-
公开(公告)号:CN100406612C
公开(公告)日:2008-07-30
申请号:CN200410069717.8
申请日:2004-07-09
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中,在靶29a、29b和基板S之间设有膜厚修正板35和遮蔽板36。在与靶29a、29b和基板夹具13之间的领域不同的领域,面向基板13的领域(60)设有产生等离子体的等离子体发生装置80。膜厚修正板35中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片35a1、35b1等构成第1修正板35a和第2修正板35b。修正小片(35a1等)和修正小片(35b1等)沿所述基板S公转的轨迹在所述靶29a、29b上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片(35a1和35b1等)沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置(71a、71b等)。
-
公开(公告)号:CN1670238A
公开(公告)日:2005-09-21
申请号:CN200410069717.8
申请日:2004-07-09
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中,在靶29a、29b和基板S之间设有膜厚修正板35和遮蔽板36。在与靶29a、29b和基板夹具13之间的领域不同的领域,面向基板13的领域(60)设有产生等离子体的等离子体发生装置80。膜厚修正板35中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片35a1、35b1等构成第1修正板35a和第2修正板35b。修正小片(35a1等)和修正小片(35b1等)沿所述基板S公转的轨迹在所述靶29a、29b上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片(35a1和35b1等)沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置(71a、71b等)。
-