部以及第二接受部被基座部支撑。第一接受部以及第二接受部配置在被吸引部吸引的基板的下方。第一接受部以及第二接受部能够接受基板的下表面。接受部驱动部使第二接受部相对于基座部移动。接受部驱动部使第二接受部接近第一接受部，并且使第二接受部与第一接受部远离。

公开(公告)号：CN116805606A

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN202310293124.2

申请日：2023-03-23

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 中泽和彦 ,  森冈利仁 ,  蒲裕充 ,  太田乔

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 衬底处理装置中，对衬底(9)的下表面(92)与基座部(21)的基座面(210)之间送出气体，形成朝向径向外侧的气流(93)，通过伯努利效应，在衬底(9)与基座部(21)之间的空间产生压力下降。基座面(210)的第2面(212)随着朝向径向外侧而朝向上方。第3面(213)随着从第2面(212)的外周缘朝向径向外侧而朝向下方。第4面(214)是与第3面(213)的下端缘连续的圆环状的面。第4面(214)在比衬底(9)的外周缘更靠径向外侧向径向外侧扩展。由此，能抑制处理液附着到衬底(9)的下表面(92)，且提高衬底(9)的保持的稳定性。

公开(公告)号：CN112542417A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN202010823740.0

申请日：2020-08-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  中泽和彦 ,  蒲裕充 ,  森冈利仁 ,  佐藤卓也 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。吸引部(68)安装于基座部(65)。吸引部使气体沿基板(W)的上表面(16)流动，以不与基板接触的方式将基板向上方吸引。第一接受部以及第二接受部被基座部支撑。第一接受部以及第二接受部配置在被吸引部吸引的基板的下方。第一接受部以及第二接受部能够接受基板的下表面。接受部驱动部使第二接受部相对于基座部移动。接受部驱动部使第二接受部接近第一接受部，并且使第二接受部与第一接受部远离。

公开(公告)号：CN107017180B

公开(公告)日：2021-02-23

申请号：CN201610865262.3

申请日：2016-09-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充 ,  泷昭彦

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 基板保持旋转装置包括将各可动销的支撑部施力至开放位置和保持位置中的一位置的施力单元，与各第一可动销组对应安装且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向磁极方向相同的第一驱动用磁铁、与各第二可动销组对应安装且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向与第一驱动用磁铁的磁极方向相反的第二驱动用磁铁、设置为非旋转状态且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向具有与第一驱动用磁铁之间赋予斥力或引力的磁极方向，由斥力或引力将第一可动销组的支撑部施力至另一位置的第一移动磁铁、设置为非旋转状态且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向具有在与第二驱动用磁铁之间赋予斥力或引力的磁极方向，由斥力或引力将第二可动销组的支撑部施力至另一位置的第二移动磁铁。

公开(公告)号：CN107017180A

公开(公告)日：2017-08-04

申请号：CN201610865262.3

申请日：2016-09-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 蒲裕充 ,  泷昭彦

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 基板保持旋转装置包括将各可动销的支撑部施力至开放位置和保持位置中的一位置的施力单元，与各第一可动销组对应安装且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向磁极方向相同的第一驱动用磁铁、与各第二可动销组对应安装且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向与第一驱动用磁铁的磁极方向相反的第二驱动用磁铁、设置为非旋转状态且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向具有与第一驱动用磁铁之间赋予斥力或引力的磁极方向，由斥力或引力将第一可动销组的支撑部施力至另一位置的第一移动磁铁、设置为非旋转状态且在与沿旋转轴线的轴线正交的方向具有在与第二驱动用磁铁之间赋予斥力或引力的磁极方向，由斥力或引力将第二可动销组的支撑部施力至另一位置的第二移动磁铁。