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公开(公告)号：CN119654451A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202380046769.4
申请日：2023-10-02
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 为了在具有LiNbO3单晶或LiTaO3单晶的表面的基板(2)的上述表面形成同质外延薄膜，通过高频溅射法使与上述单晶相同的组合物沉积在具有LiNbO3单晶或LiTaO3单晶的表面的基板的上述表面。制造装置(1)具有腔室(11)和向配置于上述腔室的内部的靶材(121)供给高频电力的高频电源，溅射电极(12)配置为上述靶材的面法线(PL1)相对于位于成膜位置的基板偏移配置且上述靶材的面法线(PL1)相对于上述基板的面法线(PL2)倾斜15°～75°。
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公开(公告)号：CN119343475A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380028002.9
申请日：2023-05-18
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/24
Abstract: 为了相对于炉床内衬的收纳体积供给适当的量的材料，成膜装置具有：成膜腔室(2)，其至少设置有成膜材料(M)和被成膜物(S)，并且该成膜腔室(2)能够设定为规定的成膜气氛；炉床内衬(23)，其设置于所述成膜腔室的内部，并收纳所述成膜材料；加热源(24)，其设置于所述成膜腔室的内部，并对收纳于所述炉床内衬的成膜材料进行加热；材料供给器(3)，其向所述炉床内衬供给所述成膜材料；以及高度测定器(4)，其测定收纳于所述炉床内衬的成膜材料的溶融面的高度；以及控制器(6)，其根据由所述高度测定器测定出的溶融面的高度来运算应供给的成膜材料的质量，并对所述材料供给器进行控制以将该运算出的质量的成膜材料供给至所述炉床内衬。
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公开(公告)号：CN114402090A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064516.6
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104797826A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380060293.6
申请日：2013-03-14
Applicant: 株式会社新柯隆
Inventor： 税所慎一郎
IPC: F04F9/00
CPC classification number: F23D91/04 , F04F5/20 , F04F5/40 , F04F9/00 , F24H2250/08 , H05B6/108 , F04B37/02 , F04B37/06 , F04B37/14
Abstract: 提供一种油扩散泵，其具有能够解决使用加热线作为工作油加热源时的问题的油蒸气产生器。该油扩散泵为真空泵，在壳体(51)内配置有油蒸气产生器(70)，使该油蒸气产生器(70)工作以使工作油(8)气化而成为油蒸气，将该油蒸气从喷射器(53、53a)喷射出去，并对吸入的气体进行排气动作。油蒸气产生器(70)具有：容器(71、72)，其在立起设置方向上延伸，且使由被加热材料构成的筒部件(71)的下端封闭，用于在内部贮油；感应线圈(75)，其隔着绝缘材料(73)缠绕于筒部件(71)(尤其是外壳内壁71b)的大气侧周围；以及供电单元，其对感应线圈(75)施加数10Hz至数100Hz的低频交流电。而且，构成为，通过使供电单元工作并对线圈(75)施加低频交流电，由此使筒部件(71)自身加热，使容器内的油气化。
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公开(公告)号：CN102439195A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201080002384.0
申请日：2010-04-27
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: G02B5/0858 , C23C14/32 , C23C14/505 , C23C14/54 , C23C14/541 , H01L33/46 , H01L2933/0025
Abstract: 本发明提供一种缩短制造时间并且制造高性能的半导体发光元件基板的制造方法。该半导体发光元件基板的制造方法的特征在于，具有以下工序：加热基板的基板加热工序(S3)；清洗基板(S)的基板清洗工序(S6)；在基板(S)上蒸镀电介质层(H、L)的电介质层形成工序(S7)；停止对基板的加热的基板加热停止工序(S8)；利用冷却单元(11、12、13)吸收辐射热来冷却基板(S)以及基板保持单元(3)的冷却工序(S9)；和在电介质层(H、L)上蒸镀反射层(R)的反射层形成工序(S11)。
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公开(公告)号：CN101861408B
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980100991.8
申请日：2009-08-17
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/22
CPC classification number: C23C14/22 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/221 , C23C14/225 , H01J2237/0041 , H01J2237/3132
Abstract: 本发明提供一种能够制造具有良好的光学特性的光学薄膜的光学薄膜沉积装置，以及制造成本低廉而且具有良好的光学特性的光学薄膜的制造方法。在真空容器(10)内向基体(14)沉积沉积物质的光学薄膜沉积装置具有：圆顶形的基体保持单元(12)，其设置在真空容器(10)内，用于保持基体(14)；旋转单元，其使基体保持单元(12)旋转；沉积单元(34)，其与基体(14)相对设置；离子源(38)，其向基体(14)照射离子；以及中和器(40)，其向基体(14)照射电子。离子源(38)被设置在下述位置，即，所述位置是使从离子源(38)照射离子的轴线、与相对于基体(14)的表面的垂线之间的角度为8°以上40°以下，并使基体保持单元的旋转轴中心和离子源(38)的中心之间的垂直方向的距离、与基体保持单元(12)的直径之比为0.5以上1.2以下的范围。
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公开(公告)号：CN102076880A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980124622.2
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/0031 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B5/285
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，真空容器(10)具备与真空容器(10)电气悬浮的内壁(30)，中和器(40)配设在真空容器(10)的内侧侧面侧并离开离子枪(38)。
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公开(公告)号：CN1795286A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200480014269.X
申请日：2004-06-02
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/5846 , C23C14/0078 , C23C14/568
Abstract: 本发明的薄膜形成方法具有光学特性调节工序，在控制用于保持基板的基板座(13)的运送速度的同时，在进行中间薄膜形成工序的区域和进行薄膜成分变换工序的区域之间反复运送上述基板座(13)，调节最终形成的薄膜的膜成分，形成具有产生迟滞现象的区域内的光学特性值的薄膜。
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